【技術實現步驟摘要】
本申請適用于電子霧化設備，更具體地說，是涉及一種電子霧化設備的氣道結構優化方法、裝置、介質及設備。
技術介紹
1、在電子霧化設備領域，氣道設計直接關乎霧化口感與霧化壽命，因此氣道設計至關重要。
2、然而，電子霧化設備氣道包含眾多結構件，其中任何一個結構件的變動都會對氣道氣流產生顯著影響。而且，電子霧化設備自身體積較小，難以通過傳統實驗方法研究和觀測氣道氣流形態。此外，依賴經驗嘗試來調試電子霧化設備氣道，工作量大且效率低下。
3、當前，大部分電子霧化設備氣流仿真工作僅僅停留在對氣流形態的描述層面，缺乏氣道優劣評判標準，導致電子霧化設備氣道設計缺乏科學、高效的方法，進而難以提升電子霧化設備的霧化質量與使用體驗。
技術實現思路
1、本申請實施例的目的在于提供一種電子霧化設備的氣道結構優化方法、裝置、介質及設備，旨在解決現有的電子霧化設備氣道設計缺乏氣道優劣評判標準，難以提升電子霧化設備的霧化質量的技術問題。
2、為實現上述目的，根據本申請的第一個方面，提供了一種電子霧化設備的氣道結構優化方法，該方法包括：
3、對電子霧化設備的氣道結構進行計算流體動力學cfd仿真分析，得到cfd仿真分析結果；
4、基于所述cfd仿真分析結果，確定所述電子霧化設備的發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息；
5、根據所述發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化。
6、可選地，
7、提取與所述電子霧化設備的氣道結構對應的氣道三維模型的流體域，其中，所述氣道三維模型為采用三維建模工具預先建立的與所述氣道結構對應的三維模型；
8、采用cfd物理計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果；
9、若所述流場計算結果指示所述流場收斂，則在所述氣道結構內對霧化液顆粒通過所述流場的過程進行仿真，得到所述cfd仿真分析結果。
10、可選地，在第一方面的一種可能的實現方式中，在采用穩態計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
11、采用網格劃分工具對所述流體域進行網格劃分，得到多個所述流場，其中，所述網格劃分包括面網格劃分和/或體網格劃分；以及
12、設定與所述氣道三維模型對應的邊界條件，其中，所述邊界條件包括：氣道結構的入口壓力和出口流速。
13、可選地，在第一方面的一種可能的實現方式中，在采用cfd物理計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
14、若所述流場計算結果指示所述流場不收斂，則修改所述cfd物理計算模型的模型參數或者更換新的cfd物理計算模型，重新對所述流場進行計算，直至所述流場收斂。
15、可選地，在第一方面的一種可能的實現方式中，所述基于所述cfd仿真分析結果，確定所述電子霧化設備的發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，包括：
16、根據所述發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的幾何坐標范圍，篩選所述cfd仿真分析結果中與所述近霧化面區域相關的參數數據，其中，所述參數數據包括如下至少之一：氣流流速、標準差、壓力差、流體密度；
17、根據與所述近霧化面區域相關的參數數據，確定所述流速分布信息。
18、可選地，在第一方面的一種可能的實現方式中，所述根據所述發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化，包括：
19、若所述流速分布信息指示所述近霧化面區域的流速分布不均勻，則對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化，其中，對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化的優化方式包括如下至少之一：去除所述氣道結構中的吸油棉、去除所述氣道結構中硅膠底座的凸臺旋轉結構。
20、根據本申請的第二個方面，提供了一種電子霧化設備的氣道結構優化裝置，包括：
21、仿真分析單元，用于對電子霧化設備的氣道結構進行計算流體動力學cfd仿真分析，得到cfd仿真分析結果；
22、確定單元，用于基于所述cfd仿真分析結果，確定所述電子霧化設備的發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息；
23、優化單元，用于根據所述發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化。
24、第二個方面以及第二個方面的任意一種實現方式分別與第一個方面以及第一個方面的任意一種實現方式相對應。第二個方面以及第二個方面的任意一種實現方式所對應的技術效果可參見上述第一個方面以及第一個方面的任意一種實現方式所對應的技術效果，此處不再贅述。
