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    光吸收離型組成物的使用方法及半導(dǎo)體裝置的制備方法制造方法及圖紙
    
                            
    技術(shù)編號：44506093 閱讀：1 留言：0更新日期：2025-03-07 13:04
    
                        
    
                        
    
                            
                            一種光吸收離型組成物的使用方法，包含步驟(a)，對包含支撐載體、離型層及待加工層的積層體的待加工層施予加工處理，以使該待加工層形成經(jīng)加工層；步驟(b)，在步驟(a)后，利用脈沖雷射光經(jīng)由該支撐載體照射該離型層；步驟(c)，與步驟(b)同時(shí)或在步驟(b)后，使該支撐載體與該經(jīng)加工層分離。該離型層是由光吸收離型組成物所形成。該光吸收離型組成物包括聚合物(A)、吸光劑(B)及溶劑(C)。該聚合物(A)是由包括四羧酸二酐組分及二胺組分的混合物經(jīng)反應(yīng)所形成。該二胺組分包括至少一種選自于由下列群組所組成的二胺化合物：式(I)所示的二胺化合物及式(II)所示的二胺化合物。本發(fā)明專利技術(shù)亦提供一種半導(dǎo)體裝置的制備方法且包含將上述的經(jīng)加工層進(jìn)行加工處理形成半導(dǎo)體裝置。
    
                            
                            
    


    
                            

                            
    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    
                                
    本專利技術(shù)涉及一種離型組成物，特別是涉及一種光吸收離型組成物的使用方法。

    技術(shù)介紹
    1、以往為避免例如半導(dǎo)體芯片的待加工對象在例如背面研磨等加工處理的過程中產(chǎn)生例如破裂等損傷，大多采取先將該待加工對象經(jīng)由暫時(shí)固定件暫時(shí)地固定于例如玻璃基板等支撐體上，例如美國專利公開第2014/0106473號及日本專利公開第2013171949號揭示。
    2、然后，在執(zhí)行該加工處理后，利用例如紫外線和紅外線等輻射線照射該暫時(shí)固定件，以使該暫時(shí)固定件的附著力減弱，從而讓經(jīng)加工處理后的該待加工對象能夠與該支撐體分離。
    3、然而，當(dāng)該暫時(shí)固定件的遮光性不佳時(shí)，致使該輻射線會照射到該待加工對象，將會對該待加工對象產(chǎn)生不利的影響，且當(dāng)經(jīng)光照射后的該暫時(shí)固定件的剝離性不佳時(shí)，容易殘留在經(jīng)加工處理后的該待加工對象上，而不利于經(jīng)加工處理后的該待加工對象進(jìn)行后續(xù)的工序。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    1、本專利技術(shù)的第一目的在于提供一種光吸收離型組成物的使用方法
    2、于是，本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，包含：步驟(a)，對積層體的待加工層施予加工處理，以使該待加工層形成經(jīng)加工層，該積層體界定出堆疊方向，且在該堆疊方向上依序包含支撐載體、包括離型層的暫時(shí)固定單元及該待加工層，在該加工處理前或后，對該積層體選擇地進(jìn)行移動處理；步驟(b)，在步驟(a)后，利用脈沖雷射光經(jīng)由該支撐載體照射該離型層；及步驟(c)，與步驟(b)同時(shí)進(jìn)行或在步驟(b)后，使該支撐載體與該經(jīng)加工層分離，獲得該經(jīng)加工層；</p>
    3、該離型層是由光吸收離型組成物所形成，且該光吸收離型組成物包括聚合物(a)、吸光劑(b)及溶劑(c)；該聚合物(a)選自于聚酰胺酸聚合物、聚酰亞胺聚合物、聚酰亞胺系嵌段共聚合物或上述任意的組合，且是由包括四羧酸二酐組分及二胺組分的混合物經(jīng)縮聚反應(yīng)所形成，該二胺組分包括至少一種選自于由下列群組所組成的二胺化合物：式(i)所示的二胺化合物及式(ii)所示的二胺化合物；
    4、
    5、r1表示單鍵、-c(ch3)2-、-(ch2)n1-、-c(cf3)2-、-o-(ch2)n2-o-、-o-、-s-(ch2)n3-s-、-s-、-s-s-、-so2-、-co-、-conh-，或-nhco-，n1、n2及n3獨(dú)立地表示1至12，
    6、r2表示單鍵、-c(ch3)2-、-o-、-s-、-co-、-c(cf3)2-，或c1至c10的伸烷基，
    7、任一苯環(huán)上的任意的氫可以被-f、-ch3、-cf3、-oh，或苯基取代，
    8、
    9、r3表示單鍵、-c(ch3)2-、-(ch2)m1-、-c(cf3)2-、-o-(ch2)m2-o-、-o-、-s-(ch2)m3-s-、-s-、-s-s-、-so2-、-co-、-conh-，或-nhco-，m1、m2及m3獨(dú)立地表示1至12，
    10、r4表示單鍵、-c(ch3)2-、-c(cf3)2-、-o-、-s-、-co-，或c1至c10的伸烷基，
    11、r5表示單鍵、-c(ch3)2-、-c(cf3)2-、-o-、-s-、-co-，或c1至c10的伸烷基，
    12、任一苯環(huán)上的任意的氫可以被-f、-ch3、-cf3、-oh，或苯基取代。
    13、本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，該脈沖雷射光的波長為400nm以下。
    14、本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，該聚合物(a)為聚酰胺酸聚合物。
    15、本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，該吸光劑(b)包含黑色顏料。
    16、本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，以該聚合物(a)的使用量第3/33頁
    17、為100重量份計(jì)，該吸光劑(b)的使用量為5重量份至200重量份，且該溶劑(c)的使用量為500重量份至4000重量份。
    18、本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法，該暫時(shí)固定單元還包括黏著層，致使該積層體依序具有該支撐載體、該離型層、該黏著層及該待加工層。
    19、本專利技術(shù)的第二目的，即在提供一種半導(dǎo)體裝置的制備方法。
    20、于是，本專利技術(shù)半導(dǎo)體裝置的制備方法，包含：將由上述的光吸收離型組成物的使用方法所獲得的經(jīng)加工層進(jìn)行加工處理，形成半導(dǎo)體裝置。
    21、本專利技術(shù)的有益效果在于：在本專利技術(shù)光吸收離型組成物的使用方法中，通過使用該二胺組分的式(i)所示的二胺化合物及式(ii)所示的二胺化合物所形成的聚合物(a)中至少一者，致使由本專利技術(shù)光吸收離型組成物所形成的離型層具有較佳的遮光性，且該離型層在照射脈沖雷射光后能夠具有較佳的剝離性。
    本文檔來自技高網(wǎng)...
                            
