【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種清洗架。
技術介紹
1、光學元件生產過程中,為了達到較高的表面清潔度,一般在這些光學元件鍍膜前及鍍膜后,都需經過清洗過程,目的是為了去除加工過程中附著于這些光學元件表面的臟污、油漬及微粒等。對光學元件通常采用超聲波清洗。超聲波清洗是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用,使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的。超聲波清洗具有清洗效果好,操作簡單,清洗范圍廣等優點,被廣泛應用于各個領域。
2、現有技術中,對光學元件的超聲波清洗,特別是微小透鏡的清洗方式,是將微小透鏡放置在載具上,將載具放置在清洗架中,再整體將清洗架放入超聲波清洗機的清洗槽內進行清洗,這種方式每次只能清洗一個清洗板上的透鏡,工作效率低。
技術實現思路
1、本技術的目的是針對現有的技術存在上述問題,提出了一種清洗架,其通過清洗框上的擋條與清洗底座配合,可以豎向放置若干載具,工作效率提升。
2、本技術的目的可通過下列技術方案來實現:一種清洗架,其特征在于,它包括:
3、底座框,其兩側焊接固定有提籃;
4、清洗框,其上活動連接有對稱設置的擋條,其下方活動連接有清洗底座;
5、所述清洗框與擋條、清洗底座之間設有連接組件。
6、進一步的,所述提籃呈龍門架形狀,且與底座框連接處呈三角狀。
7、進一步的,所述擋條兩側以及清洗底座上方皆具有若干呈波浪形分布的卡槽,所述卡槽外端呈弧形。
9、進一步的,所述清洗底座兩端以及擋條上方兩側具有螺紋孔,所述螺紋孔內旋有螺紋柱且螺紋柱上設有墊片,所述墊片貼靠在第一限位桿與第二限位桿上,所述螺紋柱穿過第一限位桿與第二限位桿之間的間距螺紋孔螺紋連接固定。
10、進一步的,所述底座上具有若干根承靠桿,所述清洗框下方具有圓弧形的讓位槽,所述讓位槽抵靠在承靠桿上。
11、與現有技術相比,本申請的優點為:其通過清洗框上的擋條與清洗底座配合,可以豎向放置若干載具,工作效率提升。
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1.一種清洗架,其特征在于,它包括:
2.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述提籃呈龍門架形狀,且與底座框連接處呈三角狀。
3.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述擋條兩側以及清洗底座上方皆具有若干呈波浪形分布的卡槽,所述卡槽外端呈弧形。
4.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述連接組件包括兩根固定在清洗框兩側面的第一限位桿以及兩根固定在清洗框上方兩側的第二限位桿,兩根所述第一限位桿之間具有一定間距,所述第二限位桿相同設置。
5.根據權利要求4所述的一種清洗架,其特征在于,所述清洗底座兩端以及擋條上方兩側具有螺紋孔,所述螺紋孔內旋有螺紋柱且螺紋柱上設有墊片,所述墊片貼靠在第一限位桿與第二限位桿上,所述螺紋柱穿過第一限位桿與第二限位桿之間的間距螺紋孔螺紋連接固定。
6.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于,所述底座上具有若干根承靠桿,所述清洗框下方具有圓弧形的讓位槽,所述讓位槽抵靠在承靠桿上。
【技術特征摘要】
1.一種清洗架,其特征在于,它包括:
2.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述提籃呈龍門架形狀,且與底座框連接處呈三角狀。
3.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述擋條兩側以及清洗底座上方皆具有若干呈波浪形分布的卡槽,所述卡槽外端呈弧形。
4.根據權利要求1所述的一種清洗架,其特征在于:所述連接組件包括兩根固定在清洗框兩側面的第一限位桿以及兩根固定在清洗框上方兩側的第二限位桿,兩根所述第一...
【專利技術屬性】
技術研發人員:左斌,
申請(專利權)人:浙江藍特光學股份有限公司,
類型:新型
國別省市:
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