【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及光學測量，特別涉及一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統。
技術介紹
1、光學測量是一種非接觸的測量技術，它利用光的一些基本性質，如反射、干涉、散射等進行相關精確測量，主要原理是利用光的物理特性對被測物體進行探測，不同的測量方式利用了不同的特性。
2、目前，在常溫常壓環境下定量測量被測物體的全波段輻射特性時，需要為其提供黑色背景板。然而，由于被測物體的尺寸和探測角度多變，則需要采用較大的黑色背景板并根據被測物體的位置和探測角度的變化不斷調整黑色背景的位置，不僅占用實驗室場地，且影響測量效率。
3、因此，目前亟待需要一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統來解決上述問題。
技術實現思路
1、本專利技術提供了一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統，不僅節約場地，還能夠提高測量效率。技術方案如下：
2、本專利技術提供了一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統，包括：探測裝置、背景反射面、移動裝置、隨動裝置和黑色背景板；
3、所述探測裝置設置在所述移動裝置上，所述背景反射面設置在所述隨動裝置上，所述移動裝置和所述隨動裝置分別位于被測物體的兩側，并可同步地繞所述被測物體旋轉；所述黑色背景板懸吊于所述被測物體的正上方；
4、當對所述被測物體進行全波段輻射特性測試時，通過調整所述背景反射面與水平面的夾角，將所述黑色背景板發射的電磁波反射至所述探測裝置，以為所述被測物體提供黑色背景。
5、在一
6、在一種可能的設計中，所述冷卻管道以螺旋狀鋪設在所述黑色背景板的頂面。
7、在一種可能的設計中，所述黑色背景板的材質為氧化發黑的鋁板。
8、在一種可能的設計中，所述預設溫度與所述被測物體的溫度的差值為10～20℃。
9、在一種可能的設計中，所述背景反射面與水平面的夾角為30～60°。
10、本專利技術實施例提供了一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統，通過將黑色背景板懸吊于所述被測物體的正上方，可以節省實驗室空間。通過設計背景反射面并調整其與水平面的夾角，可以將所述黑色背景板發射的電磁波反射至所述探測裝置，從而為所述被測物體提供黑色背景。此外，通過設置移動裝置和隨動裝置，當需要調整測量角度時，只需要同步地轉動移動裝置和隨動裝置，就可以快速的達到所需的測量角度，而不需要挪動黑色背景板。由此可見，本申請不僅可以節約場地，還能夠提高測量效率。
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1.一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，當采用紅外波段進行光學測試時，還包括冷卻管道(6)；
3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述冷卻管道(6)以螺旋狀鋪設在所述黑色背景板(5)的頂面。
4.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述黑色背景板(5)的材質為氧化發黑的鋁板。
5.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述預設溫度與所述被測物體(7)的溫度的差值不小于5℃。
6.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述背景反射面(2)與水平面的夾角為30～60°。
【技術特征摘要】
1.一種常溫常壓環境下全波段光學測試背景模擬系統，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，當采用紅外波段進行光學測試時，還包括冷卻管道(6)；
3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述冷卻管道(6)以螺旋狀鋪設在所述黑色背景板(5)的頂面。
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【專利技術屬性】
技術研發人員：蘇必達，彭月，陳紅，范博昭，孫騰，
申請(專利權)人：北京環境特性研究所，
類型：發明
國別省市：
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