具有均勻色度的薄膜制造技術

一種具有均勻色度的薄膜，包含：一基材、一表面處理層，以及由鄰近而遠離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導電層，該第一折射層的光學厚度為ｄ１，且１１ｎｍ≤ｄ１≤１６ｎｍ，該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，其光學厚度為ｄ２，且６０ｎｍ≤ｄ２≤９０ｎｍ。此外，本發明專利技術也可省略設置該表面處理層，此時該第一折射層的光學厚度限制為２０ｎｍ≤ｄ１≤２９ｎｍ。通過第一、二折射層的光學厚度的配合，可以縮小該透明導電層的蝕刻區塊及非蝕刻區塊的色度差，使薄膜整體色彩均勻，蝕刻圖案不易被觀察到、減輕薄膜偏黃現象。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種薄膜，特別涉及一種能應用于觸控面板上，并且具有均勻色度 的透明導電薄膜。
技術介紹
現行使用于觸控面板的氧化銦錫(ITO)透明導電膜，因為其鍍膜制程溫度低， 而且材料本身在低波長波段的透過率較低而使膜層偏黃，造成面板的視感不佳。此外， ITO膜披覆形成后，為了作電路或電容配置，必須透過蝕刻制程將部分區塊蝕刻移除， 因此面板上對應于該ITO膜被蝕刻的部位，以及對應于沒有被蝕刻的部位，將因為ITO 材料的有無，造成明顯的顏色差異，使面板表面顏色不均勻，并且造成表面蝕刻圖案容 易被觀察到，進而影響面板的視感。而人眼可見的顏色可以利用國際照明委員會(International Commission on Illumination,簡稱CIE)制定的CIE L*a*b*色度空間來描述，所述b'值可以為負值也可以為正值，當b'為正值時，代表黃色，而且b'值越大代表顏色越黃，一般而言，ITO膜的 b*值約為2 4而偏黃。雖然改變ITO的膜厚可以改善膜層偏黃現象，但是為了在觸控面板上作較佳的 觸控應用，ITO膜的阻抗值必須控制在一定范圍，其膜厚就不能太厚而也必須控制在一 定厚度，所以無法通過調整ITO膜本身的膜厚來改良薄膜偏黃現象。目前作法通常是 改變位于ITO膜下方的抗反射膜層的特性，以改變整體薄膜的顏色均勻性，例如日本 專利JP2003-171147、JP2007-299534及臺灣專利TW200730933號專利案，都是利用多 層不同折射率的抗反射膜層搭配，以調變薄膜整體色度與透光度，其它改良技術例如 JP2004-184579號專利案是利用五層光學膜的搭配來調變色度；JP2007-276332號專利案 是利用高分子材料作為中間層；JP2008-49518是利用ZnO與低折射率層的配合。然而，上述專利只是設法將薄膜的整體色度b*值降低，但是并未考慮ITO膜蝕 刻后造成的蝕刻區塊及非蝕刻區塊的色彩不均勻性，因此當ITO膜蝕刻后，仍然會產生 多個色彩不均勻的區塊，并使蝕刻圖案被清楚觀察到。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種減輕薄膜偏黃現象、色彩均勻、表面蝕刻圖案不易 被觀察到的具有均勻色度的薄膜。本專利技術具有均勻色度的薄膜，包含一基材，該基 材包括反向間隔的一第一面與一第二面，所述具有均勻色度的薄膜更包含一位于所 述第一面及第二面的其中一表面的表面處理層，以及由鄰近而遠離該基材而披覆的一 第一折射層、一第二折射層，以及一透明導電層，該第一折射層的光學厚度為dl，且 llnm<dl<16nm,該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射 層的光學厚度為d2，且60nm《d2《90nm。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導電層的材料為氧化銦錫。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，12納米幼1《15納米。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，60納米《d2《80納米。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第二面， 所述第一折射層、第二折射層及透明導電層是鄰近該基材的第一面。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第一面， 并且位于該基材及該第一折射層之間。一種具有均勻色度的薄膜，包含一個基材，以及由鄰近而遠離該基材而披覆 的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導電層；該第一折射層的光學厚度為dl，且20納米《dl《29納米，該第二折射層的折射 率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學厚度為d2，且60納米紐2動0 納米。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導電層的材料為氧化銦錫。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，22納米《dl《28納米。根據本專利技術所述的具有均勻色度的薄膜，60納米動0納米。本專利技術的有益效果在于通過所述第一、二折射層的光學厚度的配合，可以縮 小該透明導電層的蝕刻區塊及非蝕刻區塊的色度差，使薄膜整體色彩均勻，蝕刻圖案被 模糊化而不易觀察到，并減輕薄膜偏黃現象。