【技術實現步驟摘要】
本申請涉及顯示，特別是涉及一種陣列基板及其制作方法與顯示面板。
技術介紹
1、超高ppi(per?pixel?index，像素每英寸)vr?lcd(virtual?reality?liquid-crystal?display，虛擬現實液晶顯示器)產品越來越受到消費者的青睞。但是隨著ppi的升高，pattern?pitch(像素尺寸)的急劇變小，越來越多的問題也擋在了開發者的面前。特別是黑矩陣層的制作，因為ppi升高，像素開口變小，樹脂黑矩陣在曝光后個別位置無法去除完全，形成黑矩陣殘留，導致產品出現暗點不良，嚴重影響顯示效果。金屬黑矩陣雖然可以解決樹脂黑矩陣的殘留問題，但是存在反射率偏高的問題。
技術實現思路
1、本申請實施例的目的在于提供一種陣列基板及其制作方法與顯示面板，既能解決樹脂黑矩陣容易殘留的問題，又具有較低的反射率。具體技術方案如下：
2、本申請第一方面提供一種陣列基板，所述陣列基板包括黑矩陣層，所述黑矩陣層靠近液晶層設置，所述黑矩陣層包括多個間隔設置的黑矩陣，所述黑矩陣包括金屬層和樹脂層，所述樹脂層包裹所述金屬層，所述樹脂層的厚度小于所述金屬層的厚度。
3、另外根據本申請第一方面提供的陣列基板，其還可以具有如下技術特征：
4、在一些實施例中，所述樹脂層的厚度小于等于0.2μm。
5、在一些實施例中，所述金屬層的厚度為1.2μm-1.5μm。
6、在一些實施例中，所述金屬層的制作材料為金屬單質或者合金。
<...【技術保護點】
1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括黑矩陣層，所述黑矩陣層靠近液晶層設置，所述黑矩陣層包括多個間隔設置的黑矩陣，所述黑矩陣包括金屬層和樹脂層，所述樹脂層包裹所述金屬層，所述樹脂層的厚度小于所述金屬層的厚度。
2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述樹脂層的厚度小于等于0.2μm。
3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的厚度為1.2μm-1.5μm。
4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的制作材料為金屬單質或者合金。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括設于所述黑矩陣層遠離所述液晶層一側的彩膜層和驅動層，所述驅動層包括襯底基板和設于所述襯底基板一側的多個薄膜晶體管，所述薄膜晶體管包括有源層、柵極和與所述有源層電連接的源極和漏極。
6.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括公共電極層和像素電極，所述公共電極層設于所述彩膜層靠近所述液晶層的一側，所述驅動層與所述彩膜層之間設有第一鈍化層，所述彩膜層與所述公共電極
7.根據權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述黑矩陣之間的間隔大于所述第一過孔的直徑。
8.根據權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述像素電極還包括第三部分，所述第三部分位于所述樹脂層靠近所述液晶層一側的表面。
9.一種陣列基板的制作方法，用于制作權利要求1-8中任一項所述的陣列基板，其特征在于，包括以下步驟：
10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權利要求1-8中任一項所述的陣列基板、與所述陣列基板對盒設置的對向基板，以及位于所述對盒內的液晶層，所述對向基板包括蓋板，所述蓋板通過光學膠與所述陣列基板粘接。
...【技術特征摘要】
1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括黑矩陣層，所述黑矩陣層靠近液晶層設置，所述黑矩陣層包括多個間隔設置的黑矩陣，所述黑矩陣包括金屬層和樹脂層，所述樹脂層包裹所述金屬層，所述樹脂層的厚度小于所述金屬層的厚度。
2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述樹脂層的厚度小于等于0.2μm。
3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的厚度為1.2μm-1.5μm。
4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的制作材料為金屬單質或者合金。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括設于所述黑矩陣層遠離所述液晶層一側的彩膜層和驅動層，所述驅動層包括襯底基板和設于所述襯底基板一側的多個薄膜晶體管，所述薄膜晶體管包括有源層、柵極和與所述有源層電連接的源極和漏極。
6.根據權利要求5所述的陣...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李永生，王鳳國，石臻，王波，楊遠航，蔚國將，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。