【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及窯爐設(shè)備，尤其涉及一種低溫熔塊燒制裝置。
技術(shù)介紹
1、在玻璃油墨生產(chǎn)過程中，熔劑的制備是一個關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其質(zhì)量和制備效率直接影響到后續(xù)玻璃油墨的性能及應用效果。而玻璃油墨熔劑的傳統(tǒng)生產(chǎn)方式是采用回轉(zhuǎn)式窯爐進行燒制。然而，采用回轉(zhuǎn)式窯爐燒制的方式存在較多問題，首先，回轉(zhuǎn)式窯爐在燒制過程中，由于物料翻轉(zhuǎn)和高溫作用，容易產(chǎn)生大量粉塵，不僅對環(huán)境造成污染，還威脅到操作工人的健康；其次，回轉(zhuǎn)式窯爐的熱效率相對較低，需要大量的能源來維持爐內(nèi)的高溫環(huán)境，導致生產(chǎn)成本上升，且不符合當前節(jié)能減排要求；此外，傳統(tǒng)燒制方式人工干預多，生產(chǎn)效率受限，自動化水平較低。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于提出一種低溫熔塊燒制裝置，以解決上述
技術(shù)介紹
中存在的一個或多個技術(shù)問題。
2、為達此目的，本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案：
3、一種低溫熔塊燒制裝置，包括熔塊池窯爐、送料機構(gòu)、燃燒機、出料機構(gòu)和水循環(huán)機組；所述熔塊池窯爐內(nèi)設(shè)有依次相連通的燃燒通道、熔化池和排料通道，所述排料通道開設(shè)有排料間隙，所述排料間隙的大小可調(diào)節(jié)，所述熔化池的底面由靠近所述燃燒通道的一端向靠近所述排料通道的一端傾斜向下設(shè)置，所述熔化池的末端與所述排料通道之間還設(shè)有液面調(diào)節(jié)板，所述液面調(diào)節(jié)板的豎直高度可調(diào)，所述熔化池的一側(cè)還開設(shè)有進料口，所述燃燒通道、所述排料通道及所述進料口的設(shè)置高度均高于所述熔化池的底面，所述燃燒機設(shè)在所述熔塊池窯爐的一端，所述燃燒機的輸出端通過所述燃燒通道與所述熔化池相通，所述送料
4、優(yōu)選的，所述熔塊池窯爐包括由高鋁磚砌成的窯體和傾斜底板，所述窯體內(nèi)形成所述燃燒通道、所述熔化池和所述排料通道，所述燃燒通道的內(nèi)徑從所述熔塊池窯爐的一端向靠近所述熔化池的一端逐漸增大，所述傾斜底板設(shè)在所述熔化池的底部，使所述熔化池的底部形成由靠近所述燃燒通道的一端向靠近所述排料通道的一端傾斜向下設(shè)置的底面，所述傾斜底板為電熔鋯剛玉磚鋪設(shè)而成，所述傾斜底板的底部填充有隔熱填料，所述熔化池的頂部和所述排料通道的頂部分別設(shè)有第一保溫層和第二保溫層，所述第一保溫層和所述第二保溫層均為保溫磚砌成。
5、優(yōu)選的，所述熔塊池窯爐還包括排料組件，所述排料組件包括排料閥口、升降閥芯和第一升降部件，所述排料閥口豎直設(shè)置在所述排料通道中，所述排料閥口的開口面積從上至下逐漸減小，所述第一升降部件設(shè)在所述排料通道內(nèi)，所述升降閥芯設(shè)在所述第一升降部件的升降端，并與所述排料閥口上下相對設(shè)置，所述升降閥芯與所述排料閥口的內(nèi)側(cè)之間形成所述排料間隙，當所述第一升降部件帶動所述升降閥芯升降活動時，所述排料間隙作增大或減小的變化。