25、第三方面，本申請實施例提供了一種電子霧化設備，包括存儲器、處理器以及存儲在所述存儲器中并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述計算機程序時實現任一項所述的方法。
26、可選地，在第一方面的一種可能的實現方式中，所述電子霧化設備的氣道結構包括：
27、吸嘴、吸油棉、上密封硅膠、玻纖管、油杯、儲油棉、發熱片、導油棉、霧化底座、硅膠底座、下支架包裹的空腔部分；其中，所述下支架設置有進氣孔，所述硅膠底座為去除凸臺旋轉結構的底座。
28、第四方面，本申請實施例提供了一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現如任一項所述的方法。
29、第五方面，本申請實施例提供了一種計算機程序產品，當計算機程序產品在電子設備上運行時，使得電子設備執行上述第一方面中任一項所述的方法。
30、可以理解的是，上述第二方面至第五方面的有益效果可以參見上述第一方面中的相關描述，在此不再贅述。
31、本申請實施例提供一種電子霧化設備的氣道結構優化方法、裝置、介質及設備，該提供一種電子霧化設備的氣道結構優化方法，首先，對電子霧化設備的氣道結構進行計算流體動力學cfd仿真分析，得到cfd仿真分析結果，可以實現在計算機環境中模擬氣道內氣流的流動情況，無需直接對實體電子霧化設備進行復雜的實驗操作。
32、然后，基于此cfd仿真分析結果，確定電子霧化設備的關鍵區域，即發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，將該流速分布信息作為評判氣道設計優劣的重要指標。
33、由于在進行cfd仿真分析時，仿真分析的具體是電子霧化設備的整個氣道結構，包括所有相關的結構件，仿真過程能夠模擬出不同結構件對氣流的綜合影響。因此，最后根據流速分布信息，對電子霧化設備的氣道結構進行氣道結構優化，可以全面地考慮各個結構件對氣流的影響，而不是孤立地看待某個結構件的改變，從而更有效地對氣道結構進行優化，以保證電子霧化設備的霧化口感和霧化本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種電子霧化設備的氣道結構優化方法，其特征在于，包括：
2.據權利要求1所述的方法，其特征在于，對電子霧化設備的氣道結構進行計算流體動力學CFD仿真分析，得到CFD仿真分析結果，包括：
3.權利要求2所述的方法，其特征在于，在采用穩態計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
4.權利要求2所述的方法，其特征在于，在采用CFD物理計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
5.權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述CFD仿真分析結果，確定所述電子霧化設備的發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，包括：
6.權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，對所述電子霧化設備的氣道結構進行優化，包括：
7.一種電子霧化設備的氣道結構優化裝置，其特征在于，包括：
8.一種電子霧化設備，包括存儲器、處理器以及存儲在所述存儲器中并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述
9.根據權利要求8所述的電子霧化設備，其特征在于，所述電子霧化設備的氣道結構包括：
10.一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1至6任一項所述的方法。
...【技術特征摘要】
1.一種電子霧化設備的氣道結構優化方法，其特征在于，包括：
2.據權利要求1所述的方法，其特征在于，對電子霧化設備的氣道結構進行計算流體動力學cfd仿真分析，得到cfd仿真分析結果，包括：
3.權利要求2所述的方法，其特征在于，在采用穩態計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
4.權利要求2所述的方法，其特征在于，在采用cfd物理計算模型對所述流體域的流場進行計算，得到流場計算結果之前，所述方法還包括：
5.權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述cfd仿真分析結果，確定所述電子霧化設備的發熱片中心徑向截面的近霧化面區域的流速分布信息，包括：
6.權...
【專利技術屬性】
技術研發人員：請求不公布姓名，羅文，段紅星，
申請(專利權)人：深圳市基克納科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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