【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于鍍件表面處理，具體是指一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置及其使用方法。
技術介紹
1、電鍍前處理是電鍍加工中不可或缺的一環，它直接關系到電鍍層的質量和鍍件的最終性能。如果前處理不當，可能會導致鍍層出現針孔、剝落、起泡等缺陷，嚴重影響產品的質量和使用壽命。因此，在電鍍加工中，必須重視鍍件的表面處理工作，確保前處理工藝的完善性和可靠性。
2、目前現有的鍍件表面處理裝置存在以下問題：
3、現有的鍍件表面處理裝置在對鍍件進行化學處理時，酸性溶液會產生大量的揮發氣體飄散在空氣中，影響作業人員的健康安全，且傳統的鍍件化學處理裝置，在對鍍件表面進行化學處理時，化學溶液的濃度會逐漸的降低，進而影響化學溶液對鍍件表面的處理效率，因此，不能夠滿足現有對鍍件表面處理裝置的使用需求。
技術實現思路
1、針對上述情況，為克服現有技術的缺陷，本方案提供了一種能夠對加溫后的酸性溶液揮發的氣體進行回收利用，且能夠彌補酸液中摻水后酸度降低問題的電鍍加工用鍍件表面處理裝置及其使用方法。
2、本方案采取的技術方案如下：本方案提出的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，包括處理臺、鹽酸筒、旋動型定位機構、循環型率雜機構和集氣型消酸機構，所述鹽酸筒貫穿設于處理臺內壁，所述旋動型定位機構設于處理臺側壁，所述循環型率雜機構設于鹽酸筒底壁，所述集氣型消酸機構設于鹽酸筒上壁，所述旋動型定位機構包括固定機構、旋動機構和打磨機構，所述固定機構設于處理臺遠離鹽酸筒的一端，所述旋動機構設于處理臺外側
3、作為本案方案進一步的優選，所述固定機構包括處理筒、密封磁板和凹型防滑塊，多組所述處理筒設于處理臺側壁，處理筒為上端開口設置，所述密封磁板設于處理筒上壁，密封磁板通過磁力吸附在處理筒上壁，所述凹型防滑塊分別設于密封磁板底壁和處理筒底部內壁；所述旋動機構包括旋動筒、三相線圈和驅動磁體，所述旋動筒貫穿設于處理筒內壁，旋動筒轉動設于處理筒內壁，多組所述三相線圈設于旋動筒外側，多組所述驅動磁體設于處理筒靠近旋動筒的一端內壁，三相線圈與驅動磁體水平相對設置；所述打磨機構包括通酸板和耐酸磨料層，多組所述通酸板設于處理筒與旋動筒內壁之間，所述耐酸磨料層設于通酸板遠離處理筒和旋動筒內壁的一側。
4、使用時，密封磁板從處理筒的上壁拿下，將待處理的軸類鍍件放置到處理筒底部的凹型防滑塊上壁，軸類鍍件放置到處理筒內部與耐酸磨料層貼合，密封磁板復位至處理筒上壁，密封磁板通過磁力吸附在處理筒上壁，待處理的軸類鍍件被夾持在凹型防滑塊之間，三相線圈通電產生磁性，旋動筒在三相線圈與驅動磁體之間磁場的作用力下發生圓周轉動，旋動筒通過通酸板帶動耐酸磨料層對軸類鍍件側壁的氧化皮和銹跡進行去除。
5、優選地，所述抽液機構包括抽液泵、送液管、彈簧管和搪瓷加熱棒，多組所述抽液泵設于鹽酸筒上壁，抽液泵抽液端貫穿設于鹽酸筒內部，所述送液管設于抽液泵排液端，所述彈簧管連通設于送液管與密封磁板之間，所述搪瓷加熱棒設于鹽酸筒側壁，搪瓷加熱棒加熱端貫穿設于鹽酸筒內部；所述排液機構包括支撐管、回流筒和排液管，所述支撐管設于鹽酸筒底壁，所述回流筒設于支撐管底壁，回流筒與支撐管連通，所述排液管連通設于處理筒底壁與回流筒上部側壁之間；所述濾雜機構包括過濾網、濾雜泵和循環管，所述濾雜泵貫穿處理臺設于鹽酸筒側壁，濾雜泵排液端貫穿設于鹽酸筒內部，所述循環管連通設于回流筒底部側壁與濾雜泵抽液端之間，所述過濾網設于排液管與循環管之間的回流筒內壁。