如以下實施例1 6及比較例1 6的結果可知，當第一折射層的光學厚度 太厚時，膜層的b'值過小甚至變為負值，此時薄膜將呈現青色，因此膜層越厚顏色 越青；第一折射層的光學厚度太薄時，對產品黃化的改善效果不明顯，因此優選限定 llnm<dl<16nm ；更優選12nm《dl《15nm，將使薄膜色彩更均勻。當第二折射層的光學厚度太厚時，對黃化的改善并無明顯的差異，而且成本提 高、制程延長；光學厚度太薄時，也無法改善黃化的現象，而且透光度將下降，因此優 選限定60nm《d2《90nm，更優選60nm《d2《80nm。此外，如以下實施例7 9所示，本專利技術也可以省略設置該表面處理層，此時該 第一折射層的光學厚度dl的限定，優選20nm^dl^29nm，更優選22nm^dl^28nm。附圖說明圖1是本專利技術具有均勻色度的薄膜的實施例1 6的剖視示意圖；圖2是本專利技術實施例1 3及比較例1 4，在披覆一透明導電層之前與之后的 色度差值(Ab')分布圖；圖3是本專利技術實施例5、6及比較例5、6，在披覆一透明導電層之前與之后的色 度差值(Ab')分布圖；圖4是一剖視示意圖，顯示本專利技術的一表面處理層披覆在一基材的一第一面；圖5是本專利技術具有均勻色度的薄膜的實施例7 9的剖視示意圖；圖6是本專利技術實施例7 9及比較例7、8，在披覆一透明導電層之前與之后的色 度差值(Ab')分布圖。具體實施例方式下面結合附圖及實施例對本專利技術進行詳細說明，要注意的是，在以下的說明內 容中，類似的元件是以相同的編號來表示。參閱圖1，本專利技術具有均勻色度的薄膜的實施例1包含一基材1、一披覆在該 基材1的表面的表面處理層5、一披覆在該基材1的另一表面的第一折射層2、一披覆在 該第一折射層2的表面的第二折射層3，以及一披覆在該第二折射層3的表面的透明導電 層4。該基材1具有反向間隔的一第一面11與一第二面12，該基材1的材料例如聚對 苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate，PET)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚乙烯 (polyethylene, ΡΕ)...等材料，本實施例基材1為PET制成，厚度為125微米(μ m)，該基 材1為產品型號FE-RHPC56N的產品，此產品表面同時形成有該表面處理層5。該表面處理層5設置在該基材1的第二面12，其材料為添加功能粒子的反應性硬 化樹脂，厚度約為5 μ m，該表面處理層5用于提升該薄膜的硬度，使表面不易刮傷。本 專利技術表面處理層5的材質及功能不須加以限定，可隨著不同產品的應用需求而設置不同 功能的表面處理層5，例如該表面處理層5可以用于提升薄膜的耐磨性、耐刮性，或者可 以為抗反射鍍膜以提升透光度，或者是具有擴散光線功能而使光線均勻的功能性薄膜。該第一折射層2披覆在該基材1的第一面11，其材料例如二氧化鈦(TiO2)、 五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化鈮(NbO)、氧化鈰(CeO)、氧化銦錫(ITO)等材料，本實施例 第一折射層2材料為五氧化二鈮(Nb2O5)，其光學厚度為dl = 14納米(nm)，所述光學 厚度為膜層的實際厚度及其折射率的乘積。該第二折射層3的折射率小于該第一折射層2的折射率，本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種具有均勻色度的薄膜，包含：一個包括反向間隔的一個第一面與一個第二面的基材、一位于所述第一面及第二面的其中一個表面的表面處理層，以及由鄰近而遠離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導電層；其特征在于，該第一折射層的光學厚度為ｄ１，且１１納米≤ｄ１≤１６納米，該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學厚度為ｄ２，且６０納米≤ｄ２≤９０納米。

【技術特征摘要】
1.一種具有均勻色度的薄膜，包含一個包括反向間隔的一個第一面與一個第二面 的基材、一位于所述第一面及第二面的其中一個表面的表面處理層，以及由鄰近而遠離 該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導電層；其特征在于，該第一折射層的光學厚度為dl，且11納米紐1<16納米，該第二折射層的折射率 小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學厚度為d2，且60納米動0納 米。2.根據權利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該透明導電層的材料為 氧化銦錫。3.根據權利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，12納米納米。4.根據權利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，60納米動0納米。5.根據權利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該表面處理層鄰近該基 材的第二面，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：詹俊彬，胡文瑋，李光榮，
申請(專利權)人：迎輝科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：71