本申請涉及一種真空設備的旋轉工件臺的控制方法、裝置及真空設備；所述方法包括：獲取真空腔體內部的各種部件的第一位置參數，并根據所述第一位置參數確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍；根據當前的應用工藝確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置；根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍；根據所述目標位置及旋轉工件臺的起始位置的第二位置參數計算所述旋轉工件臺的運動位移量；根據所述運動位移量控制所述旋轉工件臺移動至所述目標位置，并控制所述旋轉工件臺以所述目標角度范圍進行擺動；該技術方案，可以最大限度利用了真空腔體的內部空間，降低應用工藝的限制，提升應用工藝效果。
1、在使用真空設備使用過程，通常會將工件安裝到旋轉工件臺上，然后旋轉工件臺可以安裝在運動平臺上進行移動到一定位置上進行相應的應用工藝，如刻蝕工藝、鍍膜工藝等。以真空刻蝕工藝為例；在利用真空設備進行刻蝕工藝時，將待刻蝕工件放在旋轉工件臺上，然后用離子源輸出離子束轟擊待刻蝕工件實現刻蝕工藝，旋轉工件臺在刻蝕過程中會進行一定角度擺動以實現均勻工藝效果，然而由于真空腔體的內部空間有限，旋轉工件臺在腔體內擺動時會碰到其他部件導致撞壞。
2、常規的真空設備，通常會限制旋轉工件臺擺動的偏轉角度，以此避免碰到真空腔體內的部件，但是由于不同應用工藝中旋轉工件臺位置不同，在大多數情況下，由于擺動時偏轉角度被限制，使得偏轉角度無法達到最佳值，使得應用工藝受限嚴重，嚴重影響了工藝效果，甚至導致有些工藝無法正常進行。
>6、根據所述目標位置及旋轉工件臺的起始位置的第二位置參數計算所述旋轉工件臺的運動位移量；7、根據所述運動位移量控制所述旋轉工件臺移動至所述目標位置，并控制所述旋轉工件臺以所述目標角度范圍進行擺動。
8、在一個實施例中，根據所述第一位置參數確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍，包括：
9、獲取真空腔體內部的第一坐標空間范圍；
10、根據所述第一位置參數獲取當前真空腔體內部安裝的各種部件的第二空間坐標范圍；
11、獲取所述旋轉工件臺相對于運動平臺擺動時可覆蓋的第三空間坐標范圍；
12、根據所述第一坐標空間范圍、第二坐標空間范圍和第三坐標空間范圍的交集得到所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍。
13、在一個實施例中，根據當前的應用工藝確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置，包括：
14、根據當前的應用工藝獲取所述旋轉工件臺在真空腔體內可到達的各個位置點；
15、根據所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺在各個位置點擺動時對應的最大角度范圍，將最大角度范圍最大的位置點設為目標位置。
16、在一個實施例中，所述根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
17、獲取所述旋轉工件臺在真空腔體內往返運動的位置點范圍；
18、在所述位置點范圍內選定若干個位置點形成位置點集合；
19、根據所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺在各個位置點上對應擺動的最大角度范圍；
20、從所述位置點的最大角度范圍中獲取往返運動的目標角度范圍。
21、在一個實施例中，從所述位置點的最大角度范圍中獲取往返運動的目標角度范圍，包括：
22、從所述位置點集合中選擇若干個位置點作為目標點，并對應記錄所述目標點對應的最大角度范圍；
23、在控制旋轉工件臺在真空腔體內往返運動過程中，當旋轉工件臺經過所述目標點位置時，控制所述旋轉工件臺以目標點對應的最大角度范圍進行擺動。
24、在一個實施例中，所述根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
25、獲取所述旋轉工件臺的擺動中心點在所述目標位置處的目標坐標；
26、根據所述目標坐標、旋轉工件臺擺動的偏轉角閾值及旋轉工件臺的半徑計算所述旋轉工件臺擺動時對應覆蓋的最大坐標范圍；
27、根據所述最大運動范圍與最大坐標范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍。
28、在一個實施例中，所述根據所述最大運動范圍與最大坐標范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
29、獲取所述最大運動范圍與最大坐標范圍出現相交點時旋轉工件臺邊緣的端點坐標；
30、根據所述目標坐標和端點坐標計算所述旋轉工件臺擺動的截止偏轉角；
31、根據所述截止偏轉角確定旋轉工件臺擺動的目標角度范圍。
32、在一個實施例中，所述根據所述目標坐標和端點坐標計算所述旋轉工件臺擺動的截止偏轉角，包括：
33、
34、其中，表示截止偏轉角，為端點坐標在旋轉工件臺的擺動中心點所在平面上的投影距離，r為旋轉工件臺的半徑。
35、在一個實施例中，根據所述運動位移量控制所述旋轉工件臺移動至所述目標位置，并控制所述旋轉工件臺以所述目標角度范圍進行擺動，包括：
36、根據所述運動位移量獲取所述x軸電機的第一控制參數，y軸電機的第二控制參數以及z軸電機的第三控制參數；根據所述目標角度范圍獲取偏轉電機的第四控制參數；
