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    口腔潔凈儀及其潔牙膏制造技術

    技術編號:517360 閱讀:193 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    口腔潔凈儀及潔牙膏,涉及口腔保健技術領域,其特征是紫外光源發出的光經濾光片后,通過的近紫外光經聚光透鏡聚焦,進入光導纖維到達其末端的光探頭,照射含有潔牙膏的牙齒表面,潔牙膏由光催化陶瓷粉20-30%,制膏用添加劑40-50%,余量為水,在常溫下調和而成。本發明專利技術既能徹底分解牙齒表面難以清除的多糖類、蛋白類形成的膜層,清除細菌賴以生存的營養源,又能殺死致齲細菌,除去牙垢后,預防牙菌斑,牙結石,達到標本兼治,預防齲齒的效果。(*該技術在2018年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術是一種口腔潔凈儀,屬于口腔保健儀器制造
    ,涉及口腔清潔衛生,除去牙垢、預防牙菌斑、牙結石及齲齒發生用的裝置及與之配套使用的潔牙膏。齲齒是危害人類健康的主要常見病之一,在口腔疾病中居首位。據不完全統計,我國人口的60%以上患有不同程度的齲病,而對兒童的危害尤為嚴重。齲齒主要起因于口腔清潔度差,致使某些致齲菌如產酸鏈球菌、乳酸桿菌、放線菌等在牙體表面附著,大量繁殖,使牙齒表面形成菌斑,細菌分解碳水化合物類食物殘渣而產酸,使牙釉質脫鈣,崩解,造成齲損,并逐漸向牙體層擴散,形成齲洞,從而使細菌入侵牙根管,引發牙根尖周病,牙髓病,甚至頜骨疾病。嚴重的齲齒病,會導致心臟病等全身性疾病,危害極大。由于牙齒齲環后不能自行恢復,一旦致齲,將伴隨終生,嚴重時不得不拔除牙齒,影響患者身心健康,所以,保持口腔清潔,預防齲齒至關重要。預防齲齒,一般從兩方面入手1.清潔口腔,清除牙齒表面上食物(尤其是富含碳水化合物類食物)的殘渣,除去細菌賴以生存的營養源,防止細菌分解殘渣產生的多糖及酸類物質對牙釉質的損害。2.殺滅牙齒表面附著的致齲菌類,尤其是變形鏈球菌,它對牙齒危害最大?,F有的齲齒預防主要采用各種牙膏(包括藥物牙膏、牙粉)和牙刷刷牙,以清潔牙齒表面;或用清潔劑漱口;或飲用含氟水等。這些方法主要著眼于清潔口腔,除去牙體表面食物殘渣或在牙齒表面形成耐酸的氟磷灰石。然而,由于大多數人難于堅持做到飯后立即刷牙,加之刷牙方法不規范,致使牙齒表面的清理很不徹底。尤其是因為牙齒結構復雜,排列曲折,咀嚼面的窩溝及牙齒間相鄰接面,更是藏污納垢之所,齲病往往從這里首先開始,無法達到防齲的目的。本專利技術的目的在于避免上述現有技術的不足而提供一種利用半導體陶瓷光催化作用,在牙齒表面產生光催化氧化反應既能分解殘留有機物,又能有效地殺死致齲菌的口腔潔凈儀及與之配合使用的潔牙膏。本專利技術的目的可以通過以下措施來達到紫外光源發出的光經濾光片后其波長為300-400納米的近紫外光由聚光透鏡聚焦,再進入光導纖維到達其末端的光探頭,照射涂有潔牙膏的牙齒表面;涂于牙齒表面的潔牙膏由光催化半導體陶瓷粉20-30%、制膏用添加劑40-50%,余量為水,在常溫下調和而成。本專利技術的目的還可以通過以下措施來達到光源、濾光片及聚光透鏡裝在一密封光源箱中,用光導纖維連接的光探頭帶有手柄及遮光罩。本專利技術的目的還可以通過以下措施來達到涂于牙齒表面的潔牙膏由光催化半導體陶瓷粉20-30%,制膏用添加劑40-50%,余量為水,在常溫下調和而成。本專利技術的目的還可以通過以下措施來達到制潔牙膏用添加劑包括半導體陶瓷粉20-30%、鈣化劑9-12%、表面活性劑22-26%、穩定劑5-7%、發泡劑0.9-1.3%、防腐劑0.1-0.3%、甜味劑0.2-0.3%、香料0.8-1.1%。本專利技術的目的還可以通過以下措施來達到光催化半導體陶瓷粉是銳鈦礦型二氧化鈦粉;或是氧化鋅粉;或是金紅石型二氧化鈦粉;或γ-氧化鋁粉。本專利技術的目的還可以通過以下措施來達到在上述半導體陶瓷粉表面吸附有0.05-1.0ug/cm2的Au、Ag、Pd、Pt、Rh、Cu、Fe、Co、Ni等金屬,對光催化反應具有促進作用。附圖為本專利技術原理圖。本專利技術下面將結合附圖和實例進一步說明如圖所示紫外線燈(1)發的光,經ZWB2透紫外濾光片(2)后,波長為300-400納米的透紫外光再經聚光透鏡(3)聚焦,進入直徑約3毫米的柔韌光導纖維(4),到達末端光探頭(5),用于照射涂有潔牙膏牙齒表面(8),光探頭(5)外部有手柄(6),端部有遮光罩(7)。