【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)屬于電子設(shè)備，具體涉及一種顯示模組和電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、由于給用戶帶來(lái)多方面的便利，手機(jī)等電子設(shè)備已然成為人們工作和生活中不可或缺的器件，而顯示屏屬于電子設(shè)備中極為重要的部件，且目前的電子設(shè)備中，顯示屏基本均為觸控屏，為此，在電子設(shè)備的使用過(guò)程中，顯示屏不可避免地會(huì)與用戶的手指或觸控筆等相互接觸和摩擦，從而導(dǎo)致顯示屏的蓋板容易被劃傷，這會(huì)大幅降低顯示屏的顯示效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)實(shí)施例的目的是提供一種顯示模組和電子設(shè)備，以解決目前的顯示模組的抗摩擦能力相對(duì)較弱，長(zhǎng)時(shí)間使用會(huì)導(dǎo)致顯示屏的蓋板被劃傷，影響顯示效果的問(wèn)題。
2、第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)一種顯示模組，其包括顯示層、蓋板、光學(xué)硬質(zhì)層和保護(hù)層，其中，所述蓋板、所述光學(xué)硬質(zhì)層和所述保護(hù)層依次層疊于所述顯示層的表面，所述保護(hù)層包括類金剛石膜層，所述光學(xué)硬質(zhì)層包括相互層疊的氧化硅膜層和氮化硅膜層。
3、第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)一種電子設(shè)備，其包括殼體和上述顯示模組。
4、本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)一種顯示模組，其包括顯示層，以及依次層疊設(shè)置于顯示層的表面的蓋板、光學(xué)硬質(zhì)層和保護(hù)層，其中，保護(hù)層包括類金剛石膜層，其具有較強(qiáng)的抗摩擦能力和硬度，同時(shí)，光學(xué)硬質(zhì)層包括相互層疊的氧化硅膜層和氮化硅膜層，這使得光學(xué)硬質(zhì)層亦具有較強(qiáng)的硬度和抗腐蝕性，從而利用保護(hù)層和光學(xué)硬質(zhì)層可以為蓋板提供良好的抗劃傷能力，進(jìn)而在長(zhǎng)時(shí)間使用后，亦可以保證蓋板的劃傷程度相對(duì)較低，以保證顯示模組仍具有良好的顯示效果。
本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種顯示模組，其特征在于，包括顯示層（100）、蓋板（200）、光學(xué)硬質(zhì)層（310）和保護(hù)層（400），其中，所述蓋板（200）、所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）和所述保護(hù)層（400）依次層疊于所述顯示層（100）的表面，所述保護(hù)層（400）包括類金剛石膜層，所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）包括相互層疊的氧化硅膜層（301）和氮化硅膜層（302）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示模組，其特征在于，還包括光學(xué)柔質(zhì)層（320），所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）夾設(shè)于所述蓋板（200）和所述顯示層（100）之間，所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）包括相互層疊的氧化硅膜層（301）和鈦酸鑭膜層（303）。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）中靠近所述蓋板（200）和所述顯示層（100）的膜層均為所述氧化硅膜層（301）。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）中靠近所述蓋板（200）和所述保護(hù)層（400）的膜層均為所述氧化硅膜層（301）。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)硬質(zhì)層（3
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示模組，其特征在于，還包括第一緩沖層（510），所述第一緩沖層（510）夾設(shè)于所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）和所述蓋板（200）之間，所述第一緩沖層（510）為樹(shù)脂結(jié)構(gòu)件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示模組，其特征在于，還包括第二緩沖層（520），所述第二緩沖層（520）夾設(shè)于所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）和所述蓋板（200）之間，所述第二緩沖層（520）為樹(shù)脂結(jié)構(gòu)件。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示模組，其特征在于，所述保護(hù)層（400）背離所述顯示層（100）的一側(cè)表面還設(shè)有抗指紋層（600）。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）和所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）的厚度在400-1000nm之間；所述保護(hù)層（400）的厚度在5-20nm之間；所述抗指紋層（600）的厚度在10-20nm之間。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括殼體和權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的顯示模組。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種顯示模組，其特征在于，包括顯示層（100）、蓋板（200）、光學(xué)硬質(zhì)層（310）和保護(hù)層（400），其中，所述蓋板（200）、所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）和所述保護(hù)層（400）依次層疊于所述顯示層（100）的表面，所述保護(hù)層（400）包括類金剛石膜層，所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）包括相互層疊的氧化硅膜層（301）和氮化硅膜層（302）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示模組，其特征在于，還包括光學(xué)柔質(zhì)層（320），所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）夾設(shè)于所述蓋板（200）和所述顯示層（100）之間，所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）包括相互層疊的氧化硅膜層（301）和鈦酸鑭膜層（303）。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)柔質(zhì)層（320）中靠近所述蓋板（200）和所述顯示層（100）的膜層均為所述氧化硅膜層（301）。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示模組，其特征在于，所述光學(xué)硬質(zhì)層（310）中靠近所述蓋板（200）和所述保護(hù)層（400）的膜層均為所述氧化硅膜層（301）。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示模組，其特征在于，所述...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：廖亮飛，宮經(jīng)波，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：維沃移動(dòng)通信有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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