【技術實現步驟摘要】
?用作藥物的苯甲酰基胍衍生物
本專利技術涉及可用作藥物的新型胍衍生物及其可藥用鹽。專利技術公開本專利技術涉及新的胍衍生物。本專利技術的一個目的是提供新型且有用的胍衍生物及其可藥用鹽類,它們對細胞內Na+/H+交換具有強烈的抑制活性。本專利技術的另一個目的是提供胍衍生物及其鹽類的制備方法。本專利技術的再一個目的是提供一種包括所述胍衍生物或其藥用鹽的藥物組合物。本專利技術的進一步目的是提供該胍衍生物或其可藥用鹽作為藥物在治療和/或預防人類和動物中的心血管疾病、腦血管疾病、腎病、動脈硬化和休克等中的應用。本專利技術的目的胍衍生物是新的并且可由下列通式(I)代表:其中R1為氫、羥基(低級)烷基、被保護的羥基(低級)烷基、酰基(低???級)烷氧基、酰基(低級)鏈烯基或酰基,和R2為芳(低級)烯基;被二個適合的取代基取代的芳基;茚基、2,3???-二氫化茚基、二氫苯并環庚烯基、二(或四或六或八或十)氫???萘基、環戊烯基、二氫噻吩基、二氫呋喃基或雜二環基團,它們???各自可能具有適合的取代基;低級烷基噻吩基;一(或二)鹵代???噻吩基;一(或二或三)鹵代(低級)烷基噻吩基;酰基噻吩基;???鹵代呋喃基;或一(或二或三)鹵代(低級)烷基呋喃基。本專利技術目標化合物(I)可通過下列方法制備。-->方法(1)其中R1和R2各自定義同前。-->通過以下方法或后面述及的制備過程,或此外類似手段可制得起始化合物。-->方法(B)-->方法(C)-->方法(D)-->方法(E)-->方法(F)-->方法(G)-->方法(H)-->其中R1和R2各自定義同前,R3、R4、R5和R ...
【技術保護點】
下式的化合物及其可藥用鹽***其中R↑[1]為氫、羥基(低級)烷基、被保護的羥基(低級)烷基、酰基(低級)烷氧基、酰基(低級)烯基或酰基,并且R↑[2]為芳(低級)烯基;被二個適合的取代基取代的芳基;茚基、2,3-二氫化茚基 、二氫苯并環庚烯基、二(或四或六或八或十)氫化萘基、環戊烯基、二氫噻吩基、二氫呋喃基或雜二環基,它們各自可能具有適合的取代基;低級烷基噻吩基;一(或二)鹵代噻吩基;一(或二或三)鹵代(低級)烷基噻吩基;酰基噻吩基;鹵代呋喃基;或一(或二或三)鹵代(低級)烷基呋喃基。
【技術特征摘要】
GB 1994-8-5 9415852.4;GB 1994-11-11 9422830.1;GB 11.下式的化合物及其可藥用鹽其中R1為氫、羥基(低級)烷基、被保護的羥基(低級)烷基、酰基(低???級)烷氧基、酰基(低級)烯基或酰基,并且R2為芳(低級)烯基;被二個適合的取代基取代的芳基;茚基、2,3???-二氫化茚基、二氫苯并環庚烯基、二(或四或六或八或十)氫???化萘基、環戊烯基、二氫噻吩基、二氫呋喃基或雜二環基,它們???各自可能具有適合的取代基;低級烷基噻吩基;一(或二)鹵代???噻吩基;一(或二或三)鹵代(低級)烷基噻吩基;酰基噻吩基;???鹵代呋喃基;或一(或二或三)鹵代(低級)烷基呋喃基。2.按權利要求1的化合物,其中R1為氫;羥基(低級)烷基;酰氧基(低級)烷基;〔二(低級)???烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烷氧基;〔二(低???級)烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烯基;可能帶???有二氨基(低級)亞烷基、二(低級)烷基氨基(低級)烷基、???