【技術實現步驟摘要】
本公開涉及顯示，特別涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。
技術介紹
1、隨著顯示技術的進步，同時兼有反射和透射功能的半透半反式液晶顯示(liquidcrystal?display，lcd)面板應運而生，其可以在高亮度環境下使用反射模式發光，在低亮度環境下使用透射模式發光，確保不同場景下的清晰顯示。
2、相關技術中，半透半反式lcd面板一般包括：相對設置的陣列(array)基板和彩膜(color?filter，cf)基板，以及位于array基板和cf基板之間的液晶層，液晶層中的液晶分子能夠在的array基板和cf基板的驅動下發生偏轉，從而實現反射或是透射顯示。并且，cf基板一側還會設置黑矩陣(black?matrix，bm)作為遮光層來防止顯示時漏光。
3、但是，在cf基板一側設置bm會導致反射開口率降低，進而導致半透半反式lcd面板的顯示亮度較差，造成顯示效果較差。
技術實現思路
1、提供了一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置，可以解決相關技術中因在cf基板一側設置bm而導致反射開口率降低，造成顯示效果較差的問題。
2、所述技術方案如下：
3、一方面，提供了一種顯示基板，所述顯示基板包括：相對設置的陣列基板和對置基板；所述對置基板包括：第一公共電極；所述陣列基板包括：
4、襯底；
5、間隔設置的多個像素，位于所述襯底靠近所述對置基板的一側；其中，所述像素包括鄰接的反射區和透射區；在所述反射區和所述透射區，所述
6、至少一層遮光層，位于相鄰兩個像素的反射層的間隔區；其中，所述至少一層遮光層在所述襯底上的正投影覆蓋所述間隔區在所述襯底上的正投影，所述反射層在所述襯底上的正投影與所述至少一層遮光層在所述襯底上的正投影交疊，以在所述間隔區形成遮光結構；并且，在黑態顯示時，所述至少一層遮光層中靠近所述對置基板的遮光層與所述第一公共電極的電位相同。
7、可選的，所述至少一層遮光層與所述像素包括的導電層共用。
8、可選的，所述像素包括的柵導電層用于形成：柵線，所述像素包括的透明導電層用于形成：第二公共電極；
9、其中，所述陣列基板包括兩層遮光層，且所述兩層遮光層分別與所述柵線和所述第二公共電極共用。
10、可選的，所述像素包括的柵導電層用于形成：第二公共電極；
11、其中，所述陣列基板包括一層遮光層，且所述一層遮光層與所述第二公共電極共用。
12、可選的，所述陣列基板包括一層遮光層，且所述一層遮光層與所述像素包括的源漏導電層共用。
13、可選的，所述像素包括的柵導電層還用于形成：柵線；
14、其中，所述反射層在所述襯底上的正投影覆蓋所述柵線在所述襯底上的正投影。
15、可選的，所述柵線的線寬小于線寬閾值，以使得所述反射層在所述襯底上的正投影覆蓋所述柵線在所述襯底上的正投影。
16、可選的，所述線寬閾值為5微米。
17、可選的，所述顯示基板還包括：
18、支撐柱，位于所述顯示基板與所述對置基板之間；
19、黑矩陣，位于所述支撐柱與所述陣列基板之間，且所述黑矩陣在所述襯底上的正投影與所述柵導電層形成的柵線在所述襯底上的正投影交疊。
20、可選的，所述像素還包括像素電路區，所述像素電路區、所述反射區和所述透射區依次鄰接；所述對置基板包括：與所述間隔設置的多個像素一一對應的間隔設置的多個濾光部；
21、其中，所述濾光部包括：對應所述透射區的第一部分、對應所述反射區的第二部分和對應所述像素電路區的第三部分；
22、并且，所述第一部分在所述襯底上的正投影覆蓋所述像素的透射區在所述襯底上的正投影，所述第二部分在所述襯底上的正投影位于所述像素的反射區在所述襯底上的正投影內，所述第三部分在所述襯底上的正投影位于所述像素的像素電路區在所述襯底上的正投影內。
23、可選的，所述第一部分的尺寸大于所述第三部分的尺寸，所述第三部分的尺寸大于所述第二部分的尺寸。
24、可選的，在所述反射區和所述透射區，所述像素還包括：位于所述透明導電層與所述襯底之間，且依次層疊的柵絕緣層和鈍化層；在所述反射區，所述柵絕緣層位于所述柵導電層與所述源漏導電層之間，所述鈍化層位于所述源漏導電層與所述透明導電層之間，且所述像素還包括：位于所述透明導電層與所述反射層之間的凹凸層；
25、其中，所述反射層和所述凹凸層均具有暴露所述透射區的開口，以使得所述透明導電層在所述透射區暴露，且所述反射層沿所述開口與所述透明導電層搭接，所述透明導電層還通過貫穿所述鈍化層的過孔與所述源漏導電層搭接。
26、可選的，所述凹凸層的材料包括：亞克力；所述反射層的材料包括：鋁和銀中的至少一種；所述透明導電層的材料包括：氧化銦錫。
27、另一方面，提供了一種顯示基板的制備方法，用于制備如上述一方面所述的顯示基板；所述方法包括：
28、形成對置基板，所述對置基板包括：第一公共電極；
29、在所述對置基板相對一側形成襯底；
30、在所述襯底靠近所述對置基板的一側形成間隔設置的多個像素，且形成的像素包括鄰接的反射區和透射區；在所述反射區和所述透射區，所述像素均包括：位于所述襯底一側的透明導電層；在所述反射區，所述像素還包括：位于所述透明導電層與所述襯底之間且依次層疊的柵導電層和源漏導電層，以及位于所述透明導電層遠離所述襯底一側的反射層；
31、在相鄰兩個像素的反射層的間隔區形成至少一層遮光層，且形成的至少一層遮光層在所述襯底上的正投影覆蓋所述間隔區在所述襯底上的正投影，所述反射層在所述襯底上的正投影與所述至少一層遮光層在所述襯底上的正投影交疊，以在所述間隔區形成遮光結構；并且，在黑態顯示時，靠近所述對置基板的遮光層與所述第一公共電極的電位相同。
32、又一方面，提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：供電組件，以及如上述一方面所述的顯示基板；
