本實用新型專利技術公開了一種吸附平臺,其包括:一平臺主體;一設于該平臺主體上的定位角尺,該定位角尺的一臂上設有用于調節該定位角尺的定位區域的調節裝置;以及設于該定位區域內的真空吸附臺。本實用新型專利技術的吸附平臺具有可調性,能夠對任意規格的產品實現精確的定位,大大提高了加工精度。(*該技術在2019年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種固定平臺,特別涉及一種吸附平臺。
技術介紹
超薄玻璃的異型精密加工在玻璃加工行業內屬于要求較高的新穎項目, 但現有的加工方式大多采用仿形技術,對超薄玻璃的固定采用的是粘貼和夾 持的方法,其缺陷是加工精度達不到要求、破損率高、工序多,且需要按照產品尺寸定制專用治具。而部分CNC (Computer numerical control,計算機數字控制機床)加工商即使采用了真空吸附的方法,也仍然需要按產品規 格定制治具,這增加了成本、延長了交貨周期。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題是為了克服現有技術中的固定方式導致 的加工精度達不到要求、破損率高、工序多且需要按照產品尺寸定制專用治 具的缺陷,提供一種能夠對任意規格的產品實現精確定位的可調的吸附平臺o本技術是通過下述技術方案來解決上述技術問題的 一種吸附平 臺,其特點在于,其包括 一平臺主體; 一設于該平臺主體上的定位角尺,該定位角尺的一臂上設有用于調節該定位角尺的定位區域的調節裝置;以及 設于該定位區域內的真空吸附臺。其中,該調節裝置包括 一沿垂直于該臂且平行于該平臺主體上表面的 方向可旋動地穿設于該臂上的螺旋調節器; 一擋塊,沿平行于該臂的方向固 定于該螺旋調節器的朝向該定位區域一側的末端上。較佳地,該調節裝置還包括兩個可移動地穿設于該臂上的彈簧導軌,該 兩個彈簧導軌分別位于該螺旋調節器兩側且與該螺旋調節器平行。 較佳地,該螺旋調節器的調節精度為微米量級。其中,該真空吸附臺內部設有真空槽,該真空槽的一端通至該真空吸附 臺上表面,另一端通至一用于連接真空源的真空孔,該真空吸附臺上表面還 設有一密封圈。較佳地,該密封圈的材料為硅橡膠。較佳地,該定位角尺嵌設于該平臺主體上表面的凹槽中。 其中,該定位角尺的兩臂為一體式或分離式。其中,該定位角尺為T型或L型。本技術的積極進步效果在于本技術的吸附平臺由于具有可調 性,因此能夠對任意規格的產品實現精確的定位,從而可以應用于對超薄玻 璃的任意形狀的雕銑作業中,且全部作業過程可以一次完成。本技術的吸附平臺大大提高了加工精度,并且實現了 CNC產品定位技術的簡易化和精確化。附圖說明圖1為本技術的吸附平臺的正視圖。圖2為本技術的吸附平臺的側視圖。 圖3為本技術的吸附平臺的俯視圖。具體實施方式以下結合附圖給出本技術較佳實施例,以詳細說明本技術的技 術方案。本技術的吸附平臺適用于超薄手機玻璃在異型雕銑過程中的精密 無損固定。如圖l-3所示,本技術的吸附平臺包括 一平臺主體l,采用耐油、耐水、耐磨的有機材料制成; 一設于平臺主體1上的定位角尺2,該定位角 尺2的兩臂21、 22限定出一定的范圍,該范圍即為定位角尺2的定位區域 23,而為了在作業中適應任意規格產品的定位需要,在定位角尺2的臂21 上設有用于調節定位區域23的調節裝置3;以及設于定位區域23內的用于 吸附待加工產品的真空吸附臺4。定位角尺2可以為T型或L型,圖中所示 為T型的情況,此時,其兩臂21、 22限定出兩個定位區域23,相應地,每 個定位區域23內均設有一個真空吸附臺4;而當其為L型時,其兩臂21、 22將僅限定出一個定位區域23,相應地,僅在該一個定位區域23內設置一 個真空吸附臺4。調節裝置3可以采用各種結構。如圖2和圖3所示,本實施例中采用的 調節裝置3包括 一沿垂直于臂21且平行于該平臺主體1的上表面的方向 可旋動地穿設于臂21上的螺旋調節器31,其中,為了提高加工精度,在本 實施例中,該螺旋調節器31的調節精度為微米量級; 一擋塊32,沿平行于 臂21的方向固定于螺旋調節器31的朝向定位區域23 —側的末端上。