雜環(低級)烷基、二羥基(低級)烷基或低級烷基哌嗪基的???氨基甲酰基;或可能帶有低級烷基的雜環羰基;并且R2為苯基(低級)烯基;被二個選自鹵素、低級烷氧基、羥基、低???級烷基和一(或二或三)鹵代(低級)烷基的取代基所取代的苯???基;茚基、2,3-二氫化茚基、二氫苯并環庚烯基、二(或四或???六或八或十)氫化萘基、環戊烯基、二氫噻吩基、二氫呋喃基、???苯并呋喃基、二氫苯并呋喃基、苯并吡喃基、低級亞烷二氧基苯???基、喹啉基、異喹啉基、喹喔啉基、苯并噁唑基、咪唑并吡啶基、???苯并噻吩基或吲哚基,它們各自可能帶有選自氧基、肟基(低級)???烷基、被保護肟基(低級)烷基、羥基(低級)烷基、被保護羥???基(低級)烷基、一(或二或三)鹵代(低級)烷基、鹵素、低???級亞烷基、低級烷基、低級烷氧基(低級)烷基和氰基的1~3???個取代基;低級烷基噻吩基;一(或二)鹵代噻吩基;〔二鹵代???(低級)烷基〕噻吩基;低級烷酰基噻吩基;氨磺酰噻吩基,鹵???代呋喃基;或〔二鹵代(低級)烷基〕呋喃基。3.按權利要求2的化合物,其中R1為氫;羥基(低級)烷基;酰氧基(低級)烷基;〔二(低級)???烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烷氧基;〔二(低???級)烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烯基;可能帶???有二氨基(低級)亞烷基、二(低級)烷基氨基(低級)烷基、???嗎啉基(低級)烷基、吡咯烷基(低級)烷基、哌啶基(低級)???烷基、二羥基(低級)烷基或低級烷基哌嗪基的氨基甲酰基;或???可能帶有低級烷基的哌嗪基羰基;并且R2為苯基(低級)烯基;被選自鹵素、低級烷氧基、羥基、低級烷???基和一(或二或三)鹵代(低級)烷基的二個取代基所取代的苯???基;茚基、2,3-二氫化茚基、二氫苯并環庚烯基、二(或四或???六或八或十)氫化萘基、環戊烯基、二氫噻吩基、二氫呋喃基、???苯并呋喃基、二氫苯并呋喃基、苯并吡喃基、低級亞烷二氧基苯???基、喹啉基、異喹啉基、喹喔啉基、苯并噁唑基、咪唑并吡啶基、???苯并噻吩基或吲哚基,它們各自可能帶有選自氧、肟基(低級)???烷基、酰氧基亞氨基(低級)烷基、羥基(低級)烷基、酰氧基???(低級)烷基、一(或二或三)鹵代(低級)烷基、鹵素、低級???亞烷基、低級烷基、低級烷氧基(低級)烷基和氰基的一或二個???取代基;低級烷基噻吩基;一(或二)鹵代噻吩基;〔二鹵代(低???級)烷基〕噻吩基;低級烷酰基噻吩基;氨磺酰噻吩基,鹵代呋???喃基;或〔二鹵代(低級)烷基〕呋喃基。4.按權利要求3的化合物,其中R1為氫;羥基(低級)烷基;酰氧基(低級)烷基;〔二(低級)???烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烷氧基;〔二(低???級)烷基氨基(低級)烷基〕氨基甲酰基(低級)烯基;二氨基???(低級)亞烷基氨基甲酰基、〔二(低級)烷基氨基(低級)烷???基〕氨基甲酰基、〔嗎啉...
【專利技術屬性】
技術研發人員:久野敦司,水野裕章,山崎久實,井上善一,
申請(專利權)人:藤澤藥品工業株式會社,
類型:發明
國別省市:JP[日本]
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