6、優(yōu)選的，所述熔塊池窯爐還包括液面調(diào)節(jié)組件，所述液面調(diào)節(jié)組件包括所述液面調(diào)節(jié)板、第二升降部件和紅外傳感器，所述熔化池與所述排料通道之間設(shè)有后池壁，所述液面調(diào)節(jié)板的一側(cè)與所述后池壁相貼合，所述第二升降部件設(shè)在所述熔化池的上方，所述液面調(diào)節(jié)板設(shè)在所述第二升降部件的升降端，所述熔化池的底部還設(shè)有水平池底段，所述水平池底段與所述傾斜底板的末端相接，所述液面調(diào)節(jié)板與所述水平池底段上下相對設(shè)置，所述第二升降部件用于帶動所述液面調(diào)節(jié)板升降活動，以調(diào)節(jié)所述液面調(diào)節(jié)板的高度，所述紅外傳感器設(shè)在所述排料通道的上方，所述紅外傳感器用于檢測所述排料通道的液面高度。
7、優(yōu)選的，所述出料機構(gòu)包括淬冷池、出料提升機和出料倉，所述淬冷池包括淬冷斗和淬冷水箱，所述淬冷斗設(shè)在所述出料口的下方，所述淬冷斗的一側(cè)與所述淬冷水箱連通，所述出料提升機的進料端延伸至所述淬冷水箱內(nèi)，所述提升機的出料端與所述出料倉相接，所述淬冷斗的頂端設(shè)有多個噴頭，所述水循環(huán)機組的回水端與所述淬冷水箱的底部連通，所述水循環(huán)機組的出水端與多個所述噴頭相連。
8、優(yōu)選的，所述出料提升機包括提升電機、主動輪、從動輪、輸送帶和多個提升盤，所述主動論和所述從動輪上下設(shè)置，所述從動輪設(shè)在所述淬冷水箱內(nèi)，所述提升電機的轉(zhuǎn)軸端與所述主動輪相連，所述輸送帶與所述主動輪及所述從動輪嚙合，多個所述提升盤設(shè)在所述輸送帶的外側(cè)，當所述提升電機帶動所述主動輪轉(zhuǎn)動時，所述輸送帶帶動多個所述提升盤逐個從下向上經(jīng)過所述淬冷斗的底端，所述淬冷斗的底部還設(shè)有傾斜設(shè)置的第一引導板，所述第一引導板的底端延伸至靠近所述提升盤的位置，所淬冷箱內(nèi)設(shè)有濾板，所述濾板設(shè)在所述提升盤的運動軌跡上，且所述濾板與所述提升盤的外側(cè)相接觸。
9、優(yōu)選的，所述提升盤的底部設(shè)有從靠近所述從動輪一端向靠近所述淬冷斗的一端逐漸向上過渡的圓弧段，所述提升盤的底部開設(shè)有多個瀝水孔，所述出料倉設(shè)在所述主動輪的一側(cè)，所述主動輪與所述出料倉之間還設(shè)有傾斜設(shè)置的第二引導板，所述第二引導板的頂端與所述提升盤的運動軌跡相接，所述第二引導板的底端延伸至靠近所述出料倉的位置，所述出料倉的底部設(shè)有出料單元。
10、優(yōu)選的，所述熔塊池窯爐還包括供熱端熱電偶、第一熔池熱電偶、第二熔池熱電偶和出料端熱電偶，所述供熱端熱電偶設(shè)在所述燃燒通道中，所述第一熔池熱電偶設(shè)在所述熔化池靠近所述燃燒通道處，所述第二熔池熱電偶設(shè)在所述熔化池靠近所述排料通道處，所述出料端熱電偶設(shè)在所述排料通道中。
11、優(yōu)選的，所述淬冷池還包括進水溫度傳感器、回水溫度傳感器和紅外溫度傳感器，所述進水溫度傳感器設(shè)在所述淬冷水箱的底部，所述回水溫度傳感器設(shè)在所述噴頭的始端，所述紅外溫度傳感器設(shè)在所述第一引導板的底部，所述進水溫度傳感器用于采集所述淬冷水箱內(nèi)冷卻水的水溫，所述回水溫度傳感器用于采集所述噴頭噴出的冷卻水的水溫，所述紅外溫度傳感器用于采集所述第一引導板的溫度，通過所述進水溫度傳感器、所述回水溫度傳感器和所述紅外溫度傳感器采集的數(shù)據(jù)來調(diào)節(jié)所述水循環(huán)機組的制冷量及出水量。
