【技術實現步驟摘要】
一個或更多個實施例涉及一種設備及一種方法，更具體地，涉及一種用于制造顯示設備的設備、一種制造顯示設備的方法及一種掩模組件。
技術介紹
1、移動電子設備被廣泛地使用。具體地，諸如移動電話、平板個人計算機(pc)的小型和便攜式電子設備被廣泛地用作移動電子設備。
2、為了支持各種功能，諸如為用戶提供可視信息，移動電子設備包括顯示設備。最近，隨著驅動顯示設備的部件已經小型化，電子設備的由顯示設備所占據的部分已經逐漸增大。占據電子裝置的較大部分的顯示裝置促進了允許顯示器從平坦狀態彎曲到預設角度的顯示結構的發展。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種用于制造顯示設備的設備，所述設備包括掩模組件，所述掩模組件具有簡化的制造工藝和改善的耐久性。
2、然而，公開不限于此。
3、另外的方面將在下面的描述中闡述，并且部分地將從描述中明顯，或者可以通過實踐公開的所呈現的實施例來獲知。
4、根據一個或更多個實施例，用于制造顯示設備的設備包括：腔室；掩模組件，設置在腔室內部以面對顯示基底；以及沉積源，設置在腔室內部以面對掩模組件，并被構造為供應沉積材料，使得沉積材料穿過掩模組件并沉積在顯示基底上，其中，掩模組件包括第一掩模層和第二掩模層，第一掩模層包括硅材料并具有第一部分和在第一部分上的第二部分，其中，第一部分開口設置在第一部分中，且多個第二部分開口在第一部分開口上方設置在第二部分中，第二掩模層設置在第一掩模層上并包括無機材料，第二掩模層在所述多個第二部分
5、在平面圖中，所述多個第二部分開口中的至少兩個的邊界可以彼此接觸。
6、所述多個第二部分開口中的至少兩個可以彼此間隔開。
7、第二部分的形成所述多個第二部分開口的多個第二子部分可以是錐形的。
8、所述多個第二子部分中的每個在沿其長度的任何點處的寬度可以在0μm與14μm之間，包括0μm和14μm。
9、在剖視圖中，相對于與掩模組件的頂表面平行的平面，所述多個第二部分開口的側表面的傾斜角可大于0°且小于或等于85°。
10、第一部分和第二部分可以是一體的。
11、根據一個或更多個實施例，掩模組件包括：第一掩模層，包括硅材料并具有第一部分和在第一部分上的第二部分，其中，第一部分開口設置在第一部分中，且多個第二部分開口在第一部分開口上方設置在第二部分中；以及第二掩模層，設置在第一掩模層上并包括無機材料，第二掩模層在所述多個第二部分開口上方具有多個第二掩模開口，并且其中，在剖視圖中，所述多個第二部分開口中的每個的寬度可以隨著距第二掩模層的距離增大而增大。
12、在平面圖中，所述多個第二部分開口中的至少兩個的邊界可以彼此接觸。
13、所述多個第二部分開口中的至少兩個可以彼此間隔開。
14、第二部分的形成所述多個第二部分開口的多個第二子部分可以是錐形的。
15、所述多個第二子部分中的每個在沿其長度的任何點處的寬度可以在0μm與14μm之間，包括0μm和14μm。
16、在剖視圖中，相對于與掩模組件的頂表面平行的平面，所述多個第二部分開口的側表面的傾斜角可大于0°且小于或等于85°。
17、第一部分和第二部分可以是一體的。
18、根據一個或更多個實施例，制造顯示設備的方法包括下述步驟：將顯示基底設置在腔室中；將掩模組件設置在腔室中；以及從沉積源朝向掩模組件供應沉積材料，其中，設置掩模組件的步驟包括：將第二掩模層設置在第一掩模層上；將第二掩模層圖案化，使得多個第二掩模開口設置在第二掩模層中；通過穿過所述多個第二掩模開口來蝕刻第一掩模層，在第一掩模層中形成多個第二部分開口；以及在第一掩模層的下部中形成開口。
19、在蝕刻第一掩模層的步驟中，可以在所述多個第二部分開口的下部中形成第一空間，并且第一空間可以連接到所述多個第二部分開口。
20、當蝕刻第一掩模層的一部分時，形成在第一掩模層中的所述多個第二部分開口可以在空間上彼此分離。
21、在第一掩模層的下部中形成開口的步驟可以包括：設置保護層，使得保護層的至少一部分容納在所述多個第二部分開口和所述多個第二掩模開口中；蝕刻第一掩模層的下部以暴露保護層的下部；以及去除保護層。
22、設置保護層的步驟可以包括將保護層的一部分設置在形成在所述多個第二部分開口的下部中的第一空間中。
23、蝕刻第一掩模層的下部以暴露保護層的下部的步驟可以包括通過保護層來暴露由保護層密封的第一掩模層的一部分。
24、通過實施例、附圖和權利要求的詳細描述，這些和/或其它方面將變得明顯并且更容易理解。
25、根據實施例，可以減少掩模組件的制造時間和制造成本，并且可以減少掩模組件中的變形。
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1.一種用于制造顯示設備的設備，其特征在于，所述設備包括：
2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，在平面圖中，所述多個第二部分開口中的至少兩個的邊界彼此接觸。
3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述多個第二部分開口中的至少兩個彼此間隔開。
4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述第二部分的形成所述多個第二部分開口的多個第二子部分是錐形的。
5.根據權利要求4所述的設備，其特征在于，所述多個第二子部分中的每個在沿其長度的任何點處的寬度在0μm與14μm之間。
6.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，在剖視圖中，相對于與所述掩模組件的頂表面平行的平面，所述多個第二部分開口的側表面的傾斜角大于0°且小于或等于85°。
7.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分是一體的。
8.一種掩模組件，其特征在于，所述掩模組件包括：
9.根據權利要求8所述的掩模組件，其特征在于，在平面圖中，所述多個第二部分開口中的至少兩個的邊界彼此接觸。
10.根
...【技術特征摘要】
1.一種用于制造顯示設備的設備，其特征在于，所述設備包括：
2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，在平面圖中，所述多個第二部分開口中的至少兩個的邊界彼此接觸。
3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述多個第二部分開口中的至少兩個彼此間隔開。
4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述第二部分的形成所述多個第二部分開口的多個第二子部分是錐形的。
5.根據權利要求4所述的設備，其特征在于，所述多個第二子部分中的每個在沿其長度的任何點處的寬度在0μm與14μm之間。
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【專利技術屬性】
技術研發人員：金楨國，宋榮振，李鎭禹，鄭錫宇，趙晟原，趙俊豪，
申請(專利權)人：三星顯示有限公司，
類型：新型
國別省市：
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