另外, 為了使得擋塊32在移動時能夠保持與臂21的平行,從而保證定位區域23 的形狀恒定,調節裝置3還包括兩個可移動地穿設于臂21上的彈簧導軌33, 該兩個彈簧導軌33分別位于螺旋調節器31兩側且與螺旋調節器31平行。參考圖3,當需要縮小定位區域23,以適應較小規格的待加工產品時, 將螺旋調節器31向朝向定位區域23的方向旋動,從而帶動擋塊32在兩個 彈簧導軌33的支持下,在保持與臂21平行的情況下沿紙面內向下的方向移 動;當需要擴大定位區域23,以適應較大規格的待加工產品時,將螺旋調節 器31向遠離定位區域23的方向旋動,從而帶動擋塊32在兩個彈簧導軌33 的支持下,在保持與臂21平行的情況下沿紙面內向上的方向移動。真空吸附臺4的內部設有多個根據待加工產品的玻璃表面特性而針對性 設計的真空槽41,這些真空槽41的一端通至真空吸附臺4的上表面以對放置于其上的待加工產品進行真空吸附,另一端則通至一用于連接真空源的真空孔42。真空吸附臺4的上表面還設有一密封圈43,該密封圈43可以采用 大壓縮比硅橡膠材料,以保證對待加工產品的玻璃表面無損。在使用本技術的吸附平臺時,將平臺主體1固定到加工設備上,接 入外部真空源到真空吸附臺4上的真空孔42,然后調節螺旋調節器31,使 得擋塊32沿彈簧導軌33移動到產品定位所需的位置,最后放置待加工的玻 璃于真空吸附臺4的密封圈43上,待玻璃被吸附后移除定位角尺2即可開 始進行雕銑作業。為了便于移除定位角尺2,如圖1和圖2所示,可以將定位角尺2設計 為嵌設于平臺主體1上表面的凹槽21'、 22,中。該定位角尺2的兩臂21、 22 可以為一體式,也可以為分離式。當兩臂21、 22為一體式時,移除時只需 將整個定位角尺2向上拔離凹槽21'、 22,即可;當兩臂21、 22為分離式時, 移除時只需將臂21沿其所在的凹槽21'滑出,并將臂22沿其所在的凹槽22' 滑出即可。雖然以上描述了本技術的具體實施方式,但是本領域的技術人員應 當理解,這些僅是舉例說明,在不背離本技術的原理和實質的前提下, 可以對這些實施方式做出多種變更或修改。因此,本技術的保護范圍由 所附權利要求書限定。權利要求1、一種吸附平臺,其特征在于,其包括一平臺主體;一設于該平臺主體上的定位角尺,該定位角尺的一臂上設有用于調節該定位角尺的定位區域的調節裝置;以及設于該定位區域內的真空吸附臺。2、 如權利要求l所述的吸附平臺,其特征在于,該調節裝置包括 一沿垂直于該臂且平行于該平臺主體上表面的方向可旋動地穿設于該臂上的螺旋調節器;一擋塊,沿平行于該臂的方向固定于該螺旋調節器的朝向該定位區域一 側的末端上。3、 如權利要求2所述的吸附平臺,其特征在于,該調節裝置還包括兩 個可移動地穿設于該臂上的彈簧導軌,該兩個彈簧導軌分別位于該螺旋調節 器兩側且與該螺旋調節器平行。4、 如權利要求2所述的吸附平臺,其特征在于,該螺旋調節器的調節 精度為微米量級。5、 如權利要求1所述的吸附平臺,其特征在于,該真空吸附臺內部設 有真空槽,該真空槽的一端通至該真空吸附臺上表面,另一端通至一用于連 接真空源的真空孔,該真空吸附臺上表面還設有一密封圈。6、 如權利要求5所述的吸附平臺,其特征在于,該密封圈的材料為硅 橡膠。7、 如權利要求1所述的吸附平臺,其特征在于,該定位角尺嵌設于該 平臺主體上表面的凹槽中。8、 如權利要求1所述的吸附平臺,其特征在于,該定位角尺的兩臂為 一本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種吸附平臺,其特征在于,其包括: 一平臺主體; 一設于該平臺主體上的定位角尺,該定位角尺的一臂上設有用于調節該定位角尺的定位區域的調節裝置; 以及設于該定位區域內的真空吸附臺。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員:劉家仁,
申請(專利權)人:上海晨興希姆通電子科技有限公司,
類型:實用新型
國別省市:31[中國|上海]
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