【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及在處理腔室內使基板干燥的技術，特別是涉及利用超臨界狀態的處理流體對由液膜覆蓋的基板進行處理的工藝。以下示出日本專利申請的說明書、附圖以及權利要求書中的公開內容通過參照而將其全部內容援引至此：jp特愿2023-138193(2023年8月28日申請)。
技術介紹
1、半導體基板、顯示裝置用玻璃基板等各種基板的處理工序包含利用各種處理流體對基板的表面進行處理的工序。以往以來，廣泛進行了作為處理流體而使用藥液或沖洗液等的液體的濕法處理。近年來，為了使該濕法處理后的基板干燥，使用了超臨界狀態的處理流體的處理也得到實用化。特別在具有形成有微細圖案的圖案形成面的基板的干燥處理中是有益的。這是因為，超臨界狀態的處理流體與液體相比具有表面張力低且會進入圖案的間隙深處這種特性。通過使用該處理流體，能夠高效地進行干燥處理。另外，還能夠減小在干燥時因表面張力引起的圖案塌陷的發生風險。
2、例如在jp特開2013-201302號公報所述的基板處理系統中，作為本專利技術的“濕法處理裝置”的一例而設有基板顯影裝置。在該基板顯影裝置中，作為在該裝置內的最終處理，相對于利用沖洗液潤濕的基板供給作為本專利技術的“有機溶劑”的一例的ipa(異丙醇：isopropylalcohol)液。由此，執行ipa置換，從基板的表面除去沖洗液。另外，在基板的表面形成堆有ipa液的堆液(液盛り)狀態。也就是說，包含ipa液的液膜形成為槳狀。其結果為，基板的表面維持在由ipa液潤濕的狀態。然后，基板在維持堆液狀態的情況下被基板搬送裝置搬送至相當于本專利技術
技術實現思路
1、在基板顯影裝置或基板洗凈裝置等的濕法處理裝置中，期望利用ipa置換將沖洗液等的液體完全從圖案的內部排出。然而，有時在圖案的內底面殘留液體。若在殘留了像這樣殘留的液體(以下稱為“殘留液”)的狀態下將基板搬入基板干燥裝置(超臨界處理裝置)并進行超臨界干燥處理，則有時會產生如下的問題。也就是說，構成液膜的液體成分與超臨界狀態的處理流體的置換容易不徹底。因此，為了應對這個問題，考慮到使處理流體的使用量增大這樣的對策。然而，這會招致運行成本的增大，并且會給社會造成很大的環境負擔。
2、另外，有時即使使處理流體的使用量增大，殘留液仍會直接殘留在圖案的內底面，這會成為圖案塌陷的要因。為此，殘留液的存在成為產品產量下降的主要原因之一。
3、本專利技術是鑒于上述課題而提出的，其目的在于提供如下的技術，即，在將在接受了濕法處理的基板的表面堆有有機溶劑的狀態的基板從濕法處理裝置搬送至超臨界處理裝置、并使用超臨界狀態的處理流體使基板干燥的基板處理系統中，能夠實現在減少處理流體的消耗量且降低環境負擔的同時提高產量。
4、本專利技術的一個方面為使基板干燥的基板處理方法，所述基板具有形成有圖案的圖案形成面，而且在圖案形成面附著有液體基板，基板處理方法包括：(a)工序，在濕法處理裝置中，在通過向圖案形成面供給有機溶劑而將液體置換為有機溶劑之后，形成在圖案形成面堆有有機溶劑的堆液狀態；(b)工序，從濕法處理裝置將堆液狀態的基板搬送至超臨界處理裝置；(c)工序，在超臨界處理裝置中，通過使堆液狀態的圖案形成面與超臨界狀態的處理流體接觸，使基板干燥；以及(d)工序，在使圖案形成面與超臨界狀態的處理流體接觸之前，一邊維持堆液狀態一邊對基板附加振動，由此使在圖案殘留的液體與有機溶劑混合。
5、另外，本專利技術的另一方面為使基板干燥的基板處理系統，基板具有形成有圖案的圖案形成面，而且在圖案形成面附著有液體，基板處理系統具備：濕法處理裝置，其通過向圖案形成面供給有機溶劑而將液體置換為有機溶劑之后，形成在圖案形成面堆有有機溶劑的堆液狀態；超臨界處理裝置，其通過使堆液狀態的圖案形成面與超臨界狀態的處理流體接觸，使基板干燥；基板搬送裝置，其從濕法處理裝置向超臨界處理裝置搬送堆液狀態的基板；以及控制裝置，其以執行在濕法處理裝置中在形成堆液狀態之后對基板施加振動的第1振動附加處理、在基板搬送裝置中對基板施加振動的第2振動附加處理、以及在超臨界處理裝置中在使圖案形成面與超臨界狀態的處理流體接觸之前對基板施加振動的第3振動附加處理中的至少一個處理的方式，控制濕法處理裝置、搬送裝置以及超臨界處理裝置。
6、在像這樣構成的專利技術中，在將附著于基板的圖案形成面的液體置換為有機溶劑之后，有機溶劑的液膜形成為堆液狀態(槳狀態)。在此，若在圖案的內底面殘留液體，則該殘留液會成為招致處理流體的消耗增大或產品的產量下降的要因。于是，在本專利技術中，在使基板的圖案形成面與超臨界狀態的處理流體接觸之前，對堆液狀態的基板附加振動。由此，在圖案殘留的液體移流擴散而與有機溶劑混合。其結果為，利用在圖案的內底面不存在殘留液的狀態、即所謂的無殘留液執行基于超臨界狀態的處理流體的干燥處理。
7、專利技術效果
8、如上所述，根據本專利技術能夠利用無殘留液執行超臨界干燥處理。其結果為，能夠減少處理流體的消耗量并且提高產量。
9、上述本專利技術的各方面所具有的多個構成要素并非全部是必須的，為了解決上述課題的一部分或者全部、或者達成在本說明書中記載的效果的一部分或者全部，能夠適當針對所述多個構成要素的一部分的構成要素進行變更、削除、替換成新其他構成要素、刪除限定內容的一部分。另外，為了解決上述課題的一部分或者全部、或者為了達成在本說明書中記載的效果的一部分或者全部，還能夠將上述本專利技術的一方面所包含的技術特征的一部分或者全部與上述的本專利技術的其他方面所包含的技術特征的一部分或者全部組合來作為本專利技術的獨立的一個方式。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種基板處理方法，使基板干燥，所述基板具有形成有圖案的圖案形成面，而且在所述圖案形成面附著有液體，所述基板處理方法的特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
4.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
5.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
6.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
7.根據權利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，
8.根據權利要求7所述的基板處理方法，其特征在于，
9.根據權利要求7所述的基板處理方法，其特征在于，
10.根據權利要求8或者9所述的基板處理方法，其特征在于，
11.根據權利要求8或者9所述的基板處理方法，其特征在于，
12.根據權利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，
13.根據權利要求12所述的基板處理方法，其特征在于，
14.根據權利要求12所述的基板處理方法，其特征在于，
15.一種基板處理系統，使基板干燥，所述基板具有形成有圖案的圖案形成面，而且在所述圖案形成面附著有液體，所述基板處理系統的特征在于，具備：
...【技術特征摘要】
1.一種基板處理方法，使基板干燥，所述基板具有形成有圖案的圖案形成面，而且在所述圖案形成面附著有液體，所述基板處理方法的特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
4.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
5.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
6.根據權利要求2所述的基板處理方法，其特征在于，
7.根據權利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，
8.根據權利要求7所述的基板處理方法，其...
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