6、使用時，搪瓷加熱棒對鹽酸筒內部的鹽酸進行加熱，加快鹽酸對軸類鍍件的酸洗速度，抽液泵通過抽液端抽取鹽酸筒內部的鹽酸液體，鹽酸液體通過送液管經過彈簧管流入到處理筒和旋動筒內部，處理筒和旋動筒內部的鹽酸液體液面不斷地上升，軸類鍍件被完全浸泡在鹽酸液體中，軸類鍍件表面的氧化皮和銹跡在鹽酸液體的化學處理下脫落，隨著通酸板帶動耐酸磨料層與軸類鍍件表面的摩擦，能夠快速的清除軸類鍍件表面的氧化雜質，處理筒和旋動筒內部的鹽酸液體通過排液管流入到回流筒內部，處理筒和旋動筒內部輸送到回流筒內部的鹽酸液體經過過濾網的過濾后落入到回流筒的底部，隨后濾雜泵通過循環管將過濾后的鹽酸液體抽回到鹽酸筒內部。
7、具體地，所述儲氣機構包括儲氣架和儲氣筒，所述儲氣架設于鹽酸筒上壁，所述儲氣筒設于儲氣架遠離鹽酸筒的一端；所述反應機構包括排氣泵、排氣管和排氣閥，所述排氣泵設于儲氣筒頂部側壁，排氣泵抽氣端貫穿設于儲氣筒內部，所述排氣管連通設于排氣泵排氣端與支撐管之間，所述排氣閥連通設于支撐管側壁。
8、使用時，鹽酸溫度升高會加快其揮發，鹽酸揮發時，會釋放出氯化氫氣體影響作業人員的健康安全，因此，需要對產生的氯化氫氣體的濃度進行降解，氯化氫氣體本身是一種酸性氣體，溶于水后會形成鹽酸，具有酸性，從軸類鍍件表面脫落的氧化皮與銹跡被過濾網攔截在回流筒的上部空間內，排氣泵通過抽氣端抽取儲氣筒內部的氯化氫氣體，儲氣筒內部的氯化氫氣體通過排氣管進入到支撐管內部，支撐管內部的氯化氫氣體排入到回流筒內部與存放在過濾網上壁的氧化皮和銹跡接觸，由于氧化皮和銹跡接觸的表面存留有鹽酸，鹽酸與氧化皮和銹跡反應會產生水分，當進入到回流筒內部的氯化氫氣體與氧化皮和銹跡表面的水分接觸時形成鹽酸，降低鹽酸液體中揮發的氯化氫氣體濃度。
9、優選地，所述鹽酸筒側壁設有控制器。
10、進一步地，所述控制器分別與三相線圈、抽液泵、濾雜泵和排氣泵電性連接。
11、一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置的使用方法，步驟如下：
12、步驟一：軸類鍍件放置到處理筒內部與耐酸磨料層貼合，密封磁板復位至處理筒上壁，密封磁板通過磁力吸附在處理筒上壁，待處理的軸類鍍件被夾持在凹型防滑塊之間，三相線圈通電產生磁性，旋動筒在三相線圈與驅動磁體之間磁場的作用力下發生圓周轉動；
13、步驟二：搪瓷加熱棒對鹽酸筒內部的鹽酸進行加熱，加快鹽酸對軸類鍍件的酸洗速度，抽液泵通過抽液端抽取鹽酸筒內部的鹽酸液體，鹽酸液體通過送液管經過彈簧管流入到處理筒和旋動筒內部，處理筒和旋動筒內部的鹽酸液體液面不斷地上升，軸類鍍件被完全浸泡在鹽酸液體中，軸類鍍件表面的氧化皮和銹跡在鹽酸液體的化學處理下脫落；
14、步驟三：排氣泵通過抽氣端抽取儲氣筒內部的氯化氫氣體，儲氣筒內部的氯化氫氣體通過排氣管進入到支撐管內部，支撐管內部的氯化氫氣體排入到回流筒內部與存放在過濾網上壁的氧化皮和銹跡接觸。
15、采用上述結構本方案取得的有益效果如下：
16、與現有技術相比，本方案采用加熱化學處理液體與收集揮發酸氣相結合的方式，通過設置的旋動型定位機構、循環型率雜機構和集氣型消酸機構，在固定機本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，包括處理臺（1）和鹽酸筒（2），其特征在于：還包括旋動型定位機構（3）、循環型率雜機構（15）和集氣型消酸機構（28），所述鹽酸筒（2）貫穿設于處理臺（1）內壁，所述旋動型定位機構（3）設于處理臺（1）側壁，所述循環型率雜機構（15）