【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及光刻，更具體的，涉及：1、一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；2、一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法。
技術(shù)介紹
1、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)是光刻系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)之一，是影響光刻分辨率的重要因素。
2、而光學(xué)對(duì)準(zhǔn)最重要的部分就是：晶圓和掩膜之間的高精度對(duì)準(zhǔn)。通常情況下，晶圓和掩膜之間會(huì)發(fā)生平移、旋轉(zhuǎn)、跳動(dòng)誤差。其中，旋轉(zhuǎn)、平移錯(cuò)位主要是由晶圓和掩膜兩平面之間的相對(duì)狀態(tài)決定的，極大的影響著對(duì)準(zhǔn)精度，只要將錯(cuò)位控制在精度要求范圍內(nèi)，即可保證光刻精度。
3、為了實(shí)現(xiàn)對(duì)準(zhǔn)，一般會(huì)在晶圓和掩膜設(shè)計(jì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，例如將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)計(jì)成圓光柵——利用圓光柵對(duì)準(zhǔn)時(shí)會(huì)產(chǎn)生圓形莫爾條紋作為依據(jù)來(lái)判別是否對(duì)準(zhǔn)。但專利技術(shù)人經(jīng)過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，圓光柵對(duì)準(zhǔn)產(chǎn)生的圓形莫爾條紋是對(duì)稱的、各向同性的，如圖1所示：圖1中(a)區(qū)域即展示了圓光柵中心未對(duì)準(zhǔn)時(shí)出現(xiàn)的莫爾條紋，其中心附近并不是各向同性的；圖1中(b)區(qū)域即展示了圓光柵中心對(duì)準(zhǔn)時(shí)出現(xiàn)的莫爾條紋，其是對(duì)稱的、各向同性的。
4、然而，若晶圓和掩膜發(fā)生了以圓光柵中心為原點(diǎn)的相對(duì)旋轉(zhuǎn)，那么圓光柵依然會(huì)產(chǎn)生圓形莫爾條紋，但實(shí)際上晶圓和掩膜是未對(duì)準(zhǔn)的、兩者發(fā)生了角位移，會(huì)造成對(duì)準(zhǔn)誤差，影響到光刻精度。因此，如何修正角位移就成為了需要解決的難題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、基于此，有必要針對(duì)現(xiàn)有僅采用圓光柵作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)不能消除角位移造成的誤差的問(wèn)題，提供了一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、對(duì)準(zhǔn)方法。
2、本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：
3、第一方面，本專利技術(shù)公開(kāi)了一種雙光
4、第一標(biāo)記組設(shè)置在晶圓上；第一標(biāo)記組包括：1個(gè)圓光柵a1、2個(gè)長(zhǎng)光柵b1～b2；b1、b2位于a1的外圍；b1最靠近a1的邊為b1；b1的中線穿過(guò)a1的中心，且a1的中心與b1之間的距離為l1；b2最靠近a1的邊為b2；b2的中線穿過(guò)a1的中心，且a1的中心與b2之間的距離為l2；b1的中線與b2的中線垂直。
5、第二標(biāo)記組設(shè)置在掩膜上；第二標(biāo)記組包括：1個(gè)圓光柵a2、2個(gè)長(zhǎng)光柵b3～b4；b3、b4位于a2的外圍；b3最靠近a2的邊為b3；b3的中線穿過(guò)a2的中心，且a2的中心與b3之間的距離為l3；b4最靠近a2的邊為b4；b4的中線穿過(guò)a2的中心，且a2的中心與b4之間的距離為l4；b3的中線與b4的中線垂直。
6、其中，a1、a2用于實(shí)現(xiàn)粗對(duì)準(zhǔn)；
7、l1＝l3；b1、b3用于實(shí)現(xiàn)x方向的精對(duì)準(zhǔn)和消除旋轉(zhuǎn)錯(cuò)位；
8、l2＝l4；b2、b4用于實(shí)現(xiàn)y方向的精對(duì)準(zhǔn)和消除旋轉(zhuǎn)錯(cuò)位；
9、a1的周期為q1；a2的周期為q2；
10、a1的間隙為q1；a2的周期為q2；
11、b1、b2的周期均為p1；b3、b4的周期均為p2；
12、b1、b2的間隙均為p1；b3、b4的間隙均為p2；
13、q1、q2、q1、q2、p1、p2、p2、p3滿足：
14、1.05≤q1/q2≤1.15、1.05≤p1/p2≤1.15、q1/q1＝q2/q2、p1/p1＝p2/p2；
15、或，1.05≤q2/q1≤1.15、1.05≤p2/p1≤1.15、q1/q1＝q2/q2、p1/p1＝p2/p2。
16、該種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例的方法或過(guò)程。
17、第二方面，本專利技術(shù)公開(kāi)了一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法，其應(yīng)用在如第一方面公開(kāi)的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
