【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置和方法，屬于半導體晶圓制造。
技術介紹
1、隨著科技的發(fā)展，智能設備的使用范圍越來越廣，這極大的促進了芯片制造產業(yè)的發(fā)展，也對晶圓表面質量提出了更高的要求。為了制造出適用于當前4nm甚至更精細芯片加工的晶圓，在制造晶圓時通常會通過粗磨、精磨、腐蝕、拋光等多道工藝程序使晶圓的表面質量達到最優(yōu)。這些工藝中粗磨主要承擔著去除晶圓表面的刀痕，使晶圓表面加工損傷均勻一致以及調節(jié)晶圓厚度，使晶圓之間厚度差逐漸縮小，并提高表面平整度和平行度的作用。正因如此，粗磨在晶圓制造工藝中極其重要。現(xiàn)在粗磨的方法主要是雙面磨削，雙面磨削是一種通過在晶圓兩側設置一對靜壓支撐盤，使晶圓以非接觸的形式固定在靜壓支撐盤中間，由設置在晶圓兩側的磨削砂輪同時向晶圓進給的方式進行磨削的方法。因此在雙面磨削過程中，磨削砂輪表面平整度對粗磨后晶圓表面質量的優(yōu)劣占據(jù)了舉足輕重的地位。
2、但在雙面磨削過程中，由于晶圓以非接觸的形式固定在靜壓支撐盤中間，隨著連續(xù)加工的進行，可能會導致晶圓位置在磨削過程中發(fā)生偏移，致使磨削砂輪齒形在磨削過程中發(fā)生變化。此外雙面磨削前晶圓表面刀痕或加工損傷較大也會導致磨削后磨削砂輪表面平整度變差。因此，在雙面磨削階段，保持磨削砂輪的表面平整度，對保證生產晶圓效率和質量非常重要。
3、當前雙面磨削機器自帶修整裝置，如圖1所示，傳統(tǒng)的磨削砂輪w修整裝置主要由能夠繞中心旋轉的圓柱狀修整裝置g以及下方支撐修整裝置g的支撐裝置s組成。工作時，該修整裝置g通過繞中心旋轉的同時，兩側
4、然而，一方面，傳統(tǒng)的修整裝置一般是一體式固定在設備上，長時間使用后，修整能力不足卻無法自由更換，導致生產成本上升。另一方面，傳統(tǒng)的修整裝置對磨削砂輪進行修整時不能夠覆蓋整個磨削齒面，修整效率低；且磨削砂輪進給量過大會導致磨削齒損壞甚至報廢。
技術實現(xiàn)思路
1、基于以上
技術介紹
，本專利技術的目的在于提供一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，通過該裝置能夠對連續(xù)加工中出現(xiàn)磨損的磨削砂輪進行修整，使磨削砂輪表面保持良好的平整度，從而保證生產晶圓的效率和質量。
2、本專利技術的另一目的在于提供一種使用所述裝置進行雙面磨削砂輪表面平整度修整的方法。
3、為實現(xiàn)上述目的，本專利技術采用以下技術方案：
4、一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，該裝置包括：
5、圓形的修整片，
6、至少三個支撐輥輪，對稱的設置在所述修整片周圍，所述至少三個支撐輥輪的中心軸線相互平行，且與修整片的中心軸線平行；所述至少三個支撐輥輪通過繞各自的中心軸線同向旋轉帶動所述修整片繞其中心軸線自轉；
7、距離監(jiān)測單元，用來實時監(jiān)測磨削砂輪與修整片之間的距離，并在磨削砂輪修整達到預定位置時發(fā)出監(jiān)測信號。
8、優(yōu)選地，所述修整片以可拆卸的方式安裝在至少三個支撐輥輪之間。所述支撐輥輪的數(shù)量優(yōu)選為四個。
9、優(yōu)選地，所述修整片由位于中心位置的樹脂和設置在樹脂外周的金剛砂組合而成。
10、優(yōu)選地，所述裝置還包括噴水冷卻裝置，在修整操作運行時向修整片與磨削砂輪的接觸部位噴射純水，進行對摩擦產生灰粒的清洗和對摩擦產生熱量的冷卻。
11、一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的方法，使用所述裝置進行磨削砂輪表面修整，將兩個磨削砂輪分別安裝在靜壓支撐盤上，并置于修整片前后兩側；支撐輥輪繞各自的中心軸線同時同向旋轉帶動修整片繞其中心軸線自轉，使磨削砂表面與修整片表面接觸；通過距離監(jiān)測單元控制砂輪進給的距離。
12、本專利技術的有益效果：
13、本專利技術提供了一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置和方法，主要針對晶圓磨削設備新磨削砂輪表面粗糙、傾斜及連續(xù)加工造成的磨削砂輪表面磨損的修整。與傳統(tǒng)修整裝置相比，本專利技術的裝置包括用于監(jiān)測磨削砂輪修整位置的距離傳感器及可替換的修整片，距離傳感器使磨削砂輪在固定安全距離內向修整片移動以對磨削砂輪進行修整，由此，能夠保證磨削砂輪修整均勻性；如果修整片消耗嚴重則可根據(jù)實際情況更換修整片，而不需要改動整個磨削裝置；也可依次使用不同修整能力的修整片，以多次遞進修整的方式如先粗修再精修的方式對需要修整的磨削砂輪進行修整，從而使修整后的磨削砂輪加工的產品質量得到進一步提高。
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1.一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，該裝置包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述修整片以可拆卸的方式安裝在至少三個支撐輥輪之間。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述支撐輥輪的數(shù)量為四個。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述修整片由位于中心位置的樹脂和設置在樹脂外周的金剛砂組合而成。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述裝置還包括噴水冷卻裝置，在修整操作運行時向修整片與磨削砂輪的接觸部位噴射純水，進行對摩擦產生灰粒的清洗和對摩擦產生熱量的冷卻。
6.一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的方法，其特征在于，使用權利要求1~5中任一項所述的裝置進行磨削砂輪表面修整，將兩個磨削砂輪分別安裝在靜壓支撐盤上，并置于修整片前后兩側；支撐輥輪繞各自的中心軸線同時同向旋轉帶動修整片繞其中心軸線自轉，使磨削砂表面與修整片表面接觸；通過
...【技術特征摘要】
1.一種用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，該裝置包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述修整片以可拆卸的方式安裝在至少三個支撐輥輪之間。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述支撐輥輪的數(shù)量為四個。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的用于雙面磨削砂輪表面平整度修整的裝置，其特征在于，所述修整片由位于中心位置的樹脂和設置在樹脂外周的金剛砂組合而成。
5.根據(jù)權利要求...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：鄧文科，李洋，路一辰，閆志瑞，肖清華，
申請(專利權)人：山東有研艾斯半導體材料有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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