【技術實現步驟摘要】
本技術涉及離子源實驗平臺，具體為一種離子源實驗平臺的支撐結構。
技術介紹
1、離子源用于在回旋加速器產生束流,堪稱回旋加速器的心臟。離子源的性能指標包括束流強度、束流穩定性以及最佳工作氣流等參數。其中,離子源最主要的性能指標為束流強度。為了研究離子源的性能,對于離子源能夠產生束流強度大小的考慮是必不可少的則需要一種平臺,專門是用來研究離子源所能夠產生束流強度的產額情況。例如專利號為cn?215581835?u的專利就公開了一種離子源實驗平臺，包括線圈模塊、磁鐵結構模塊、離子源模塊、引出模塊、真空模塊、液壓模塊和離子源平臺支撐模塊。該離子源實驗平臺，保證離子源實驗區域所產生的磁力線分布與緊湊型回旋加速器的中心區域磁力線分布基本上保持一致，且易于操作,解決了傳統離子源平臺因真空腔壁薄結構設計而容易出現真空度達不到的問題。
2、然而，現有的離子源實驗平臺的支撐結構在使用的過程中存在以下的問題：由于僅采用支撐腿對實驗平臺進行支撐，其支撐腿的分布與平臺的邊緣位置對其，間距較短的兩側的支撐力較低，實驗使用中十分容易觸碰該兩側，引發一定的晃動，導致支撐的穩定性不足。為此，需要設計相應的技術方案解決存在的技術問題。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種離子源實驗平臺的支撐結構，解決了因僅采用支撐腿對實驗平臺進行支撐，其支撐腿的分布與平臺的邊緣位置對其，間距較短的兩側的支撐力較低，實驗使用中十分容易觸碰該兩側，引發一定的晃動導致的支撐的穩定性不足的技術問題，滿足實際使用需求。>
2、為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：包括有離子源實驗平臺，所述離子源實驗平臺的底部上設置有固定盒體，所述固定盒體的頂部外邊上設置有固定板，所述固定板的兩側均對稱設置有兩個延伸板，所述固定盒體的底部均勻的設置有四個支撐腿一，所述延伸板在靠近邊緣的中間位置設置有支撐腿二，所述固定板的一側中間底部上設置有固定柜體，所述固定柜體的一側上均勻的設置有若干活動柜，所述活動柜的一側上設置有抽屜，所述活動柜的兩側上均對稱設置有兩個限位滑槽，所述固定柜體的內壁上設有若干限位塊，所述固定盒體的底部內部對稱設置有兩個固定槽，所述固定槽上設置有導向滑桿，所述導向滑桿上對稱設置有兩個移動塊，位于不同所述導向滑桿上的移動塊之間設置有同步板，所述同步板的頂部上設置有承接塊，所述固定盒體的底部中間設置有檢修門板。
3、作為本技術的一種優選實施方式，所述離子源實驗平臺的底部部分位置位于所述固定盒體內，所述離子源實驗平臺的頂部中間安裝有連接法蘭管，所述離子源實驗平臺的底部與所述承接塊之間相固定連接。
4、作為本技術的一種優選實施方式，所述固定盒體的頂部與所述固定板之間相持平和連通，所述延伸板的一側邊緣與所述固定板相對齊，所述支撐腿一和所述支撐腿二的橫截面均呈“t”狀結構，所述固定柜體的頂部與所述固定板之間相固定連接。
5、作為本技術的一種優選實施方式，所述固定柜體的底部與所述支撐腿一和所述支撐腿二的底部相持平，所述活動柜與所述固定柜體之間為滑動連接，不同位置的所述活動柜的活動距離不同。
6、作為本技術的一種優選實施方式，所述移動塊與所述導向滑桿之間相滑動連接，所述同步板的底部與所述固定盒體的底部內相接觸，所述同步板與所述固定盒體之間為螺栓固定連接，所述固定盒體的底部中間設有檢修口，所述承接塊的橫截面呈“t”狀結構，所述檢修門板的一端與所述固定盒體之間為鉸接連接；另一端之間為螺栓固定連接。
7、與現有技術相比，本技術的有益效果如下：
8、通過支撐腿一和支撐腿二等部件的配合使用，能夠保證對離子源實驗平臺整體支撐的均一性，實驗平臺整體放置并固定在固定盒體內，由支撐腿一和支撐腿二對其整體進行支撐，同時，配合延伸板件支撐腿二的位置向實驗平臺的兩側延伸一定的距離，增大了間距，保證了對兩側的支撐穩定性，并且固定板與實驗平臺之間留有間距，能夠避免人員的操作及走動與實驗平臺過近，而抽屜能夠對實驗的設備進行存儲，活動柜能夠從固定柜體內抽出，作為樓梯使用，方便實驗人員登高，進行設備的檢修和裝卸，方便使用,從而解決了支撐的穩定性不足的問題。
