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    可傾斜支撐式足底理療儀制造技術

    技術編號:44503627 閱讀:2 留言:0更新日期:2025-03-07 13:02
    本技術公開了可傾斜支撐式足底理療儀包括可傾斜支撐式足底理療儀本體、左足底按摩組件、右足底按摩組件以及傾斜支撐組件,左足底按摩組件設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體上左部,左足底按摩組件包括第一按摩塊,第一按摩塊傾斜設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體中部左側且用于傾斜貼合按摩左足跖弓區。右足底按摩組件設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體上右部,右左足底按摩組件包括第二按摩塊,傾斜支撐組件轉動設置于可傾斜支撐式足底理療儀本體后側且用于傾斜支撐可傾斜支撐式足底理療儀本體。本技術具有可以與足底貼合,理療效果好,可以傾斜支撐使用,設計合理,使用舒適方便等優點。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術屬于理療裝置,具體涉及一種可傾斜支撐式足底理療儀


    技術介紹

    1、人身體各個器官的神經都會延至足部,當刺激足部時就可以疏通經脈,調理氣血。如專利申請號202020174469.8公開了一種多功能可傾斜支撐式足底理療儀,包括有理療儀底座,理療儀底座的內側設置有呈凹陷狀的足底理療區,足底理療區的兩側設置有左按摩區和右按摩區,其中,左按摩區的內部設置有左加熱電板和磁控管;右按摩區內部設置有右加熱電板和磁控管;左按摩區和右按摩區之間設置有分隔板,分隔板上設置有若干個呈均勻分布的透水孔;理療儀底座的前側設置有顯示區;所述理療儀底座的底側設置有循環水腔,循環水腔的內壁上設置有循環水腔孔;循環水腔內部左右兩底側設置有左加熱電阻和右加熱電阻,循環水腔內部中側設置有溫度傳感器,循環水腔內部左部還設置有臭氧發生器;所述理療儀底座的底部設置有控制裝置,所述顯示區、左加熱電板、右加熱電板、左加熱電阻、右加熱電阻、溫度傳感器和臭氧發生器均通過電-信號線連接于控制裝置,控制裝置通過電纜外接市電;所述顯示區包括有按鍵組、運行指示燈、檔位指示燈和時間顯示面板;所述按鍵組包括有檔位調節按鍵、模式選擇按鍵和時間調節按鍵。雖然該可傾斜支撐式足底理療儀功能多樣,但是該理療儀以及其它現有理療儀仍存在無法傾斜使用,與足底貼合不好導致理療效果不佳等問題。


    技術實現思路

    1、本技術為了解決現有技術中的不足之處,提供一種便于與足底貼合,可以傾斜使用的可傾斜支撐式足底理療儀。

    2、為解決上述技術問題,本技術采用如下技術方案:

    3、可傾斜支撐式足底理療儀,包括:

    4、可傾斜支撐式足底理療儀本體;

    5、左足底按摩組件,設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體上左部,左足底按摩組件包括第一按摩塊,第一按摩塊傾斜設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體中部左側且用于傾斜貼合按摩左足跖弓區;

    6、右足底按摩組件,設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體上右部,右左足底按摩組件包括第二按摩塊,第二按摩塊傾斜設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體中部右側且用于傾斜貼合按摩右足跖弓區;

    7、傾斜支撐組件,轉動設置于可傾斜支撐式足底理療儀本體后側且用于傾斜支撐可傾斜支撐式足底理療儀本體;以及

    8、遙控組件,設置于可傾斜支撐式足底理療儀本體上且用于控制可傾斜支撐式足底理療儀本體。

    9、優選的,所述左足底按摩組件還包括依次設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體左部前側、左部中側以及左部后側的第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊,第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊分別用于貼合按摩左足前跖區、左足外側區以及左足足跟區;

    10、所述右足底按摩組件還包括依次設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體右部前側、右部中側以及右部后側的第六按摩塊、第七按摩塊和第八按摩塊,第六按摩塊、第七按摩塊和第八按摩塊分別用于貼合按摩右足前跖區、右足外側區以及右足足跟區。

    11、優選的,所述傾斜支撐組件包括支撐部,所述可傾斜支撐式足底理療儀本體后側設有凸出部,支撐部通過轉動支撐件轉動連接在可傾斜支撐式足底理療儀本體上且支撐部上設有安裝槽,凸出部與安裝槽相適配且凸出部卡接在安裝槽內。

    12、優選的,所述遙控組件包括遙控面殼、遙控底殼、遙控pcb板以及遙控按鍵,遙控面殼扣接在遙控底殼上,遙控pcb板安裝在遙控面殼與遙控底殼之間,遙控按鍵安裝在遙控面殼上且與遙控pcb板相連,遙控pcb板與可傾斜支撐式足底理療儀本體相連。

    13、采用上述技術方案,本技術具有以下有益效果:

    14、本技術設有第一按摩塊和第二按摩塊,第一按摩塊傾斜設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體中部左側且用于傾斜貼合按摩左足跖弓區,第二按摩塊傾斜設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體中部右側且用于傾斜貼合按摩右足跖弓區,具體使用時可以與足底貼合,理療效果更好,本技術還設有傾斜支撐組件,可以傾斜支撐使用,設計合理,使用更舒適方便;

    15、綜上所述,本技術具有可以與足底貼合,理療效果好,可以傾斜支撐使用,設計合理,使用舒適方便等優點。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于:所述左足底按摩組件還包括依次設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體左部前側、左部中側以及左部后側的第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊,第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊分別用于貼合按摩左足前跖區、左足外側區以及左足足跟區;

    3.根據權利要求1所述的可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于:所述傾斜支撐組件包括支撐部,所述可傾斜支撐式足底理療儀本體后側設有凸出部,支撐部通過轉動支撐件轉動連接在可傾斜支撐式足底理療儀本體上且支撐部上設有安裝槽,凸出部與安裝槽相適配且凸出部卡接在安裝槽內。

    4.根據權利要求1所述的可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于:所述遙控組件包括遙控面殼、遙控底殼、遙控PCB板以及遙控按鍵,遙控面殼扣接在遙控底殼上,遙控PCB板安裝在遙控面殼與遙控底殼之間,遙控按鍵安裝在遙控面殼上且與遙控PCB板相連,遙控PCB板與可傾斜支撐式足底理療儀本體相連。

    【技術特征摘要】

    1.可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于:所述左足底按摩組件還包括依次設置在可傾斜支撐式足底理療儀本體左部前側、左部中側以及左部后側的第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊,第三按摩塊、第四按摩塊和第五按摩塊分別用于貼合按摩左足前跖區、左足外側區以及左足足跟區;

    3.根據權利要求1所述的可傾斜支撐式足底理療儀,其特征在于:所述傾斜支撐組件包括支撐部,所述可傾斜支撐...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:李陽屈婷婷
    申請(專利權)人:深圳市奧斯拓醫療科技有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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