設于鹽酸筒（2）底壁，所述集氣型消酸機構（28）設于鹽酸筒（2）上壁，所述旋動型定位機構（3）包括固定機構（4）、旋動機構（8）和打磨機構（12），所述固定機構（4）設于處理臺（1）遠離鹽酸筒（2）的一端，所述旋動機構（8）設于處理臺（1）外側，所述打磨機構（12）設于固定機構（4）內部，所述循環型率雜機構（15）包括抽液機構（16）、排液機構（20）和濾雜機構（24），所述抽液機構（16）設于鹽酸筒（2）上壁，所述排液機構（20）設于鹽酸筒（2）底壁，所述濾雜機構（24）設于鹽酸筒（2）側壁，所述集氣型消酸機構（28）包括儲氣機構（29）和反應機構（32），所述儲氣機構（29）設于鹽酸筒（2）上壁，所述反應機構（32）設于儲氣機構（29）側壁。
2.根據權利要求1所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，
3.根據權利要求2所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述旋動機構（8）包括旋動筒（9）、三相線圈（10）和驅動磁體（11），所述旋動筒（9）貫穿設于處理筒（5）內壁，旋動筒（9）轉動設于處理筒（5）內壁，多組所述三相線圈（10）設于旋動筒（9）外側，多組所述驅動磁體（11）設于處理筒（5）靠近旋動筒（9）的一端內壁，三相線圈（10）與驅動磁體（11）水平相對設置。
4.根據權利要求3所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述打磨機構（12）包括通酸板（13）和耐酸磨料層（14），多組所述通酸板（13）設于處理筒（5）與旋動筒（9）內壁之間，所述耐酸磨料層（14）設于通酸板（13）遠離處理筒（5）和旋動筒（9）內壁的一側。
5.根據權利要求4所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述抽液機構（16）包括抽液泵（17）、送液管（18）、彈簧管（19）和搪瓷加熱棒（37），多組所述抽液泵（17）設于鹽酸筒（2）上壁，抽液泵（17）抽液端貫穿設于鹽酸筒（2）內部，所述送液管（18）設于抽液泵（17）排液端，所述彈簧管（19）連通設于送液管（18）與密封磁板（6）之間，所述搪瓷加熱棒（37）設于鹽酸筒（2）側壁，搪瓷加熱棒（37）加熱端貫穿設于鹽酸筒（2）內部。
6.根據權利要求5所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述排液機構（20）包括支撐管（21）、回流筒（22）和排液管（23），所述支撐管（21）設于鹽酸筒（2）底壁，所述回流筒（22）設于支撐管（21）底壁，回流筒（22）與支撐管（21）連通，所述排液管（23）連通設于處理筒（5）底壁與回流筒（22）上部側壁之間。
7.根據權利要求6所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述濾雜機構（24）包括過濾網（25）、濾雜泵（26）和循環管（27），所述濾雜泵（26）貫穿處理臺（1）設于鹽酸筒（2）側壁，濾雜泵（26）排液端貫穿設于鹽酸筒（2）內部，所述循環管（27）連通設于回流筒（22）底部側壁與濾雜泵（26）抽液端之間，所述過濾網（25）設于排液管（23）與循環管（27）之間的回流筒（22）內壁。
8.根據權利要求7所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述儲氣機構（29）包括儲氣架（30）和儲氣筒（31），所述儲氣架（30）設于鹽酸筒（2）上壁，所述儲氣筒（31）設于儲氣架（30）遠離鹽酸筒（2）的一端。