12、優(yōu)選的，所述送料機構(gòu)包括送料電機、送料筒、送料螺桿和加熱圈，所述送料電機設(shè)在所述送料筒的一端，所述送料筒的另一端與所述進料口對應，所述送料螺桿設(shè)在所述送料筒內(nèi)，所述送料螺桿的一端與所述送料電機的轉(zhuǎn)軸端相連，所述加熱圈覆蓋在所述送料筒的外側(cè)，所述加熱圈的底部設(shè)有設(shè)有離心風機，所述送料筒上還設(shè)有徑向設(shè)置的進料箱。
13、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果為：本專利技術(shù)的低溫熔塊燒制裝置，與現(xiàn)有技術(shù)的回轉(zhuǎn)式窯爐相比，采用熔塊池窯爐對熔劑進行燒制，減少了高溫翻轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生的粉塵量，從而有效降低了對環(huán)境的污染，同時也大大減輕了對操作工人健康的威脅，改善了工作環(huán)境；熔化池窯爐內(nèi)設(shè)有液面調(diào)節(jié)板和排料可調(diào)節(jié)的排料間隙，實現(xiàn)了更加高效的熱能利用，減少能源浪費。本裝置還設(shè)有送料機構(gòu)、燃燒機、出料機構(gòu)和水循環(huán)機組，實現(xiàn)了從原料送入到熔劑淬冷、輸出的全自動化流程，減少了人工干預，提高了生產(chǎn)效率，并保證了產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。
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1.一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，包括熔塊池窯爐、送料機構(gòu)、燃燒機、出料機構(gòu)和水循環(huán)機組；所述熔塊池窯爐內(nèi)設(shè)有依次相連通的燃燒通道、熔化池和排料通道，所述排料通道開設(shè)有排料間隙，所述排料間隙的大小可調(diào)節(jié)，所述熔化池的底面由靠近所述燃燒通道的一端向靠近所述排料通道的一端傾斜向下設(shè)置，所述熔化池的末端與所述排料通道之間還設(shè)有液面調(diào)節(jié)板，所述液面調(diào)節(jié)板的豎直高度可調(diào)，所述熔化池的一側(cè)還開設(shè)有進料口，所述燃燒通道、所述排料通道及所述進料口的設(shè)置高度均高于所述熔化池的底面，所述燃燒機設(shè)在所述熔塊池窯爐的一端，所述燃燒機的輸出端通過所述燃燒通道與所述熔化池相通，所述送料機構(gòu)的輸出端與所述進料口對應，所述出料機構(gòu)設(shè)在所述排料間隙的下方，所述出料機構(gòu)用于對熔化池排出的熔劑進行淬冷，并在淬冷后繼續(xù)提升輸送至外部，所述水循環(huán)機組與所述出料機構(gòu)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐包括由高鋁磚砌成的窯體和傾斜底板，所述窯體內(nèi)形成所述燃燒通道、所述熔化池和所述排料通道，所述燃燒通道的內(nèi)徑從所述熔塊池窯爐的一端向靠近所述熔化池的一端逐漸增大，所述傾
