【技術實現步驟摘要】
本技術屬于反應裝置,具體涉及一種等離子體氣液反應器。
技術介紹
1、等離子技術是現代化學工程中常用技術,主要獲取等離子體。等離子體是氣體通過放電或加熱的辦法,從外界獲得足夠能量,使氣體分子或原子中軌道所束縛的電子變為自由電子,便形成等離子體。在化工領域中,已將等離子技術應用于氣體與液體的反應中,使在正常條件下不能反應的氣體與液體之間發生相互反應;例如氨氣的制備。為了提高部分氣體與液體之間反應效率(如:氮氣與水之間反應),急需開發一種等離子體氣液反應器。
技術實現思路
1、為了提高部分氣體與液體之間反應效率(如:氮氣與水之間反應);本技術提供了一種等離子體氣液反應器;為了實現上述目的,本技術采用的技術方案具體如下:
2、一種等離子體氣液反應器,包括內管柱、外套管、高壓電極、接地電極、曝氣石、上端蓋和密封端蓋;所述內管柱與外套管同軸設置,所述外套管的下端與所述接地電極密封連接,所述上端蓋套設在所述內管柱的外側壁上,用于封堵所述內管柱與外套管之間間隙;所述上端蓋、內管柱、外套管和接地電極圍合形成第一腔室,在所述第一腔室的上端部的側壁上設置有進液管和排氣管,在所述第一腔室的下端部側壁上設置有排液管;所述內管柱的下端部位于所述第一腔室內,所述曝氣石與內管柱的下端部密封連接,所述密封端蓋用于封堵所述內管柱的上端部,所述密封端蓋、內管柱和曝氣石或密封端蓋、內管柱、曝氣石和上端蓋圍合形成第二腔室,所述高壓電極的下端插裝在所述第二腔室內;在所述第二腔室的上端部側壁上設置有進氣管。
...【技術保護點】
1.一種等離子體氣液反應器,其特征在于,包括內管柱、外套管、高壓電極、接地電極、曝氣石、上端蓋和密封端蓋;所述內管柱與外套管同軸設置,所述外套管的下端與所述接地電極密封連接,所述上端蓋套設在所述內管柱的外側壁上,用于封堵所述內管柱與外套管之間間隙;所述上端蓋、內管柱、外套管和接地電極圍合形成第一腔室,在所述第一腔室的上端部的側壁上設置有進液管和排氣管,在所述第一腔室的下端部側壁上設置有排液管;所述內管柱的下端部位于所述第一腔室內,所述曝氣石與內管柱的下端部密封連接,所述密封端蓋用于封堵所述內管柱的上端部,所述密封端蓋、內管柱和曝氣石或密封端蓋、內管柱、曝氣石和上端蓋圍合形成第二腔室,所述高壓電極的下端插裝在所述第二腔室內;在所述第二腔室的上端部側壁上設置有進氣管。
2.根據權利要求1所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述等離子體氣液反應器還包括保護套筒;所述高壓電極為陽極棒,所述陽極棒的下端插裝在所述第二腔室內,所述保護套筒套設在插入第二腔室的高壓電極的外表面上。
3.根據權利要求2所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述接地電極包括封堵蓋板和電極板
4.根據權利要求1或2或3所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述曝氣石為圓柱形曝氣石,在所述圓柱形曝氣石的上端面開設有圓柱凹槽,所述圓柱凹槽供所述高壓電極下端插入,所述高壓電極與圓柱凹槽內底面保持間隙。
5.根據權利要求4所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述圓柱形曝氣石為泡沫陶瓷,在所述泡沫陶瓷的上端部開設有第一環形豁口,所述第一環形豁口供內管柱的下端插入,插入時過盈配合。
6.根據權利要求4所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,在所述內管柱的側壁上設置有外螺紋,在所述上端蓋內設置有內螺紋,通過內螺紋與外螺紋的配合,實現所述上端蓋套設在內管柱上。
7.根據權利要求6所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,在所述內管柱的上端部的圓周側面上開設有第二環形豁口,所述外螺紋開設在所述第二環形豁口內,所述上端蓋套設在內管柱上時,在所述第二環形豁口底部和外套管的上端面分別設置有密封圈。
...【技術特征摘要】
1.一種等離子體氣液反應器,其特征在于,包括內管柱、外套管、高壓電極、接地電極、曝氣石、上端蓋和密封端蓋;所述內管柱與外套管同軸設置,所述外套管的下端與所述接地電極密封連接,所述上端蓋套設在所述內管柱的外側壁上,用于封堵所述內管柱與外套管之間間隙;所述上端蓋、內管柱、外套管和接地電極圍合形成第一腔室,在所述第一腔室的上端部的側壁上設置有進液管和排氣管,在所述第一腔室的下端部側壁上設置有排液管;所述內管柱的下端部位于所述第一腔室內,所述曝氣石與內管柱的下端部密封連接,所述密封端蓋用于封堵所述內管柱的上端部,所述密封端蓋、內管柱和曝氣石或密封端蓋、內管柱、曝氣石和上端蓋圍合形成第二腔室,所述高壓電極的下端插裝在所述第二腔室內;在所述第二腔室的上端部側壁上設置有進氣管。
2.根據權利要求1所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述等離子體氣液反應器還包括保護套筒;所述高壓電極為陽極棒,所述陽極棒的下端插裝在所述第二腔室內,所述保護套筒套設在插入第二腔室的高壓電極的外表面上。
3.根據權利要求2所述的等離子體氣液反應器,其特征在于,所述接...
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