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    強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器制造技術(shù)

    技術(shù)編號:4774326 閱讀:419 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本實用新型專利技術(shù)是一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,包括蒸發(fā)室和帶封頭的加熱室,加熱室內(nèi)設(shè)有若干加熱管,在加熱管的上部設(shè)有分布頭導(dǎo)流溝,其特點是,在加熱室內(nèi)的分布頭導(dǎo)流溝上部固定設(shè)有密孔式分流板,所述的密孔式分流板上設(shè)有若干個分流孔。本實用新型專利技術(shù)結(jié)構(gòu)更為合理,使用時,料液在通過密孔式分流板時得到了充分地分流,較為均衡流入每根加熱管,從而充分利用熱能,蒸發(fā)水份多,縮短出料時間。經(jīng)試驗對比,強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器的日產(chǎn)量可提高15%左右,并可節(jié)約原煤5%左右;因為每根加熱管都能被料液潤濕,所以可延長蒸發(fā)器2年左右的使用壽命。(*該技術(shù)在2019年保護過期,可自由使用*)

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及一種蒸發(fā)器,特別是一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器
    技術(shù)介紹
    強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器是通過加入老鹵進行蒸發(fā)水份將老鹵濃縮至終止沸點后,排 入保溫沉降槽,通過冷卻結(jié)片,制得工業(yè)氯化鎂的關(guān)健設(shè)備。目前強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器循環(huán) 泵輸送料液進加熱管不均勻,中間料液較滿,邊上料液較少,從而造成熱能不能充分利用, 熱能浪費、產(chǎn)量低。而且,料液分布不均局部過熱產(chǎn)生腐蝕性HCL氣體增多,加劇腐蝕加熱 室,導(dǎo)致使用壽命縮短。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)更為合 理、可提高產(chǎn)量并降低能耗的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器。 本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是通過以下的技術(shù)方案來實現(xiàn)的。本技術(shù)是 一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,包括蒸發(fā)室和帶封頭的加熱室,加熱室內(nèi)設(shè)有若干加熱管,在加 熱管的上部設(shè)有分布頭導(dǎo)流溝,其特點是,在加熱室內(nèi)的分布頭導(dǎo)流溝上部固定設(shè)有密孔 式分流板,所述的密孔式分流板上設(shè)有若干個分流孔。 本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題還可以通過以下的技術(shù)方案來進一步實現(xiàn)。以上所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,其特點是,所述的密孔式分流板的開孔率為18-25 % 。 本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題還可以通過以下的技術(shù)方案來進一步實現(xiàn)。以上所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,其特點是,所述的密孔式分流板的開孔率為21 % 。 本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題還可以通過以下的技術(shù)方案來進一步實現(xiàn)。以上所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,其特點是,密孔式分流板上所設(shè)的分流孔均勻設(shè)置。 本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題還可以通過以下的技術(shù)方案來進一步實現(xiàn)。以上所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,其特點是,所述的密孔式分流板與加熱管項端之間的距離為90-110mm。 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本技術(shù)結(jié)構(gòu)更為合理,使用時,料液在通過密孔式分流板時 得到了充分地分流,較為均衡流入每根加熱管,從而充分利用熱能,蒸發(fā)水份多,縮短出料 時間。經(jīng)試驗對比,強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器的日產(chǎn)量可提高15%左右,并可節(jié)約原煤5%左 右;因為每根加熱管都能被料液潤濕,所以可延長蒸發(fā)器2年左右的使用壽命。附圖說明圖1為本技術(shù)的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2為密孔式分流板的一種結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式以下參照附圖,進一步描述本技術(shù)的具體技術(shù)方案,以便于本領(lǐng)域的技術(shù)人員進一步地理解本專利技術(shù),而不構(gòu)成對其權(quán)利的限制。 實施例1。參照圖1-2。 一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,包括蒸發(fā)室6和帶封頭1的加熱室4,加熱室4內(nèi)設(shè)有若干加熱管5,在加熱管5的上部設(shè)有分布頭導(dǎo)流溝3,在加熱室4內(nèi)的分布頭導(dǎo)流溝3上部固定設(shè)有密孔式分流板2,所述的密孔式分流板2上設(shè)有若干個分流孔7。 實施例2。實施例l所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2的開孔率為18%。 實施例3。實施例l所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2的開孔率為25%。 實施例4。實施例l所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2的開孔率為21%。 實施例5。實施例l-4任何一項所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2上所設(shè)的分流孔7均勻設(shè)置。 實施例6。實施例l所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2與加熱管5項端之間的距離為90mm。 實施例7。實施例2所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2與加熱管5項端之間的距離為110mm。 實施例8。實施例3所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器中,所述的密孔式分流板2與加熱管5項端之間的距離為100mm。本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】
    一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,包括蒸發(fā)室(6)和帶封頭(1)的加熱室(4),加熱室(4)內(nèi)設(shè)有若干加熱管(5),在加熱管(5)的上部設(shè)有分布頭導(dǎo)流溝(3),其特征在于,在加熱室(4)內(nèi)的分布頭導(dǎo)流溝(3)上部固定設(shè)有密孔式分流板(2),所述的密孔式分流板(2)上設(shè)有若干個分流孔(7)。

    【技術(shù)特征摘要】
    一種強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,包括蒸發(fā)室(6)和帶封頭(1)的加熱室(4),加熱室(4)內(nèi)設(shè)有若干加熱管(5),在加熱管(5)的上部設(shè)有分布頭導(dǎo)流溝(3),其特征在于,在加熱室(4)內(nèi)的分布頭導(dǎo)流溝(3)上部固定設(shè)有密孔式分流板(2),所述的密孔式分流板(2)上設(shè)有若干個分流孔(7)。2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的強制循環(huán)降膜蒸發(fā)器,其特征在于,所述的密孔式分流板(2) 的開...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:徐同座高玉年匡洪志
    申請(專利權(quán))人:祁洪波
    類型:實用新型
    國別省市:32[中國|江蘇]

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