二氧化碳氣霧壓浴系統技術方案

提供了一種能夠使機體的皮膚和粘膜有效吸收二氧化碳濃度高的二氧化碳氣霧的二氧化碳氣霧壓浴系統，其包括：二氧化碳供給裝置（１１）；液體供給裝置（２１）；二氧化碳氣霧生成裝置（３１），該二氧化碳氣霧生成裝置（３１）使所述二氧化碳和所述液體霧化并溶解以生成二氧化碳氣霧；機體罩部件（４１），該機體罩部件（４１）用于覆蓋機體皮膚和粘膜，以形成將所述二氧化碳氣霧生成裝置（３１）生成的二氧化碳氣霧封入內部的空間；液體循環裝置（６１），該液體循環裝置（６１）將儲存于所述二氧化碳氣霧生成裝置（３１）內的液體再次供給到所述二氧化碳氣霧生成裝置（３１）；以及機體罩部件加壓裝置（８１），該機體罩部件加壓裝置（８１）對所述機體罩部件（４１）內加壓。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及通過使二氧化碳氣霧以規定壓力值以上與機體的皮膚和粘膜接觸而 高效地從皮膚和粘膜吸收二氧化碳的二氧化碳氣霧壓浴系統。
技術介紹
以往，公知由于二氧化碳(CO2)具有既易溶于水(水溶性)又易溶于油(脂溶性) 的兩面性質，使其具有只要與類似于水油混合物的機體的皮膚和粘膜相接觸即可滲透到皮 下，使滲透部位的血管擴張從而改善血液循環的作用。并且通過該血液循環促進作用，而發 揮著降低血壓、改善代謝、促進疼痛物質或廢物排出等各種各樣的生理功效。另外，還具有 抗炎、抗菌的作用。因此，近年來，二氧化碳不僅出于醫療目的，從增進健康、促進美容方面 考慮，也得到了廣泛的關注。在機體組織中，二氧化碳具有與紅血球中的血紅蛋白結合以使運送的氧氣釋放的 功效。在二氧化碳濃度高的地方，血紅球釋放出更多的氧氣。這樣，血紅球對細胞的供氧， 主要由二氧化碳來控制。即，沒有二氧化碳，血紅蛋白以與氧氣相結合的狀態存在，細胞就 不能獲得氧。這樣，常常認為二氧化碳是如細胞活動的結果排出的廢物，而實際上其在機體 中發揮著非常重要的作用。作為用于使機體吸收二氧化碳的現有技術，利用最廣泛是(1)在水中產生二氧化 碳的沐浴劑。這種沐浴劑投入浴池內的洗澡水中時，包含在沐浴劑中的碳酸鹽和酸反應產 生二氧化碳，溶解在洗澡水中。沐浴時，溶解在洗澡水中的二氧化碳與人體的皮膚接觸而滲 透到皮下，發揮所述的生理作用。進而，作為使二氧化碳更多地與機體接觸的現有技術，公知的有(2) 二氧化碳浴 裝置。這是向洗澡水里噴出二氧化碳、使其擴散并高濃度溶解二氧化碳的裝置。并且，通 過在溶解了二氧化碳的洗澡水中沐浴，與所述沐浴劑同樣地能夠使二氧化碳與皮膚直接接 觸。另外，至此還公開了(3)促進血液循環裝置，在人體上安裝與人體表面形成密閉 空間的罩，從二氧化碳供給裝置向該密閉空間內供給二氧化碳進行二氧化碳浴。進而，至此由本專利技術人提出了(4) 二氧化碳壓浴裝置，其至少包括二氧化碳供給 裝置、加壓裝置以及用于覆蓋人體的皮膚并使二氧化碳以規定壓力值以上與人體的皮膚接 觸的被覆部件。專利文獻1 特開平07-171189號公報
技術實現思路
然而，所述(1)、(2)的現有技術均為沐浴時使二氧化碳溶于洗澡水中，從機體的 皮膚吸收二氧化碳。因此，存在只能在沐浴時使用的問題。另外，由于二氧化碳一方面易溶 于水，另一方面又容易從水中擴散出來的原因，還存在為了使二氧化碳溶解到洗澡水中，即 使消耗大量的二氧化碳，皮膚對二氧化碳的吸收率無論如何都不高的問題。4另一方面，所述(3)、(4)的現有技術，由于使二氧化碳直接與機體接觸，其與(1)、 (2)的現有技術相比較效果好、效率高。但是，不具備用于使包含于二氧化碳氣霧中的二氧 化碳濃度進一步提高的具體構造。鑒于所述以往的問題，本專利技術的目的在于提供一種能夠使機體的皮膚和粘膜有效 吸收二氧化碳濃度高的二氧化碳氣霧的二氧化碳氣霧壓浴系統。