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【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)屬于研磨液,具體涉及一種碳化硅襯底晶片用研磨液及其制備方法。
技術(shù)介紹
1、碳化硅晶片是第三代半導(dǎo)體材料,在新能源領(lǐng)域、通訊領(lǐng)域和軍工國(guó)防領(lǐng)域具有舉足輕重的地位,而在碳化硅晶片的加工過程中,研磨液是其中重要的輔助材料,金剛石研磨液由磨粒分散于介質(zhì)制備而成,是一種具有優(yōu)良化學(xué)機(jī)械性能的研磨產(chǎn)品,可用于硅片、工程陶瓷、化合物晶體、精密光學(xué)器件、液晶面板、寶石、金屬工件等的研磨拋光,而現(xiàn)有的研磨液在長(zhǎng)時(shí)間放置后容易產(chǎn)生沉降的現(xiàn)象,并且不便于將研磨產(chǎn)生的廢屑排出。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為解決上述
技術(shù)介紹
中提出的問題。本專利技術(shù)提供了一種碳化硅襯底晶片用研磨液及其制備方法,具有能夠保證該研磨液長(zhǎng)時(shí)間放置不產(chǎn)生沉降的現(xiàn)象,以及便于研磨產(chǎn)生的廢屑排出的特點(diǎn)。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案:一種碳化硅襯底晶片用研磨液,包括以下重量份數(shù)的組分原料:金剛石微粉5-12份;純水35-80份;懸浮劑15-25份;分散劑10-18份;乳化劑5-10份;潤(rùn)滑劑15-20份;消泡劑0.5-2份。
3、作為本專利技術(shù)的進(jìn)一步方案:所述金剛石微粉為單晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉或多晶金剛石微粉中的一種或幾種的混合,且直徑小于30微米。
4、作為本專利技術(shù)的進(jìn)一步方案:所述純水通過反滲透法制備而成,所述潤(rùn)滑劑為二甘醇、異丙醇、烯丙基乙二醇中的一種或多種的混合物。
5、作為本專利技術(shù)的進(jìn)一步方案:所述分散劑為聚丙烯酸酯、聚丙烯酸鹽、聚羧酸鹽、嵌
6、作為本專利技術(shù)的進(jìn)一步方案:所述乳化劑為烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯中的一種或多種的混合物。
7、作為本專利技術(shù)的進(jìn)一步方案:所述懸浮劑為聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯烷基醇酰胺、聚炔醇或脂肪醇聚醚中的一種或多種的混合物。
8、一種碳化硅襯底晶片用研磨液及其制備方法,包括如下步驟:
9、步驟一:將金剛石微粉和純水中注入超聲波分散儀的內(nèi)部進(jìn)行攪拌形成混合液1;
10、步驟二:將步驟一制取的混合液1投放在600目孔徑的篩網(wǎng)上進(jìn)行過濾得到混合液2;
11、步驟三:將分散劑和懸浮劑中注入超聲波分散儀的內(nèi)部進(jìn)行攪拌形成混合液3;
12、步驟四:將潤(rùn)滑劑和乳化劑中注入超聲波分散儀的內(nèi)部進(jìn)行攪拌形成混合液4;
13、步驟五:將混合液2、混合液3和混合液4和消泡劑依次入超聲波分散儀的內(nèi)部進(jìn)行攪拌形成研磨液。
14、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)的有益效果是:
15、1、本專利技術(shù),通過采用分散劑和懸浮劑,當(dāng)工作人員在對(duì)碳化硅襯底晶片用的研磨液進(jìn)行制備的過程中,在分散劑和懸浮劑的配合下,能夠防止顆粒的沉降和凝聚,形成安定懸浮液所需的兩親性試劑,從而能夠保證該研磨液長(zhǎng)時(shí)間放置不產(chǎn)生沉降的現(xiàn)象。
16、2、本專利技術(shù),通過采用潤(rùn)滑劑和乳化劑,當(dāng)工作人員在對(duì)碳化硅襯底晶片用的研磨液進(jìn)行制備的過程中,在潤(rùn)滑劑和乳化劑的配合下,能夠提高該研磨液的潤(rùn)滑性,并且易于清洗便于研磨產(chǎn)生的廢屑排出,從而能夠保證加工工件高的表面光潔度。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:包括以下重量份數(shù)的組分原料:金剛石微粉5-12份;純水35-80份;懸浮劑15-25份;分散劑10-18份;乳化劑5-10份;潤(rùn)滑劑15-20份;消泡劑0.5-2份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述金剛石微粉為單晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉或多晶金剛石微粉中的一種或幾種的混合,且直徑小于30微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述純水通過反滲透法制備而成,所述潤(rùn)滑劑為二甘醇、異丙醇、烯丙基乙二醇中的一種或多種的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述分散劑為聚丙烯酸酯、聚丙烯酸鹽、聚羧酸鹽、嵌段磷酸酯聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述乳化劑為烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯中的一種或多種的混合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述懸浮劑為聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯烷
7.一種如權(quán)利要求1-7任一所述的碳化硅襯底晶片用研磨液的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:包括以下重量份數(shù)的組分原料:金剛石微粉5-12份;純水35-80份;懸浮劑15-25份;分散劑10-18份;乳化劑5-10份;潤(rùn)滑劑15-20份;消泡劑0.5-2份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述金剛石微粉為單晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉或多晶金剛石微粉中的一種或幾種的混合,且直徑小于30微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種碳化硅襯底晶片用研磨液,其特征在于:所述純水通過反滲透法制備而成,所述潤(rùn)滑劑為二甘醇、異丙醇、烯丙基乙二醇中的一種或多種的混合物。
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:王來福,王志強(qiáng),羅俊,李龍飛,馬飛躍,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:河南省惠豐金剛石有限公司,
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:
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