    
                            
    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    
                                
    1.一種光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于包含：
    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該脈沖雷射光的波長為400nm以下。
    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該聚合物(A)為聚酰胺酸聚合物。
    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該吸光劑(B)包含黑色顏料。
    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：以該聚合物(A)的使用量為100重量份計(jì)，該吸光劑(B)的使用量為5重量份至200重量份，且該溶劑(C)的使用量為500重量份至4000重量份。
    6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該暫時(shí)固定單元還包括黏著層，致使該積層體依序具有該支撐載體、該離型層、該黏著層及該待加工層。
    7.一種半導(dǎo)體裝置的制備方法，包含：將由權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的光吸收離型組成物的使用方法所獲得的經(jīng)加工層進(jìn)行加工處理，形成半導(dǎo)體裝置。
    
                            
    
                            
    【技術(shù)特征摘要】
    
                                
    1.一種光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于包含：
    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該脈沖雷射光的波長為400nm以下。
    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該聚合物(a)為聚酰胺酸聚合物。
    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：該吸光劑(b)包含黑色顏料。
    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光吸收離型組成物的使用方法，其特征在于：以該聚合物...
                            
    
                            
    【專利技術(shù)屬性】
    
                                技術(shù)研發(fā)人員：梁育豪，
    
        申請(專利權(quán))人：奇美實(shí)業(yè)股份有限公司，
    
        類型：發(fā)明
    
        國別省市：
    
                            
    
                            
                        
    
                    
    
                    
                    
                     
                
    
                
                
    
                    
    
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