紫外光源既可以用低壓汞燈、無臭氧型紫外滅菌燈、黑光燈或含紫外線較多的熒光燈。紫外燈(1)和濾光片(2)及聚光透鏡(3)均置于一光源箱中,外接光導纖維(4)。使用時,用牙刷沾取少量潔牙膏涂于牙齒的各表面,形成一薄層。將光探頭(5)置于口腔中,對準牙齒,打開光源,依次照射牙齒各表面、縫隙、鄰接面,每次3-5分鐘。照射時在牙體表面會產生下列光催化反應生成的氫氧自由基(·OH)是極強的氧化劑,超氧離子(O2-)是極強的還原劑,它們的反應活性很高。尤其是(·OH)基,幾乎能氧化分解任何的有機物,能殺滅各種細菌及真菌,甚至分解其分泌物及其尸骸。從而可以使口腔清潔,除去牙齒表面附著的有機物,清除細菌營養源并殺滅細菌,全面預防齲齒的發生。照射后,關閉光源,收好光探頭,用清水漱口,每日或隔日臨睡前處理一次。潔牙膏還具有防治牙周炎、牙齦炎、齒槽膿腫,預防及除去牙結石,消除口臭等功能。實施例涂于牙齒的潔牙膏由銳鈦礦型二氧化鈦光催化半導體陶瓷粉(粒度325目)25%,羥基磷灰石粉鈣化劑10%,甘油山梨糖醇22%,甲基纖維素鈉6.5%,月桂基硫酸鈉1.1%,鈉糖精0.3%,維生素E1%,洗必泰(0.02%)0.6%,薄荷香料1%,余量為水,上述各組分在常溫下調和而成。本專利技術相比已有技術具有如下優點1、利用半導體光催化氧化反應,既能徹底分解在牙體表面粘著力極強的、通常依靠刷牙漱口難以清除的多糖類蛋白類形成的膜層,斷絕細菌賴以滋生的營養源,又能殺死已附著于牙齒表面的致齲細菌,達到標本兼治預防齲齒的效果。2、移動光探頭,能使光線充分照射到涂有潔牙膏牙齒的每個表面,尤其是咀嚼面的窩溝及牙齒臨接面等齲病多發部位,不留死角,對不會刷牙的兒童,可由成人幫助,效果很好。3、采用TiO2、ZnO、γ-Al2O3等半導體光催化劑陶瓷粉為主料制成的潔牙膏,可避免使口腔中的細菌產生抗藥性,安全無害,無環境污染。4、波長為300-400nm的近紫外光,當功率在每平方厘米數毫瓦數量級時,短時間(數分種)定向照射牙體,對人體無不良反應。用光導纖維傳光,用遮光罩將光線匯聚于牙體,減少對口腔軟組織的照射,使其安全性進一步提高。5、儀器結構簡單,實用性強,與潔牙膏配合使用操作方便,易于推廣使用,有顯著的社會效益和經濟效益。權利要求1.口腔潔凈儀及潔牙膏,包括潔凈裝置及潔牙膏其特征在于——紫外光源(1)發出的光經濾光片(2)后,波長為300-400納米的近紫外光由聚光透鏡(3)聚焦,再進入光導纖維(4)到達末端的光探頭(5);照射涂有潔牙膏的牙齒表面(8),潔牙膏含光催化半導體陶瓷粉、制膏添加劑及水,在常溫下調和制成。2.如權利要求1所述的口腔潔凈儀,其特征在于光源(1)、濾光片(2)及聚光透鏡(3)安置在密閉箱體內,光探頭(5)外部有手柄(6)和遮光罩(7)。3.如權利要求1所述的潔凈膏,其特征在于涂于牙齒的潔牙膏由光催化半導體陶瓷粉20-30wt%,制膏用添加劑40-50wt%、余量為水,常溫下調和而成。4.如權利要求1及3所述的潔牙膏,其特征在于光催化半導體陶瓷粉是銳鈦礦型二氧化鈦粉。5.如權利要求1及3所述的潔牙膏,其特征在于光催化半導體陶瓷粉是氧化鋅粉。6.如權利要求1及3所述的潔牙膏,其特征在于光催化半導體陶瓷粉是金紅石型二氧化鈦粉。7.如權利要求1及3所述的潔牙膏,其特征在于光催化半導體陶瓷粉是γ-氧化鋁粉。8.如權利要求1、4、5、6、7所配制的潔牙膏,其特征在于所用的半導體陶瓷粉表面沉積有0.05-1.0ug/cm2,Au、Ag、Cu、Pt、Rh、Pd、Fe、Co、Ni等金屬。9.如權利要求1或3所述的口腔潔凈儀及本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    口腔潔凈儀及潔牙膏,包括潔凈裝置及潔牙膏其特征在于:-紫外光源(1)發出的光經濾光片(2)后,波長為300-400納米的近紫外光由聚光透鏡(3)聚焦,再進入光導纖維(4)到達末端的光探頭(5);照射涂有潔牙膏的牙齒表面(8),潔牙膏含光催化半導體陶瓷粉、制膏添加劑及水,在常溫下調和制成。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:黃占杰,黃怡,
    申請(專利權)人:中國科學院光電技術研究所,
    類型:發明
    國別省市:51[中國|四川]

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