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    一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原水中全氟和多氟烷基物質(zhì)的方法技術(shù)

    技術(shù)編號:44499646 閱讀:5 留言:0更新日期:2025-03-04 18:08
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種吸附富集?脫附解析?水合電子還原水中全氟和多氟烷基物質(zhì)的方法,其包括:利用摻雜氟的共價三嗪多孔材料吸附水中的PFAS;采用含飽和KI溶液的混合溶劑體系脫附上述步驟中的吸附PFAS的摻氟CTF材料,將脫附后的高濃度PFAS溶液轉(zhuǎn)移至石英反應(yīng)器中,加入Na<subgt;2</subgt;SO<subgt;3</subgt;,經(jīng)紫外光照射產(chǎn)水合電子進(jìn)行還原脫氟。利用該連用技術(shù),可有效富集廢水/環(huán)境水體中低濃度的PFAS,對于單一污染物溶液,脫附后溶液后續(xù)可以回收利用,對于混合污染物,可利用水合電子還原脫附液中的PFAS,并促進(jìn)后續(xù)的生物處理過程。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種水體中低濃度全氟和多氟烷基物質(zhì)的吸附和還原脫氟方法,屬于有機(jī)污染物處理。


    技術(shù)介紹

    1、采用創(chuàng)新且低成本的方法來去除和降解水中的全氟和多氟烷基物質(zhì)(pfas)已成為當(dāng)前研究熱點。高級氧化過程(aop)已被廣泛研究用于pfas降解,然而強c-f鍵(536kj/mol)阻礙了pfas分子的自由基氧化,特別是對pfas呈惰性的羥基自由基(·oh)。現(xiàn)已開發(fā)出各種光催化劑來促進(jìn)pfas的氧化破壞,例如tio2、in2o3、gd2o3和sic/石墨烯,但這些光催化劑通常用于處理散裝水,由于處理量大,散裝水通常會消耗過量的能量。研究表明,現(xiàn)有的去除或分離環(huán)境樣品中pfas的技術(shù)中,吸附是最簡便、快速、有效的措施,尤其是對于低濃度pfas水體。目前已有多種吸附劑如ctab膠束包裹的sio2、交聯(lián)殼聚糖串珠、陰離子交換樹脂等被應(yīng)用于去除水體中的pfas,這些吸附劑主要基于疏水相互作用,靜電吸引以及離子交換識別pfas。但吸附劑再生過程中所用的有機(jī)溶劑常常會造成二次污染。

    2、吸附劑吸附pfas后脫附液的處理成為能否徹底去除pfas的重要一環(huán),因此本專利技術(shù)采用一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原水中pfas的方法,徹底去除待處理水中的pfas。共價三嗪基框架(ctf)是一類新興的非溶脹聚合物,通過芳香腈的離子熱三聚反應(yīng)合成,具有非常大的比表面積、均勻和剛性的孔結(jié)構(gòu)、高的化學(xué)和熱穩(wěn)定性以及相對較低的成本。pfas具有疏水疏油的特性,在水中碳氟鏈既排斥水分子同時也不親和碳?xì)湮镔|(zhì),而碳氟鏈之間有相互團(tuán)聚的傾向。因此,可利用“相似相溶”原理,在ctf吸附劑表面進(jìn)行有機(jī)氟化修飾,利用材料表面的碳氟鏈吸附水中的pfas。而碳氟鏈的疏水疏油作用又可以排斥碳?xì)溆袡C(jī)物,從而達(dá)到選擇性去除pfas的目的。采用含飽和ki溶液的混合溶劑體系脫附吸附了pfas的摻氟ctf材料,然后利用水合電子還原脫附出來的pfas,可有效去除待處理水中的pfas,在高效處理pfas的同時,避免了二次污染。

    3、申請?zhí)枮?01710122426.8的中國專利公開了一種光催化降解全氟化合物的方法。該專利制備雙模型介孔sio2材料bmms,以磷鎢酸作為活性組分,通過浸漬法制備得到hpw/bmms催化劑,在紫外燈下加入催化劑,實現(xiàn)全氟化合物的降解脫氟。該系統(tǒng)對低濃度全氟化合物處理效果差,10mg/l的pfas溶液在紫外下照射4h,僅能去除40%。

    4、申請?zhí)枮?01710098400.4的中國專利公開了一種高效吸附pfas效能的污泥基活性炭及其制備方法與應(yīng)用。該專利經(jīng)過干燥、活化、高溫碳化處理、酸浸、洗滌和烘干處理制備污泥基活性炭,對于低濃度pfas的吸附去除率高達(dá)99.9%和71.0%。但該吸附劑有效ph范圍較窄,重復(fù)使用性差,且活性炭對于疏水疏脂的pfcs的吸附效果比較差。

    5、申請?zhí)枮?02210813328.x的中國專利公開了一種鈰摻雜高結(jié)晶氮化碳吸附劑的制備及其在吸附新興污染物中的應(yīng)用,該專利制備得到的鈰摻雜高結(jié)晶氮化碳吸附劑比表面積增大、吸附活性位點增多、吸附性能及速率提高,但存在金屬溶出造成二次污染的問題。

    6、申請?zhí)枮?02210339442.3的中國專利公開了一種活化過硫酸鹽和o2協(xié)同降解全氟化合物的電化學(xué)方法。該專利通過一步合成法原位形成摻雜了鐵和鎳的雙金屬碳?xì)饽z電極,在該電極表面,能夠原位發(fā)生2電子氧還原反應(yīng)(orr),產(chǎn)生h2o2,同時電極表面豐富的金屬活性位點在催化h2o2產(chǎn)生羥基自由基(·oh)的同時也能夠活化過氧單磺酸鹽(pms)產(chǎn)生硫酸根自由基(so4.-),通過這兩種自由基在陰極的協(xié)同作用降解全氟化合物。該系統(tǒng)電極片易發(fā)生金屬溶出,造成二次污染,且回用性較差。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、針對低濃度pfas水體,本專利技術(shù)旨在提供一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原pfas的方法,在一定程度上解決低濃度pfas水體處理的技術(shù)問題。