為了解決所述課題，本專利技術提供了一種用于使氣霧與機體的皮膚和粘膜相接觸的 系統，所述氣霧是將二氧化碳和液體霧化并溶解而形成的二氧化碳的濃度在規定值以上的 氣霧(以下稱為“二氧化碳氣霧”)，其特征在于，該二氧化碳氣霧壓浴系統包括二氧化碳 供給裝置；液體供給裝置；二氧化碳氣霧生成裝置，該二氧化碳氣霧生成裝置用于使所述 二氧化碳和所述液體霧化并溶解以生成二氧化碳氣霧；機體罩部件，該機體罩部件用于覆 蓋所述機體的皮膚及粘膜并將所述二氧化碳氣霧生成裝置生成的二氧化碳氣霧封入內部 形成空間；液體循環裝置，該液體循環裝置用于將所述二氧化碳氣霧生成裝置內存儲的液 體再次供給所述二氧化碳氣霧生成裝置；以及，機體罩部件加壓裝置，該機體罩部件加壓裝 置用于對所述機體罩部件內加壓，并且，該二氧化碳氣霧壓浴系統使所述機體罩部件內的 二氧化碳氣霧以規定的壓力值以上與機體的皮膚和粘膜接觸。另外，在本申請中，所謂霧化并溶解是指液體霧化成微細液滴并與氣體(二氧化 碳)相接觸混合。在此，優選所述二氧化碳氣霧壓浴系統還包括感應器和控制裝置，所述感應器用 于測量所述二氧化碳、液體以及二氧化碳氣霧的供給狀態；所述控制單元用于根據所述感 應器的測量值控制所述二氧化碳、液體的供給，以及控制二氧化碳氣霧的生成和供給。另外，優選還包括液體加壓裝置，該液體加壓裝置用于對通過所述液體循環裝置 循環的液體加壓并供給所述二氧化碳氣霧生成裝置。進而，優選所述機體罩部件加壓裝置進行間歇加壓(脈沖加壓)。另外，還可以包括電荷施加裝置，該電荷施加裝置用于對所述二氧化碳氣霧生成 裝置供給的氣霧施加電荷。在此，所述電荷優選為負電荷。另外，所述液體可以為水、離子水、生理鹽水、抗變態反應藥、抗炎藥、解熱鎮痛藥、 抗真菌藥、或者抗流感病毒藥。或者，所述液體可以為含有薄荷醇、維生素E、維生素C衍生 物、視黃醇、麻醉藥、環糊精、光催化劑和磷灰石的復合物、透明質酸、輔酶Q10、棉籽油、蜂 膠、以及高濃度碳酸泉劑(carbonate spring agent)中的一種或多種藥劑的水、離子水、生 理鹽水、抗變態反應藥、抗炎藥、解熱鎮痛藥、抗真菌藥、或抗流感病毒藥。并且，優選所述液體在加熱的狀態下供給所述二氧化碳氣霧生成裝置。其次，由所述二氧化碳生成裝置供給到所述機體罩部件中的所述霧的粒徑可以為 10 μ m以下。進而，優選所述控制裝置將二氧化碳氣霧壓浴時的所述機體罩部件內的壓力保持 在1.02至2. 5個大氣壓。另外，優選所述二氧化碳氣霧生成裝置具有用于向所述機體罩部件加壓裝置和所 述機體罩部件內供給二氧化碳氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管具備用于除去吸附在管內 的液滴的過濾器。進而，優選所述二氧化碳氣霧生成裝置具有用于向所述機體罩部件加壓裝置和所5述機體罩部件內供給二氧化碳氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管的全部或一部分由波紋管 構成。另外，優選所述二氧化碳氣霧生成裝置具有用于向所述機體罩部件內供給二氧化 碳氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管設置有單向閥。另外，優選所述機體罩部件和所述機體 罩部件加壓裝置的二氧化碳的供給口處也設置有單向閥。并且，優選所述二氧化碳氣霧生成裝置設置有存儲所述液體和二氧化碳氣霧的 罐，該罐內設置有一片或多片板，所述板設置有用于使所述二氧化碳氣霧微細化的細孔。進而，優選所述機體罩部件內的壓力值達到規定值以上時，所述控制裝置停止來 自所述二氧化碳供給裝置的二氧化碳的供給。根據本專利技術的二氧化碳氣霧壓浴系統，可通過簡單的結構提高包含于二氧化碳氣 霧中的二氧化碳的濃度，更有效地促進機體對二氧化碳的經皮吸收。附圖說明圖1為本專利技術的第一實施方式所涉及的二氧化碳氣霧壓浴系統的整體示意圖；圖2為表示配置在本專利技術的二氧化碳氣霧壓浴系統的二氧化碳氣霧生成裝置內 的板的示意圖；圖3為表示本專利技術的二氧化碳氣霧壓浴系統所使用的二氧化碳氣霧供給管的例 子的示意圖；圖4為表示本專利技術所涉及的二氧化碳氣霧壓浴系統中的機體壓浴罩的形狀的例 子(其1)的示意圖；圖5為表示本專利技術所涉及的二氧化碳氣霧壓浴系統中的機體壓浴罩的形狀的例 子(其2)的示意圖；圖6為本專利技術的第二實施方式所涉及的二氧化碳氣霧壓浴系統的整體示意圖。 