【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)涉及光整形，尤其涉及一種光學(xué)系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、目前光全息系統(tǒng)在光顯示領(lǐng)域研究較多，要求光源有較高的時(shí)間和空間相干性。相比于傳統(tǒng)的光全息技術(shù)，本專利技術(shù)大大降低了全息系統(tǒng)對(duì)于光源時(shí)間相干性的要求。同時(shí)，傳統(tǒng)光全息系統(tǒng)在干涉成像時(shí)無(wú)法利用0級(jí)光，從而導(dǎo)致光源的能量利用率較低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N光學(xué)系統(tǒng)，利用0級(jí)光，能夠提高光源的能量利用率。
2、本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N光學(xué)系統(tǒng)，該裝置包括相干光源、分束裝置、第一全息版。其中，相干光源發(fā)出的光束經(jīng)分束裝置分為多個(gè)光束，多個(gè)光束中包括第一光束和第二光束。第一光束經(jīng)第一光路、第二光束經(jīng)第二光路投射至同一成像面，第一全息版設(shè)置在第一光束所在的第一光路上，第一光束與第二光束的光程差小于或等于兩個(gè)束光的相干長(zhǎng)度。這樣一來(lái)，第一光束經(jīng)第一全息版后形成的0級(jí)光和高級(jí)次光均投射至成像面，并與第二光束在成像面處疊加產(chǎn)生干涉和衍射形成光圖案，以進(jìn)行全息成像；也就是說(shuō)，采用本申請(qǐng)的光學(xué)系統(tǒng)在進(jìn)行成像時(shí)，能夠?qū)Φ谝还馐械?級(jí)光加以利用，從而能夠提高光源的能量利用率。
3、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，上述分束裝置為分波前裝置。
4、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，上述分束裝置為分振幅裝置，在此情況下，能夠獲取兩束參數(shù)(包括相位、振幅)相同的光束，從而能夠降低對(duì)相干光源的空間相干性要求，即使在光源的時(shí)空相干性不足的情況下，同樣能夠獲取高對(duì)比度成像。
5、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，上述相干光源包括自由電子激光源、同
6、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，該裝置還包括第二全息版，第二全息版設(shè)置在第二光路上。在此情況下，第一光束經(jīng)第一全息版后形成的0級(jí)光和高級(jí)次光，以及第二光束經(jīng)第二全息版后形成的0級(jí)光和高級(jí)次光，在成像面處疊加產(chǎn)生干涉和衍射形成圖像；也即第一光束的0級(jí)光和第二光束中的0級(jí)光均能夠參與干涉成像；這樣一來(lái)，通過(guò)兩個(gè)全息版共同實(shí)現(xiàn)對(duì)光束的調(diào)控，從而提高了光束調(diào)控的自由度，進(jìn)而使得全息版加工制作難度下降。
7、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，第一全息版上記錄有第一全息圖，第二全息版上記錄有第二全息圖，第一全息圖和第二全息圖用于在成像面上形成目標(biāo)圖案。
8、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，第一全息版為透射全息版或反射全息版。
9、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，第二全息版為透射全息版或反射全息版。
10、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，第一光路上設(shè)置有至少一個(gè)反射鏡，以通過(guò)反射鏡的反射作用來(lái)調(diào)整第一光束的方向，保證第一光束投射至成像面。
11、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，第二光路上設(shè)置有至少一個(gè)反射鏡，以通過(guò)反射鏡的反射作用來(lái)調(diào)整第二光束的方向，保證第二光束投射至成像面。
12、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，透射全息版為振幅式透射全息版、相位式透射全息版、復(fù)振幅式透射全息版中的一種。
13、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，反射全息版為振幅式反射全息版、相位式反射全息版、復(fù)振幅式反射全息版中的一種。
14、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，反射全息版為曲面版；在此情況下，通過(guò)調(diào)整全息版的局部和整體面型，能夠?yàn)楣馐{(diào)控提供更高的自由度。
15、在一些可能實(shí)現(xiàn)的方式中，光學(xué)系統(tǒng)中還可以包括單色器、光闌、擴(kuò)束裝置、勻光裝置、光檢測(cè)裝置、光測(cè)量裝置、光標(biāo)定裝置中的至少一種。
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1.一種光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括相干光源、分束裝置、第一全息版：所述相干光源發(fā)出的光束經(jīng)所述分束裝置分束出多個(gè)光束，所述多個(gè)光束中包括第一光束和第二光束，且所述第一光束經(jīng)第一光路、所述第二光束經(jīng)第二光路投射至同一成像面；所述第一全息版設(shè)置在所述第一光路上；所述第一光束與所述第二光束的光程差小于或等于所述相干光源的相干長(zhǎng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述分束裝置為分振幅裝置或分波前裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述相干光源包括自由電子激光源、同步輻射光源、高次諧波產(chǎn)生型激光源中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)還包括第二全息版，所述第二全息版設(shè)置在所述第二光路上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一全息版上記錄有第一全息圖，所述第二全息版上記錄有第二全息圖，所述第一全息圖和所述第二全息圖用于在所述成像面上形成目標(biāo)圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一全息版和/或所述第二全
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光路上設(shè)置有至少一個(gè)反射鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第二光路上設(shè)置有至少一個(gè)反射鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述透射全息版為振幅式透射全息版、相位式透射全息版、復(fù)振幅式透射全息版中的一種；所述反射全息版為振幅式反射全息版、相位式反射全息版、復(fù)振幅式反射全息版中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述反射全息版為曲面版。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括單色器、光闌、擴(kuò)束裝置、勻光裝置、光檢測(cè)裝置、光測(cè)量裝置、光標(biāo)定裝置中的一種或多種。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括相干光源、分束裝置、第一全息版：所述相干光源發(fā)出的光束經(jīng)所述分束裝置分束出多個(gè)光束，所述多個(gè)光束中包括第一光束和第二光束，且所述第一光束經(jīng)第一光路、所述第二光束經(jīng)第二光路投射至同一成像面；所述第一全息版設(shè)置在所述第一光路上；所述第一光束與所述第二光束的光程差小于或等于所述相干光源的相干長(zhǎng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述分束裝置為分振幅裝置或分波前裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述相干光源包括自由電子激光源、同步輻射光源、高次諧波產(chǎn)生型激光源中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)還包括第二全息版，所述第二全息版設(shè)置在所述第二光路上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一全息版上記錄有第一全息圖，所述第二全息版上記錄有第二全息圖，所述第一全息圖和所述第二...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：史博文，朱海，宋厚甫，王旭東，徐文偉，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：華為技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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