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【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本公開的示例實施例總體涉及集成電路領(lǐng)域,特別地涉及用于版圖處理的方法、設(shè)備、計算機可讀存儲介質(zhì)和計算機程序產(chǎn)品。
技術(shù)介紹
1、電路版圖(又可以簡稱為版圖)是從設(shè)計并模擬優(yōu)化后的電路所轉(zhuǎn)化成的一系列圖形,其包含了集成電路尺寸、各層拓?fù)涠x等器件相關(guān)的物理信息數(shù)據(jù)。集成電路制造商根據(jù)這些數(shù)據(jù)來制造掩模。掩模上的版圖圖案決定著芯片上器件或連接物理層的尺寸。
2、雙重圖案技術(shù)通過將原本無法用單次曝光實現(xiàn)的圖案進行分割,采用多次曝光和蝕刻的方式來定義更高密度的圖案。雙重圖案技術(shù)的引入使得芯片制造能夠突破單次曝光的尺寸限制,實現(xiàn)更高密度的圖案定義。在芯片制造中,期望能夠有效地對版圖進行拆分,以使用雙重圖案技術(shù)或多重圖案技術(shù)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、在本公開的第一方面,提供了一種版圖處理方法。該方法包括:基于與初始版圖的版圖拆分有關(guān)的拆分條件,確定針對初始版圖中的多個區(qū)域的區(qū)域關(guān)聯(lián)信息,區(qū)域關(guān)聯(lián)信息指示多個區(qū)域中的兩個相鄰區(qū)域在版圖拆分中是否相關(guān);以及響應(yīng)于區(qū)域關(guān)聯(lián)信息指示多個區(qū)域中相鄰的第一區(qū)域與第二區(qū)域在版圖拆分中相關(guān),基于第一區(qū)域與第二區(qū)域的相關(guān)性,確定第一區(qū)域的著色結(jié)果和第二區(qū)域的著色結(jié)果,其中圖形所著有的顏色指示圖形將被拆分至的子版圖。
2、在本公開的第二方面,提供了一種電子設(shè)備。該設(shè)備包括至少一個處理單元;以及至少一個存儲器,至少一個存儲器被耦合到至少一個處理單元并且存儲用于由至少一個處理單元執(zhí)行的指令。指令在由至少一個處理單元執(zhí)行時使設(shè)備執(zhí)行第一方面的方法。<
...【技術(shù)保護點】
1.?一種版圖處理方法,其特征在于,所述方法包括:
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域具有共同的劃分邊界,并且確定針對所述多個區(qū)域的所述區(qū)域關(guān)聯(lián)信息包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法還包括通過以下方式確定所述第一區(qū)域中靠近所述劃分邊界的第一邊界圖形和所述第二區(qū)域中靠近所述劃分邊界的第二邊界圖形:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,確定所述外擴尺寸包括:
5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,確定所述第一區(qū)域的著色結(jié)果和所述第二區(qū)域的著色結(jié)果包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,確定所述第一區(qū)域的著色結(jié)果和所述第二區(qū)域的著色結(jié)果進一步包括:
8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,使所述第一邊界圖形和所述第二邊界圖形的顏色對齊包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述結(jié)構(gòu)化表示包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述拆分條件至少包括設(shè)計規(guī)則檢查DRC規(guī)則。
15.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:
16.一種計算機可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機程序,其特征在于,所述計算機程序可由處理器執(zhí)行以實現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項所述的方法。
17.一種計算機程序產(chǎn)品,包括計算機可執(zhí)行指令,其特征在于,所述計算機可執(zhí)行指令在被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項所述的方法。
...【技術(shù)特征摘要】
1.?一種版圖處理方法,其特征在于,所述方法包括:
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域具有共同的劃分邊界,并且確定針對所述多個區(qū)域的所述區(qū)域關(guān)聯(lián)信息包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法還包括通過以下方式確定所述第一區(qū)域中靠近所述劃分邊界的第一邊界圖形和所述第二區(qū)域中靠近所述劃分邊界的第二邊界圖形:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,確定所述外擴尺寸包括:
5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,確定所述第一區(qū)域的著色結(jié)果和所述第二區(qū)域的著色結(jié)果包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,確定所述第一區(qū)域的著色結(jié)果和所述第二區(qū)域的著色結(jié)果進一步包括:
8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,使所述第一邊界圖形和所述第二邊界圖形的顏色對齊包括:
<...【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:請求不公布姓名,請求不公布姓名,
申請(專利權(quán))人:全智芯上海技術(shù)有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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