一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器制造技術(shù)

本技術(shù)提供了一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，包括校準(zhǔn)器本體、校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤，所述校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤安裝在所述校準(zhǔn)器本體的頂部，還包括：校準(zhǔn)器底盤，所述校準(zhǔn)器本體固定安裝在所述校準(zhǔn)器底盤之上；所述校準(zhǔn)器底盤上均勻設(shè)置有至少三個(gè)輔助校準(zhǔn)支架；所述輔助校準(zhǔn)支架在平面投影上以所述校準(zhǔn)器吸附盤為中心，且所述輔助校準(zhǔn)支架在豎直高度上高于所述校準(zhǔn)器吸附盤的頂部；所述輔助校準(zhǔn)支架包括依次連接的輔助校準(zhǔn)漏斗、豎直支架以及水平連接架。本申請(qǐng)通過(guò)輔助校準(zhǔn)支架的設(shè)置，在現(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)晶圓校準(zhǔn)器的基礎(chǔ)上增加了晶圓校準(zhǔn)誤差范圍，使其能夠校準(zhǔn)初始位置偏差較大的晶圓，保證晶圓在腔室內(nèi)的準(zhǔn)確傳輸。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)屬于半導(dǎo)體設(shè)備，具體涉及一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器。

技術(shù)介紹

1、半導(dǎo)體設(shè)備中，一般都會(huì)用到機(jī)械手進(jìn)行晶圓的自動(dòng)傳輸，即通過(guò)機(jī)械手將需要進(jìn)行半導(dǎo)體工藝處理的晶圓自動(dòng)傳入工藝腔室中，或?qū)⑦M(jìn)行完半導(dǎo)體工藝處理的晶圓自動(dòng)傳出工藝腔室。在此過(guò)程當(dāng)中，晶圓校準(zhǔn)器起到了確保晶圓能夠準(zhǔn)確傳輸?shù)淖饔谩ｋm然機(jī)械手的控制系統(tǒng)會(huì)保存著各個(gè)工位取放晶圓的位置信息(包括晶圓的中心坐標(biāo)值、機(jī)械手的旋轉(zhuǎn)角度、伸出長(zhǎng)度和高低位置等信息)，但隨著時(shí)間的推移，工藝腔室內(nèi)各部件之間可能會(huì)產(chǎn)生微小的位移差，導(dǎo)致原來(lái)存儲(chǔ)的位置信息和實(shí)際工位之間產(chǎn)生偏差。這時(shí)候，晶圓校準(zhǔn)器的出現(xiàn)就會(huì)消除這些微小的偏差，使晶圓在腔室內(nèi)能夠繼續(xù)準(zhǔn)確傳輸。

2、然而，同行業(yè)現(xiàn)有的技術(shù)中，標(biāo)準(zhǔn)校準(zhǔn)器校準(zhǔn)晶圓范圍有限，而有些晶圓初始位置偏差較大，無(wú)法使用校準(zhǔn)范圍有限的校準(zhǔn)器，所以使用起來(lái)受到限制，因此，需要一種可以增大晶圓校準(zhǔn)范圍的方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本技術(shù)提供的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，旨在通過(guò)輔助校準(zhǔn)支架的設(shè)置，在現(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)晶圓校準(zhǔn)器的基礎(chǔ)上增加晶圓校準(zhǔn)誤差范圍，使其能夠校準(zhǔn)初始位置偏差較大的晶圓，保證晶圓在腔室內(nèi)的準(zhǔn)確傳輸，從而解決上述問(wèn)題。

2、本技術(shù)解決上述技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案如下：

3、本技術(shù)提供了一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，包括校準(zhǔn)器本體、校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤，所述校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤安裝在所述校準(zhǔn)器本體的頂部，還包括：校準(zhǔn)器底盤，所述校準(zhǔn)器本體固定安裝在所述校準(zhǔn)器底盤之上；所述校準(zhǔn)器底盤上均勻設(shè)置有至少三個(gè)輔助校準(zhǔn)支架；所述輔助校準(zhǔn)支架在平面投影上以所述校準(zhǔn)器吸附盤為中心，且所述輔助校準(zhǔn)支架在豎直高度上高于所述校準(zhǔn)器吸附盤的頂部。