具體實施例方式以下，參照附圖對本專利技術的實施方式進行詳細的說明。第一實施方式圖1為本專利技術的第一實施方式本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種二氧化碳氣霧壓浴系統，該二氧化碳氣霧壓浴系統為用于使二氧化碳氣霧與機體的皮膚和粘膜相接觸的系統，所述二氧化碳氣霧是將二氧化碳和液體霧化并溶解而形成的二氧化碳的濃度在規定值以上的氣霧，其特征在于，該二氧化碳氣霧壓浴系統包括：二氧化碳供給裝置；液體供給裝置；二氧化碳氣霧生成裝置，該二氧化碳氣霧生成裝置用于使所述二氧化碳和所述液體霧化并溶解以生成二氧化碳氣霧；機體罩部件，該機體罩部件用于覆蓋所述機體的皮膚和粘膜，以形成將所述二氧化碳氣霧生成裝置生成的二氧化碳氣霧封入內部的空間；液體循環裝置，該液體循環裝置用于將所述二氧化碳氣霧生成裝置內存儲的液體再次供給所述二氧化碳氣霧生成裝置；以及機體罩部件加壓裝置，該機體罩部件加壓裝置用于對所述機體罩部件內加壓，并且，該二氧化碳氣霧壓浴系統使所述機體罩部件內的二氧化碳氣霧以規定值以上的壓力與機體的皮膚和粘膜接觸。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】JP 2008-12-26 2008-334792一種二氧化碳氣霧壓浴系統，該二氧化碳氣霧壓浴系統為用于使二氧化碳氣霧與機體的皮膚和粘膜相接觸的系統，所述二氧化碳氣霧是將二氧化碳和液體霧化并溶解而形成的二氧化碳的濃度在規定值以上的氣霧，其特征在于，該二氧化碳氣霧壓浴系統包括二氧化碳供給裝置；液體供給裝置；二氧化碳氣霧生成裝置，該二氧化碳氣霧生成裝置用于使所述二氧化碳和所述液體霧化并溶解以生成二氧化碳氣霧；機體罩部件，該機體罩部件用于覆蓋所述機體的皮膚和粘膜，以形成將所述二氧化碳氣霧生成裝置生成的二氧化碳氣霧封入內部的空間；液體循環裝置，該液體循環裝置用于將所述二氧化碳氣霧生成裝置內存儲的液體再次供給所述二氧化碳氣霧生成裝置；以及機體罩部件加壓裝置，該機體罩部件加壓裝置用于對所述機體罩部件內加壓，并且，該二氧化碳氣霧壓浴系統使所述機體罩部件內的二氧化碳氣霧以規定值以上的壓力與機體的皮膚和粘膜接觸。2.根據權利要求1所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，該系統還包括感應器 和控制裝置，所述感應器用于測量所述二氧化碳、液體以及二氧化碳氣霧的供給狀態；所述 控制裝置用于根據所述感應器的測量值來控制所述二氧化碳和液體的供給，以及控制二氧 化碳氣霧的生成和供給。3.根據權利要求1或2所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，該系統還包括液體 加壓裝置，該液體加壓裝置用于對通過所述液體循環裝置循環的液體加壓并供給到所述二 氧化碳氣霧生成裝置。4.根據權利要求1所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，所述機體罩部件加壓 裝置進行間歇加壓。5.根據權利要求1或2所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，該系統還包括電荷 施加裝置，該電荷施加裝置用于對所述二氧化碳氣霧生成裝置供給的氣霧施加電荷。6.根據權利要求5所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，所述電荷為負電荷。7.根據權利要求1所述的二氧化碳氣霧壓浴系統，其特征在于，所述液體為水、離子 水、生理鹽水、抗變態反應藥、抗炎藥、解熱鎮痛藥、抗真菌藥、或者抗流感病毒藥。8.根據權利要求1所述的二氧化碳氣...

【專利技術屬性】
技術研發人員：中村正一，
申請(專利權)人：中村正一，日本ACP株式會社，
類型：發明
國別省市：JP