33、其中，所述供電組件與所述顯示基板耦接，并用于為所述顯示基板供電。
34、綜上所述，本公開提供的技術方案帶來的有益效果至少包括：
35、提供了一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。該顯示基板中的陣列基板包括：襯底，位于襯底一側且相互間隔的多個像素，以及位于每相鄰兩個像素的反射層間隔區的遮光層。其中，遮光層在襯底上的正投影覆蓋間隔區在襯底上的正投影，且反射層在襯底上的正投影與遮光層在襯底上的正投影交疊。如此，可以在間隔區形成遮光結構實現遮光，避免發生漏光。在此基礎上，與陣列基板相對的對置基板一側對應該間隔區的位置即無需設置黑矩陣。如此，可以確保反射開口率較大，從本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：相對設置的陣列基板和對置基板；所述對置基板包括：第一公共電極；所述陣列基板包括：
2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述至少一層遮光層與所述像素包括的導電層共用。
3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層用于形成：柵線，所述像素包括的透明導電層用于形成：第二公共電極；
4.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層用于形成：第二公共電極；
5.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述陣列基板包括一層遮光層，且所述一層遮光層與所述像素包括的源漏導電層共用。
6.根據權利要求4或5所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層還用于形成：柵線；
7.根據權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，所述柵線的線寬小于線寬閾值，以使得所述反射層在所述襯底上的正投影覆蓋所述柵線在所述襯底上的正投影。
8.根據權利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述線寬閾值為5微米。
9.根據權利要
10.根據權利要求1至4任一所述的顯示基板，其特征在于，所述像素還包括像素電路區，所述像素電路區、所述反射區和所述透射區依次鄰接；所述對置基板包括：與所述間隔設置的多個像素一一對應的間隔設置的多個濾光部；
11.根據權利要求10所述的顯示基板，其特征在于，所述第一部分的尺寸大于所述第三部分的尺寸，所述第三部分的尺寸大于所述第二部分的尺寸。
12.根據權利要求1至4任一所述的顯示基板，其特征在于，在所述反射區和所述透射區，所述像素還包括：位于所述透明導電層與所述襯底之間，且依次層疊的柵絕緣層和鈍化層；在所述反射區，所述柵絕緣層位于所述柵導電層與所述源漏導電層之間，所述鈍化層位于所述源漏導電層與所述透明導電層之間，且所述像素還包括：位于所述透明導電層與所述反射層之間的凹凸層；
13.根據權利要求12所述的顯示基板，其特征在于，所述凹凸層的材料包括：亞克力；所述反射層的材料包括：鋁和銀中的至少一種；所述透明導電層的材料包括：氧化銦錫。
14.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，用于制備如權利要求1至13任一所述的顯示基板；所述方法包括：
15.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括：供電組件，以及如權利要求1至13任一所述的顯示基板；
...【技術特征摘要】
1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：相對設置的陣列基板和對置基板；所述對置基板包括：第一公共電極；所述陣列基板包括：
2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述至少一層遮光層與所述像素包括的導電層共用。
3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層用于形成：柵線，所述像素包括的透明導電層用于形成：第二公共電極；
4.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層用于形成：第二公共電極；
5.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述陣列基板包括一層遮光層，且所述一層遮光層與所述像素包括的源漏導電層共用。
6.根據權利要求4或5所述的顯示基板，其特征在于，所述像素包括的柵導電層還用于形成：柵線；
7.根據權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，所述柵線的線寬小于線寬閾值，以使得所述反射層在所述襯底上的正投影覆蓋所述柵線在所述襯底上的正投影。
8.根據權利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述線寬閾值為5微米。
9.根據權利要求1至4任一所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板還包括：
10.根據權利要求1...
【專利技術屬性】
技術研發人員：臧鵬程，馮遠明，張宜馳，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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