9.根據權利要求8所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述反應機構（32）包括排氣泵（33）、排氣管（34）和排氣閥（35），所述排氣泵（33）設于儲氣筒（31）頂部側壁，排氣泵（33）抽氣端貫穿設于儲氣筒（31）內部，所述排氣管（34）連通設于排氣泵（33）排氣端與支撐管（21）之間，所述排氣閥（35）連通設于支撐管（21）側壁。
10.根據權利要求9所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置的使用方法，其特征在于：
...【技術特征摘要】
1.一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，包括處理臺（1）和鹽酸筒（2），其特征在于：還包括旋動型定位機構（3）、循環型率雜機構（15）和集氣型消酸機構（28），所述鹽酸筒（2）貫穿設于處理臺（1）內壁，所述旋動型定位機構（3）設于處理臺（1）側壁，所述循環型率雜機構（15）設于鹽酸筒（2）底壁，所述集氣型消酸機構（28）設于鹽酸筒（2）上壁，所述旋動型定位機構（3）包括固定機構（4）、旋動機構（8）和打磨機構（12），所述固定機構（4）設于處理臺（1）遠離鹽酸筒（2）的一端，所述旋動機構（8）設于處理臺（1）外側，所述打磨機構（12）設于固定機構（4）內部，所述循環型率雜機構（15）包括抽液機構（16）、排液機構（20）和濾雜機構（24），所述抽液機構（16）設于鹽酸筒（2）上壁，所述排液機構（20）設于鹽酸筒（2）底壁，所述濾雜機構（24）設于鹽酸筒（2）側壁，所述集氣型消酸機構（28）包括儲氣機構（29）和反應機構（32），所述儲氣機構（29）設于鹽酸筒（2）上壁，所述反應機構（32）設于儲氣機構（29）側壁。
2.根據權利要求1所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述固定機構（4）包括處理筒（5）、密封磁板（6）和凹型防滑塊（7），多組所述處理筒（5）設于處理臺（1）側壁，處理筒（5）為上端開口設置，所述密封磁板（6）設于處理筒（5）上壁，密封磁板（6）通過磁力吸附在處理筒（5）上壁，所述凹型防滑塊（7）分別設于密封磁板（6）底壁和處理筒（5）底部內壁。
3.根據權利要求2所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述旋動機構（8）包括旋動筒（9）、三相線圈（10）和驅動磁體（11），所述旋動筒（9）貫穿設于處理筒（5）內壁，旋動筒（9）轉動設于處理筒（5）內壁，多組所述三相線圈（10）設于旋動筒（9）外側，多組所述驅動磁體（11）設于處理筒（5）靠近旋動筒（9）的一端內壁，三相線圈（10）與驅動磁體（11）水平相對設置。
4.根據權利要求3所述的一種電鍍加工用鍍件表面處理裝置，其特征在于：所述打磨機構（12）包括通酸板（13）和耐酸磨料層（14），多組所述通酸板（13）設于處理筒（5）與旋動筒（9）內壁之間，所述耐酸磨料層（14）設于通酸板（13）遠離處...
【專利技術屬性】
技術研發人員：沈華，林碎勇，吳陳根，葛文杰，陳艷，張美娟，李慧娟，
申請(專利權)人：江蘇安泰金屬表面處理科技發展有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。