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐還包括排料組件，所述排料組件包括排料閥口、升降閥芯和第一升降部件，所述排料閥口豎直設(shè)置在所述排料通道中，所述排料閥口的開口面積從上至下逐漸減小，所述第一升降部件設(shè)在所述排料通道內(nèi)，所述升降閥芯設(shè)在所述第一升降部件的升降端，并與所述排料閥口上下相對設(shè)置，所述升降閥芯與所述排料閥口的內(nèi)側(cè)之間形成所述排料間隙，當所述第一升降部件帶動所述升降閥芯升降活動時，所述排料間隙作增大或減小的變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐還包括液面調(diào)節(jié)組件，所述液面調(diào)節(jié)組件包括所述液面調(diào)節(jié)板、第二升降部件和紅外傳感器，所述熔化池與所述排料通道之間設(shè)有后池壁，所述液面調(diào)節(jié)板的一側(cè)與所述后池壁相貼合，所述第二升降部件設(shè)在所述熔化池的上方，所述液面調(diào)節(jié)板設(shè)在所述第二升降部件的升降端，所述熔化池的底部還設(shè)有水平池底段，所述水平池底段與所述傾斜底板的末端相接，所述液面調(diào)節(jié)板與所述水平池底段上下相對設(shè)置，所述第二升降部件用于帶動所述液面調(diào)節(jié)板升降活動，以調(diào)節(jié)所述液面調(diào)節(jié)板的高度，所述紅外傳感器設(shè)在所述排料通道的上方，所述紅外傳感器用于檢測所述排料通道的液面高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述出料機構(gòu)包括淬冷池、出料提升機和出料倉，所述淬冷池包括淬冷斗和淬冷水箱，所述淬冷斗設(shè)在所述出料口的下方，所述淬冷斗的一側(cè)與所述淬冷水箱連通，所述出料提升機的進料端延伸至所述淬冷水箱內(nèi)，所述提升機的出料端與所述出料倉相接，所述淬冷斗的頂端設(shè)有多個噴頭，所述水循環(huán)機組的回水端與所述淬冷水箱的底部連通，所述水循環(huán)機組的出水端與多個所述噴頭相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述出料提升機包括提升電機、主動輪、從動輪、輸送帶和多個提升盤，所述主動論和所述從動輪上下設(shè)置，所述從動輪設(shè)在所述淬冷水箱內(nèi)，所述提升電機的轉(zhuǎn)軸端與所述主動輪相連，所述輸送帶與所述主動輪及所述從動輪嚙合，多個所述提升盤設(shè)在所述輸送帶的外側(cè)，當所述提升電機帶動所述主動輪轉(zhuǎn)動時，所述輸送帶帶動多個所述提升盤逐個從下向上經(jīng)過所述淬冷斗的底端，所述淬冷斗的底部還設(shè)有傾斜設(shè)置的第一引導板，所述第一引導板的底端延伸至靠近所述提升盤的位置，所淬冷箱內(nèi)設(shè)有濾板，所述濾板設(shè)在所述提升盤的運動軌跡上，且所述濾板與所述提升盤的外側(cè)相接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述提升盤的底部設(shè)有從靠近所述從動輪一端向靠近所述淬冷斗的一端逐漸向上過渡的圓弧段，所述提升盤的底部開設(shè)有多個瀝水孔，所述出料倉設(shè)在所述主動輪的一側(cè)，所述主動輪與所述出料倉之間還設(shè)有傾斜設(shè)置的第二引導板，所述第二引導板的頂端與所述提升盤的運動軌跡相接，所述第二引導板的底端延伸至靠近所述出料倉的位置，所述出料倉的底部設(shè)有出料單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐還包括供熱端熱電偶、第一熔池熱電偶、第二熔池熱電偶和出料端熱電偶，所述供熱端熱電偶設(shè)在所述燃燒通道中，所述第一熔池熱電偶設(shè)...