4、在一些實(shí)施例中，所述輔助校準(zhǔn)支架包括依次連接的輔助校準(zhǔn)漏斗、豎直支架以及水平連接架。

5、在一些實(shí)施例中，所述輔助校準(zhǔn)漏斗固定安裝于所述豎直支架的頂部；所述豎直支架與所述水平連接架一體成型為l型結(jié)構(gòu)；所述水平連接架與所述校準(zhǔn)器底盤可拆卸連接。

6、在一些實(shí)施例中，所述水平連接架上均勻開設(shè)有若干排安裝孔。

7、在一些實(shí)施例中，每一個(gè)所述水平連接架均通過(guò)同一排安裝孔與所述校準(zhǔn)器底盤連接。

8、在一些實(shí)施例中，所述輔助校準(zhǔn)漏斗面向所述校準(zhǔn)器吸附盤的一側(cè)為坡面，任一輔助校準(zhǔn)漏斗的坡面與其他輔助校準(zhǔn)漏斗的坡面能夠圍成一個(gè)漏斗狀，用于對(duì)晶圓進(jìn)行輔助校準(zhǔn)。

9、本申請(qǐng)的有益效果是：

10、本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，通過(guò)輔助校準(zhǔn)支架的設(shè)置，在現(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)晶圓校準(zhǔn)器的基礎(chǔ)上增加了晶圓校準(zhǔn)誤差范圍，使其能夠校準(zhǔn)初始位置偏差較大的晶圓，保證晶圓在腔室內(nèi)的準(zhǔn)確傳輸。

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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

1.一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，包括校準(zhǔn)器本體、校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤，所述校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤安裝在所述校準(zhǔn)器本體的頂部，其特征在于，還包括：校準(zhǔn)器底盤，所述校準(zhǔn)器本體固定安裝在所述校準(zhǔn)器底盤之上；所述校準(zhǔn)器底盤上均勻設(shè)置有至少三個(gè)輔助校準(zhǔn)支架；所述輔助校準(zhǔn)支架在平面投影上以所述校準(zhǔn)器吸附盤為中心，且所述輔助校準(zhǔn)支架在豎直高度上高于所述校準(zhǔn)器吸附盤的頂部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述輔助校準(zhǔn)支架包括依次連接的輔助校準(zhǔn)漏斗、豎直支架以及水平連接架。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述輔助校準(zhǔn)漏斗固定安裝于所述豎直支架的頂部；所述豎直支架與所述水平連接架一體成型為L(zhǎng)型結(jié)構(gòu)；所述水平連接架與所述校準(zhǔn)器底盤可拆卸連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述水平連接架上均勻開設(shè)有若干排安裝孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，每一個(gè)所述水平連接架均通過(guò)同一排安裝孔與所述校準(zhǔn)器底盤連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述輔助校準(zhǔn)漏斗面向所述校準(zhǔn)器吸附盤的一側(cè)為坡面，任一輔助校準(zhǔn)漏斗的坡面與其他輔助校準(zhǔn)漏斗的坡面能夠圍成一個(gè)漏斗狀，用于對(duì)晶圓進(jìn)行輔助校準(zhǔn)。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，包括校準(zhǔn)器本體、校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤，所述校準(zhǔn)傳感器以及校準(zhǔn)器吸附盤安裝在所述校準(zhǔn)器本體的頂部，其特征在于，還包括：校準(zhǔn)器底盤，所述校準(zhǔn)器本體固定安裝在所述校準(zhǔn)器底盤之上；所述校準(zhǔn)器底盤上均勻設(shè)置有至少三個(gè)輔助校準(zhǔn)支架；所述輔助校準(zhǔn)支架在平面投影上以所述校準(zhǔn)器吸附盤為中心，且所述輔助校準(zhǔn)支架在豎直高度上高于所述校準(zhǔn)器吸附盤的頂部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述輔助校準(zhǔn)支架包括依次連接的輔助校準(zhǔn)漏斗、豎直支架以及水平連接架。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種增加校準(zhǔn)范圍的晶圓校準(zhǔn)器，其特征在于，所述輔助...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：尹宗耀，劉冬梅，王強(qiáng)，王勇，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：北京銳潔機(jī)器人科技有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：