37、根據所述第一控制參數、第二控制參數以及第二控制參數控制所述旋轉工件臺移動至所述目標位置；
38、在刻蝕過程中根據所述第四控制參數控制所述旋轉工件臺進行擺動。
39、一種真空設備的旋轉工件臺的控制裝置，包括：
40、運動范圍確定模塊，用于獲取真空腔體內部的各種部件的第一位置參數，并根據所述第一位置參數確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍；
41、目標位置確定模塊，用于根據當前的應用工藝確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置；
42、目標角度范圍計算模塊，用于根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍；
43、運動位移量計算模塊，用于根據所述目標位置及旋轉工件臺的起始位置的第二位置參數計算所述旋轉工件臺的運動位移量；
44、運動和擺動控制模塊，用于根據所述運動位移量控制所述旋轉工件臺移動至所述目標位置，并控制所述旋轉工件臺以所述目標角度范圍進行擺動。
45、一種真空設備，包括：真空腔體，離子源，旋轉工件臺以及運動平臺；其中，所述離子源、運動平臺及旋轉工件臺分別連接至工控機；
46、所述離子源用于輸出離子束；
47、所述運動平臺用于移動旋轉工件臺；
48、所述工控機配置為執行所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法的步驟。
49、上述真空設備的旋轉工件臺的控制方法、裝置及真空設備，通過獲取在真空腔體內部件的位置參數確定旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍，根據當前的應用工藝確定旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置，根據目標位置及最大運動范圍計算目標角度范圍以及根據目標位本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，根據所述第一位置參數確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍，包括：
3.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，根據當前的應用工藝確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置，包括：
4.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，所述根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
5.根據權利要求4所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，從所述位置點的最大角度范圍中獲取往返運動的目標角度范圍，包括：
6.根據權利要求1-5任一項所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，所述根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
7.根據權利要求6所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，所述根據所述最大運動范圍與最大坐標范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
8.根據權利要求7所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，所述根據所述目標坐標和端點坐標計算所述旋轉工件臺擺動的截止偏轉角，包括：
9.一種真空設備的旋轉工件臺的控制裝置，其特征在于，包括：
10.一種真空設備，其特征在于，包括：真空腔體，離子源，旋轉工件臺以及運動平臺；其中，所述離子源、運動平臺及旋轉工件臺分別連接至工控機；
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【技術特征摘要】
1.一種真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，根據所述第一位置參數確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的最大運動范圍，包括：
3.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，根據當前的應用工藝確定所述旋轉工件臺在真空腔體內的目標位置，包括：
4.根據權利要求1所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，所述根據所述目標位置及所述最大運動范圍計算所述旋轉工件臺擺動的目標角度范圍，包括：
5.根據權利要求4所述的真空設備的旋轉工件臺的控制方法，其特征在于，從所述位置點的最大角度范圍中獲取往返運動的目標角度范圍，包括：
6.根據權...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉偉基，劉運鴻，冀鳴，
申請(專利權)人：佛山市博頓光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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