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1.一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：包括有離子源實驗平臺（1），所述離子源實驗平臺（1）的底部上設置有固定盒體（6），所述固定盒體（6）的頂部外邊上設置有固定板（2），所述固定板（2）的兩側均對稱設置有兩個延伸板（7），所述固定盒體（6）的底部均勻的設置有四個支撐腿一（5），所述延伸板（7）在靠近邊緣的中間位置設置有支撐腿二（3），所述固定板（2）的一側中間底部上設置有固定柜體（4），所述固定柜體（4）的一側上均勻的設置有若干活動柜（11），所述活動柜（11）的一側上設置有抽屜（10），所述活動柜（11）的兩側上均對稱設置有兩個限位滑槽（9），所述固定柜體（4）的內壁上設有若干限位塊（8），所述固定盒體（6）的底部內部對稱設置有兩個固定槽（12），所述固定槽（12）上設置有導向滑桿（14），所述導向滑桿（14）上對稱設置有兩個移動塊（16），位于不同所述導向滑桿（14）上的移動塊（16）之間設置有同步板（17），所述同步板（17）的頂部上設置有承接塊（13），所述固定盒體（6）的底部中間設置有檢修門板（15）。
2.根據權利要求1所述的一種離子源實驗平臺的支
3.根據權利要求1所述的一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：所述固定盒體（6）的頂部與所述固定板（2）之間相持平和連通，所述延伸板（7）的一側邊緣與所述固定板（2）相對齊，所述支撐腿一（5）和所述支撐腿二（3）的橫截面均呈“T”狀結構，所述固定柜體（4）的頂部與所述固定板（2）之間相固定連接。
4.根據權利要求1所述的一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：所述固定柜體（4）的底部與所述支撐腿一（5）和所述支撐腿二（3）的底部相持平，所述活動柜（11）與所述固定柜體（4）之間為滑動連接，不同位置的所述活動柜（11）的活動距離不同。
5.根據權利要求1所述的一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：所述移動塊（16）與所述導向滑桿（14）之間相滑動連接，所述同步板（17）的底部與所述固定盒體（6）的底部內相接觸，所述同步板（17）與所述固定盒體（6）之間為螺栓固定連接，所述固定盒體（6）的底部中間設有檢修口，所述承接塊（13）的橫截面呈“T”狀結構，所述檢修門板（15）的一端與所述固定盒體（6）之間為鉸接連接；另一端之間為螺栓固定連接。
...【技術特征摘要】
1.一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：包括有離子源實驗平臺（1），所述離子源實驗平臺（1）的底部上設置有固定盒體（6），所述固定盒體（6）的頂部外邊上設置有固定板（2），所述固定板（2）的兩側均對稱設置有兩個延伸板（7），所述固定盒體（6）的底部均勻的設置有四個支撐腿一（5），所述延伸板（7）在靠近邊緣的中間位置設置有支撐腿二（3），所述固定板（2）的一側中間底部上設置有固定柜體（4），所述固定柜體（4）的一側上均勻的設置有若干活動柜（11），所述活動柜（11）的一側上設置有抽屜（10），所述活動柜（11）的兩側上均對稱設置有兩個限位滑槽（9），所述固定柜體（4）的內壁上設有若干限位塊（8），所述固定盒體（6）的底部內部對稱設置有兩個固定槽（12），所述固定槽（12）上設置有導向滑桿（14），所述導向滑桿（14）上對稱設置有兩個移動塊（16），位于不同所述導向滑桿（14）上的移動塊（16）之間設置有同步板（17），所述同步板（17）的頂部上設置有承接塊（13），所述固定盒體（6）的底部中間設置有檢修門板（15）。
2.根據權利要求1所述的一種離子源實驗平臺的支撐結構，其特征在于：所述離子源實驗平臺（1）的底部部分位置位于所述固定盒體（6）內，所述離子源實驗平臺...
【專利技術屬性】
技術研發人員：方明江，蔡成振，
申請(專利權)人：無錫誠承電子科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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