【技術(shù)特征摘要】
1.一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，包括熔塊池窯爐、送料機構(gòu)、燃燒機、出料機構(gòu)和水循環(huán)機組；所述熔塊池窯爐內(nèi)設(shè)有依次相連通的燃燒通道、熔化池和排料通道，所述排料通道開設(shè)有排料間隙，所述排料間隙的大小可調(diào)節(jié)，所述熔化池的底面由靠近所述燃燒通道的一端向靠近所述排料通道的一端傾斜向下設(shè)置，所述熔化池的末端與所述排料通道之間還設(shè)有液面調(diào)節(jié)板，所述液面調(diào)節(jié)板的豎直高度可調(diào)，所述熔化池的一側(cè)還開設(shè)有進料口，所述燃燒通道、所述排料通道及所述進料口的設(shè)置高度均高于所述熔化池的底面，所述燃燒機設(shè)在所述熔塊池窯爐的一端，所述燃燒機的輸出端通過所述燃燒通道與所述熔化池相通，所述送料機構(gòu)的輸出端與所述進料口對應，所述出料機構(gòu)設(shè)在所述排料間隙的下方，所述出料機構(gòu)用于對熔化池排出的熔劑進行淬冷，并在淬冷后繼續(xù)提升輸送至外部，所述水循環(huán)機組與所述出料機構(gòu)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐包括由高鋁磚砌成的窯體和傾斜底板，所述窯體內(nèi)形成所述燃燒通道、所述熔化池和所述排料通道，所述燃燒通道的內(nèi)徑從所述熔塊池窯爐的一端向靠近所述熔化池的一端逐漸增大，所述傾斜底板設(shè)在所述熔化池的底部，使所述熔化池的底部形成由靠近所述燃燒通道的一端向靠近所述排料通道的一端傾斜向下設(shè)置的底面，所述傾斜底板為電熔鋯剛玉磚鋪設(shè)而成，所述傾斜底板的底部填充有隔熱填料，所述熔化池的頂部和所述排料通道的頂部分別設(shè)有第一保溫層和第二保溫層，所述第一保溫層和所述第二保溫層均為保溫磚砌成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐還包括排料組件，所述排料組件包括排料閥口、升降閥芯和第一升降部件，所述排料閥口豎直設(shè)置在所述排料通道中，所述排料閥口的開口面積從上至下逐漸減小，所述第一升降部件設(shè)在所述排料通道內(nèi)，所述升降閥芯設(shè)在所述第一升降部件的升降端，并與所述排料閥口上下相對設(shè)置，所述升降閥芯與所述排料閥口的內(nèi)側(cè)之間形成所述排料間隙，當所述第一升降部件帶動所述升降閥芯升降活動時，所述排料間隙作增大或減小的變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述熔塊池窯爐還包括液面調(diào)節(jié)組件，所述液面調(diào)節(jié)組件包括所述液面調(diào)節(jié)板、第二升降部件和紅外傳感器，所述熔化池與所述排料通道之間設(shè)有后池壁，所述液面調(diào)節(jié)板的一側(cè)與所述后池壁相貼合，所述第二升降部件設(shè)在所述熔化池的上方，所述液面調(diào)節(jié)板設(shè)在所述第二升降部件的升降端，所述熔化池的底部還設(shè)有水平池底段，所述水平池底段與所述傾斜底板的末端相接，所述液面調(diào)節(jié)板與所述水平池底段上下相對設(shè)置，所述第二升降部件用于帶動所述液面調(diào)節(jié)板升降活動，以調(diào)節(jié)所述液面調(diào)節(jié)板的高度，所述紅外傳感器設(shè)在所述排料通道的上方，所述紅外傳感器用于檢測所述排料通道的液面高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種低溫熔塊燒制裝置，其特征在于，所述出料機構(gòu)包括淬冷池、出料提升機和出料倉，所述淬冷池包括淬冷...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：曾力，劉平，鐘冬青，蔣方鋮，林偉業(yè)，鄭曉梅，
申請(專利權(quán))人：佛山市利德嘉陶瓷制釉有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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