【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本文所公開的目標總體上涉及用于半導體制造中的隔離閥，且在一些示例中，涉及用于隔離閥的部件。
技術介紹
1、半導體襯底處理系統系通過包括蝕刻、物理氣相沉積(pvd)、原子層沉積(ald)、化學氣相沉積(cvd)、等離子體增強化學氣相沉積(pecvd)、脈沖沉積層(pdl)、等離子體增強脈沖沉積層(pepdl)、以及抗蝕劑移除的技術而用以處理半導體襯底。其中一種半導體襯底處理設備為包含真空處理室的等離子體處理設備，真空處理室包含上電極與下電極。在襯底處理循環中，將射頻(rf)功率施加在這些電極之間，以將處理氣體激發成等離子體而處理在室中的半導體襯底。
2、真空處理室通常由處理氣體供應管線所供應。處理氣體供應管線可根據需要包含操作成從清潔氣體隔離處理氣體的一或更多個隔離閥。常規隔離閥包含o形環密封配置。高溫、激進的動態響應需求、以及惡劣的化學環境可能使閥應用在半導體處理中尤其具有挑戰性。具有常規o形環密封配置的隔離閥迅速且經常失效。
3、本文中所提出的現有技術大致上用于呈現本公開內容的背景。應當注意，本節中所描述的信息是為了將以下所公開的主題的一些背景提供給本領域技術人員，不應將其視為公認的現有技術。具體而言，在此
技術介紹
部分中描述的范圍內的當前指定的專利技術人的工作以及在提交申請時不能確定為現有技術的說明書的各方面既不明確也不暗示地承認是針對本公開的現有技術。
技術實現思路
1、本文提出用于隔離氣體(例如半導體制造中的處理和清潔氣體)的方法和系統。一些示例包含用
2、在一些示例中，一種隔離閥包括：閥體；閥致動器；以及包含聚四氟乙烯(ptfe)材料的提動頭，所述提動頭能通過所述閥致動器在所述閥體中移動，以將所述ptfe材料保持為與相對表面密封接合，而無需o形環的介入。
3、在一些示例中，所述提動頭完全由所述ptfe材料組成或完全由所述ptfe材料構成的單一結構。
4、在一些示例中，所述提動頭不具有o形環安置通道。
5、在一些示例中，所述提動頭包含凹部或臺階。
6、一些示例還包括提動閥組件，所述提動閥組件包含提動閥外殼和由所述提動頭限定的區段。
7、在一些示例中，所述提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
8、在一些示例中，所述提動閥組件是具有由與所述提動閥外殼一體成型的所述提動頭限定的所述區段的單一結構。
9、在一些示例中，所述提動頭包含被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配的凹部或臺階。
10、在一些示例中，提供了一種用于隔離閥的無o形環提動頭，所述隔離閥包含閥體和閥致動器，所述無o形環提動頭包含：限定密封表面的(ptfe)材料區段，所述密封表面不具有o形環安置通道，所述提動頭能通過所述閥致動器在所述閥體中移動，以在所述隔離閥關閉時將所述ptfe材料所限定的所述密封表面保持為與相對表面密封接合，而無需o形環的介入。
11、在一些示例中，所述無o形環提動頭包含凹部或臺階。
12、在一些示例中，所述無o形環提動頭是完全由所述ptfe材料組成或完全由所述ptfe材料構成的單一結構。
13、在一些示例中，所述隔離閥包括提動閥組件，所述提動閥組件包含提動閥外殼和所述無o形環提動頭。
14、在一些示例中，所述無o形環提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
15、在一些示例中，所述提動閥組件是具有與所述提動閥外殼一體成型的所述無o形環提動頭的單一結構。
16、在一些示例中，所述無o形環提動頭包含被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配的凹部或臺階。
17、在一些示例中，所述隔離閥包括閥體和閥致動器，所述提動閥組件包括：提動閥外殼；以及提動頭，所述提動頭包含限定密封表面的(ptfe)材料區段，所述密封表面不具有o形環安置通道，所述提動頭能通過所述閥致動器在所述閥體中移動，以在所述隔離閥關閉時將由所述ptfe材料所限定的所述密封表面保持為與相對表面密封接合，而無需o形環的介入。
18、在一些示例中，所述提動頭包含凹部或臺階。
19、在一些示例中，所述凹部或臺階被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配。
20、在一些示例中，所述提動頭是完全由所述ptfe材料組成或完全由所述ptfe材料構成的單一結構。
21、在一些示例中，所述提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
22、在一些示例中，所述提動閥組件是具有與所述提動閥外殼一體成型的所述提動頭的單一結構。