    2、實現(xiàn)本專利技術(shù)目的的技術(shù)解決方案為:一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原水中全氟和多氟烷基物質(zhì)的方法,包括:

    3、(1)采用摻氟ctf材料吸附待處理水體中的低濃度pfas;

    4、(2)采用含飽和ki溶液的混合溶劑體系脫附步驟(1)中吸附pfas的摻氟ctf材料;

    5、(3)利用水合電子還原脫附出來的高濃度pfas。

    6、較佳的,摻氟ctf材料通過如下步驟:將四氟對苯二腈和zncl2通過研磨充分混合,于400~500℃下真空煅燒35~40h,清洗、干燥后過篩。

    7、具體的,四氟對苯二腈和zncl2的質(zhì)量比為1:6。

    8、具體的,干燥后過200-300目篩。

    9、較佳的,步驟(1)中,將摻氟ctf材料置于待處理水體中,每30~150ml待處理水體中加入摻氟ctf材料5mg,吸附時間為4h以上。

    10、較佳的,待處理水體中的pfas的濃度為10~250ppm。

    11、較佳的,步驟(2)中,采用含飽和ki溶液的混合溶劑體系脫附步驟(1)中吸附pfas的摻氟ctf材料,過程如下:將步驟(1)中吸附了pfas的摻氟ctf材料置于含飽和ki溶液的混合溶劑體系中,震蕩條件下脫附4h以上,每30~150ml含飽和ki溶液的混合溶劑體系中加入吸附了pfas的摻氟ctf材料5mg。

    12、較佳的,含飽和ki溶液的混合溶劑體系中,混合溶劑由體積比為7:3的甲醇和水組成,飽和ki溶液在體系中濃度為1vol%。

    13、較佳的,步驟(3)中,利用水合電子還原脫附出來的高濃度pfas,過程如下:將脫附出來的pfas加水后得到的pfas溶液置于石英玻璃容器中,在uv燈照射下向其中加入na2so3,以還原pfas,pfas溶液的濃度為30~100mg/l,每400mlpfas溶液中加入na2so3100~600mg。

    14、具體的,uv燈的功率為10w以上。

    15、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)具有如下優(yōu)點和技術(shù)效果:

    16、1、本專利技術(shù)的f-ctf材料,利用靜電作用、疏水作用及材料表面的碳氟鏈對pfas有強吸附作用,對污水中pfas的去除率約為現(xiàn)有ctf材料的4倍。

    17、2、根據(jù)本專利技術(shù)實施例,可處理脫附出來的pfas,以免造成二次污染,完成pfas的無害化處理。

    18、3、利用含飽和ki溶液的混合溶劑體系中的ki,作為水合電子的助激發(fā)劑,高效還原脫附出來的pfas,達(dá)到節(jié)約資源的目的。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】

    1.一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原水中全氟和多氟烷基物質(zhì)的方法,其特征在于,包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,摻氟CTF材料通過如下步驟:將四氟對苯二腈和ZnCl2通過研磨充分混合,于400~500℃下真空煅燒35~40h,清洗、干燥后過篩。

    3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,四氟對苯二腈和ZnCl2的質(zhì)量比為1:6。

    4.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,干燥后過200-300目篩。

    5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(1)中,將摻氟CTF材料置于待處理水體中,每30~150ml待處理水體中加入摻氟CTF材料5mg,吸附時間為4h以上。

    6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,待處理水體中的PFAS的濃度為10~250ppm。

    7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)中,采用含飽和KI溶液的混合溶劑體系脫附步驟(1)中吸附PFAS的摻氟CTF材料,過程如下:將步驟(1)中吸附了PFAS的摻氟CTF材料置于含飽和KI溶液的混合溶劑體系中,震蕩條件下脫附4h以上,每30~150ml含飽和KI溶液的混合溶劑體系中加入吸附了PFAS的摻氟CTF材料5mg。

    8.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,含飽和KI溶液的混合溶劑體系中,混合溶劑由體積比為7:3的甲醇和水組成,飽和KI溶液在體系中濃度為1vol%。

    9.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(3)中,利用水合電子還原脫附出來的高濃度PFAS,過程如下:將脫附出來的PFAS加水后得到的PFAS溶液置于石英玻璃容器中,在UV燈照射下向其中加入Na2SO3,以還原PFAS,PFAS溶液的濃度為30~100mg/L,每400mlPFAS溶液中加入Na2SO3100~600mg。

    10.如權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,UV燈的功率為10W以上。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種吸附富集-脫附解析-水合電子還原水中全氟和多氟烷基物質(zhì)的方法,其特征在于,包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,摻氟ctf材料通過如下步驟:將四氟對苯二腈和zncl2通過研磨充分混合,于400~500℃下真空煅燒35~40h,清洗、干燥后過篩。

    3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,四氟對苯二腈和zncl2的質(zhì)量比為1:6。

    4.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,干燥后過200-300目篩。

    5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(1)中,將摻氟ctf材料置于待處理水體中,每30~150ml待處理水體中加入摻氟ctf材料5mg,吸附時間為4h以上。

    6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,待處理水體中的pfas的濃度為10~250ppm。

    7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)中,采用含飽和ki溶液的混合溶劑體系脫...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:陳歡王光艷王思源江芳
    申請(專利權(quán))人:南京理工大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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