低靜電調理洗發劑制造技術

本發明專利技術提供了一種有效的調理洗發劑，其中不含調理有效量的聚硅氧烷調理劑，該組合物中含有：Ａ）．約５－４０％（重量）陰離子洗滌劑和兩性表面活性劑的洗滌表面活性劑混合物，其中陰離子洗滌劑與兩性表面活性劑重量比約為１０∶１至０．８∶１；Ｂ）．約０．０５－６％（重量）調理劑，選自：０．０５－５％（重量）基本等摩爾量的Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［１－１０］羧酸、和Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［０－１０］二甲胺的配合物；０．０５－１．０％（重量）聚季銨鹽化合物，選自季銨化纖維素聚合物，以及所述的季銨化纖維素聚合物與非纖維素季銨鹽調理聚合物的混合物；和上述成分的混合物；Ｃ）．０．１－１％抗靜電混合物，其中包含：如式Ｒ↓［９］，Ｒ↓［１０］，Ｒ↓［１１］，Ｒ↓［１２］Ｎ↑［＋］Ｘ↑［－］所示的季銨鹽，其中Ｒ↓［９］是Ｃ↓［１４］－Ｃ↓［１８］烷基，Ｒ↓［１０］和Ｒ↓［１１］分別是Ｃ↓［１－４］烷基，Ｒ↓［１２］是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或芐基，并且Ｘ↑［－］是成鹽陽離子，選自氯化物、溴化物、甲代硫酸鹽和乙代硫酸鹽；以及如式（Ｒ↓［１３］）↓［２］Ｒ↓［１４］Ｒ↓［１５］Ｎ↑［＋］Ｘ↑［－］所示的二季銨鹽，其中Ｒ↓［１３］是Ｃ↓［１４］－Ｃ↓［１８］烷基或亞烷基，并且Ｒ↓［１４］和Ｒ↓［１５］分別是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［ｎ］Ｈ，Ｒ↓［１４］和Ｒ↓［１５］中至少一個是（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［ｎ］Ｈ，ｎ是２－２０的整數，ｘ是以上所列的陽離子；單烷基季銨鹽與二烷基季銨鹽的重量比約為１∶４至４∶１；和Ｄ）．含水介質；與僅含單烷基季銨鹽或二烷基季銨鹽作為唯一抗靜電劑的組合物相比，該組合物具有增進的抗靜電特性。（*該技術在2017年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種有效的調理洗發劑，其中不含調理有效量的聚硅氧烷調理劑，該組合物中含有：Ａ．約５－４０％（重量）洗滌表面活性劑混合物，其中包括：（１）陰離子洗滌劑，選自Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基硫酸鹽，分子中含１－１２個氧乙烯基的Ｃ↓［８］－Ｃ ↓［１８］烷基氧乙烯基醚硫酸鹽，Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］酰基羥乙磺酸鹽，Ｃ↓［１０］－Ｃ↓［２０］烷基磺酸鹽，Ｃ↓［１０］－Ｃ↓［２２］烯烴磺酸鹽，及它們的混合物；和（２）兩性表面活性劑，選自Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基甜菜堿和磺基甜菜 堿，Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基酰胺，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［３］烷基甜菜堿和磺基甜菜堿，Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基兩性乙酸鹽，Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基兩性丙酸鹽，及它們的混合物；所述的陰離子洗滌劑與所述的兩性洗滌劑重量比約為１０∶１至０．８∶１；Ｂ．約０．０５－６％（重量）調理劑，選自：（１）０．０５－５％（重量）基本等摩爾量的Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［１－１０］羧酸、和Ｃ↓［８］－Ｃ↓［１８］烷基（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［０ －１０］二甲胺的配合物；（２）０．０５－１．０％（重量）聚季銨鹽化合物，選自季銨化纖維素聚合物，以及所述的季銨化纖維素聚合物與非纖維素季銨鹽調理聚合物的混合物；和（３）上述成分的混合物；Ｃ．０．１－１％抗靜電混合物，其中包含： （１）如式Ｒ↓［９］，Ｒ↓［１０］，Ｒ↓［１１］，Ｒ↓［１２］Ｎ↑［＋］Ｘ↑［－］所示的季銨鹽，其中Ｒ↓［９］是Ｃ↓［１４］－Ｃ↓［１８］烷基，Ｒ↓［１０］和Ｒ↓［１１］分別是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，Ｒ↓［１２］是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或芐基，并且Ｘ↑［－］是成鹽陽離子，選自氯化物、溴化物、甲代硫酸鹽和乙代硫酸鹽；以及（２）如式（Ｒ↓［１３］）↓［２］Ｒ↓［１４］Ｒ↓［１５］Ｎ↑［＋］Ｘ↑［－］所示的二烷基季銨鹽，其中Ｒ↓［１３］是Ｃ↓［１４］－Ｃ↓［１８］烷基 或亞烷基，并且Ｒ↓［１４］和Ｒ↓［１５］分別是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［ｎ］Ｈ，Ｒ↓［１４］和Ｒ↓［１５］中至少一個是（ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］Ｏ）↓［ｎ］Ｈ，ｎ是２－２０的整數，ｘ是以上Ｃ（１）中所列的陽離子；單烷基季銨鹽與二烷基季銨鹽的重量比約為１∶４至４∶１；并且Ｄ．余量為含水介質；與僅含單烷基季銨鹽或二烷基季銨鹽作為唯一...

【技術特征摘要】
...

【專利技術屬性】
技術研發人員：AM帕特爾，SK喬普拉，
申請(專利權)人：科爾加特帕爾莫利弗公司，
類型：發明
國別省市：US[美國]