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1.一種隔離閥，其包括：
2.根據權利要求1所述的隔離閥，其中所述提動頭是完全由所述PTFE材料組成或完全由所述PTFE材料構成的單一結構。
3.根據權利要求2所述的隔離閥，其中所述提動頭不具有O形環安置通道。
4.根據權利要求1所述的隔離閥，其中所述提動頭包含凹部或臺階。
5.根據權利要求1的隔離閥，其還包括提動閥組件，所述提動閥組件包含提動閥外殼和由所述提動頭限定的區段。
6.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
7.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動閥組件是具有由與所述提動閥外殼一體成型的所述提動頭限定的所述區段的單一結構。
8.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動頭包含被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配的凹部或臺階。
9.一種用于隔離閥的無O形環提動頭，所述隔離閥包含閥體和閥致動器，所述無O形環提動頭包含：
10.根據權利要求9所述的無O形環提動頭，其中所述無O形環提動頭包含凹部或臺階。
11.根據權利要
12.根據權利要求9所述的無O形環提動頭，其中所述隔離閥包括提動閥組件，所述提動閥組件包含提動閥外殼和所述無O形環提動頭。
13.根據權利要求12所述的無O形環提動頭，其中所述無O形環提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
14.根據權利要求12所述的無O形環提動頭，其中所述提動閥組件是具有與所述提動閥外殼一體成型的所述無O形環提動頭的單一結構。
15.根據權利要求12所述的無O形環提動頭，其中所述無O形環提動頭包含被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配的凹部或臺階。
16.一種用于隔離閥的提動閥組件，所述隔離閥包括閥體和閥致動器，所述提動閥組件包括：
17.根據權利要求16所述的提動閥組件，其中所述提動頭包含凹部或臺階。
18.根據權利要求17所述的提動閥組件，其中所述凹部或臺階被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配。
19.根據權利要求16所述的提動閥組件，其中所述提動頭是完全由所述PTFE材料組成或完全由所述PTFE材料構成的單一結構。
20.根據權利要求16所述的提動閥組件，其中所述提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
21.根據權利要求16所述的提動閥組件，其中所述提動閥組件是具有與所述提動閥外殼一體成型的所述提動頭的單一結構。
22.一種操作隔離閥的方法，所述方法包括：
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種隔離閥，其包括：
2.根據權利要求1所述的隔離閥，其中所述提動頭是完全由所述ptfe材料組成或完全由所述ptfe材料構成的單一結構。
3.根據權利要求2所述的隔離閥，其中所述提動頭不具有o形環安置通道。
4.根據權利要求1所述的隔離閥，其中所述提動頭包含凹部或臺階。
5.根據權利要求1的隔離閥，其還包括提動閥組件，所述提動閥組件包含提動閥外殼和由所述提動頭限定的區段。
6.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動頭與所述提動閥外殼分開形成。
7.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動閥組件是具有由與所述提動閥外殼一體成型的所述提動頭限定的所述區段的單一結構。
8.根據權利要求5所述的隔離閥，其中所述提動頭包含被配置成與所述提動閥外殼內部的匹配結構適配的凹部或臺階。
9.一種用于隔離閥的無o形環提動頭，所述隔離閥包含閥體和閥致動器，所述無o形環提動頭包含：
10.根據權利要求9所述的無o形環提動頭，其中所述無o形環提動頭包含凹部或臺階。
11.根據權利要求9所述的無o形環提動頭，其中所述無o形環提動頭是完全由所述ptfe材料組成或完全由所述ptfe材料構成的單一結構。
12.根據權利要求9所述的無o形環提動頭，其中...
【專利技術屬性】
技術研發人員：亞倫·布萊克·米勒，班亞·翁森納庫姆，
申請(專利權)人：朗姆研究公司，
類型：發明
國別省市：
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