18、雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法包括：
19、所述雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法包括：
20、s1，使晶圓與掩膜呈上下疊放，保持掩膜不動(dòng)、移動(dòng)晶圓，直至a1和a2完成粗對(duì)準(zhǔn)；
21、s2，在保持a1圓心不動(dòng)的情況下沿單一方向轉(zhuǎn)動(dòng)晶圓，直至沿上下方向觀察掩膜時(shí)出現(xiàn)兩處條形莫爾條紋；
22、s3，將任一處的條形莫爾條紋與其所處的長(zhǎng)光柵相比，以判斷該處條形莫爾條紋是否傾斜；
23、是，則進(jìn)行s4；
24、否，則進(jìn)行s7；
25、s4，獲取s3中條形莫爾條紋的圖像，并對(duì)其進(jìn)行圖像處理以得到該處條形莫爾條紋的周期pm；
26、s5，基于pm、p1、p2計(jì)算得到偏差角δθ；
27、其中，
28、s6，在保持a1圓心不動(dòng)的情況下依據(jù)δθ轉(zhuǎn)動(dòng)晶圓，即消除旋轉(zhuǎn)錯(cuò)位；
29、s7，沿x方向、y方向移動(dòng)晶圓，直至b1和b3完成x方向的精對(duì)準(zhǔn)、b2和b4完成y方向的精對(duì)準(zhǔn)。
30、該種雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例的方法或過(guò)程。
31、第三方面，本專利技術(shù)公開(kāi)了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序。該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如第二方面公開(kāi)的雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法的步驟。
32、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)具備如下有益效果：
33、本專利技術(shù)提供了一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，一方面利用圓光柵實(shí)現(xiàn)粗對(duì)準(zhǔn)，利用垂直設(shè)置的長(zhǎng)光柵分別進(jìn)行x方向、y方向的精對(duì)準(zhǔn)，另一方面基于長(zhǎng)光柵未對(duì)準(zhǔn)時(shí)形成的傾斜條形莫爾條紋計(jì)算出偏差角δθ，從而對(duì)晶圓進(jìn)行調(diào)整使其能與掩膜實(shí)現(xiàn)完全對(duì)準(zhǔn)、并有效提高兩者的對(duì)準(zhǔn)精度。
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1.一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，Q1、Q2、P1、P2均小于10μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，A1包括：若干個(gè)同心的、等距變化設(shè)置的圓形狹縫；
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，B1包括：若干個(gè)高度相同、寬度相同、等距間隔設(shè)置的條形狹縫；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，B1、B3中的條形狹縫的高度均為h1；B2、B4中的條形狹縫的高度均為h2。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，B1、B2的總寬度均為l1，B3、B4的總寬度均為l2。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，L1＝L2；
8.一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，其應(yīng)用在如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，
10.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，q1、q2、p1、p2均小于10μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，a1包括：若干個(gè)同心的、等距變化設(shè)置的圓形狹縫；
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，b1包括：若干個(gè)高度相同、寬度相同、等距間隔設(shè)置的條形狹縫；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙光柵對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其特征在于，b1、b3中的條形狹縫的高度均為h1；b2、b4中的條形狹縫的高度均為...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：夏豪杰，許非凡，賀潔，朱梓旭，方青林，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：合肥工業(yè)大學(xué)，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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