【技術實現步驟摘要】
本技術涉及擴散爐
，特別是一種磷擴散爐尾上下進氣管多點進氣裝置。
技術介紹
由于POCljf體源擴散中，攜帶磷源的氣流直接從爐尾進入爐管，靠近爐口處 反應氣體的濃度將比爐尾處低，導致整管方阻片間，片內均勻性較差。
技術實現思路
本技術所要解決的技術問題是靠近爐口處反應氣體的濃度將比爐尾處 低，導致整管方阻片間，片內均勻性較差。本技術解決其技術問題所采用的技術方案是一種磷擴散爐尾上下進氣管 多點進氣裝置，包括進氣管，進氣管從爐尾伸入爐內后一分為二，分為上進氣管和下進 氣管，上進氣管和下進氣管分別位于爐管的上部和下部，上進氣管和下進氣管上開有多 個出氣孔，出氣孔方向平行硅片表面。上進氣管和下進氣管為石英材質。本技術的有益效果是通入的反應氣體可以通過上下進氣管上的多點出氣 孔出氣，提高磷擴散后的片內、片間方阻均勻性，達到較好的整管方阻分布。以下結合附圖和具體實施方式對本技術作進一步詳細的說明；附圖說明圖1是爐管內部進氣方式側視圖；圖2是爐管內部進氣方式截面圖；其中1.上進氣管，2.下進氣管，3.爐管，4.尾氣管，5.硅片。具體實施方式現在結合附圖1和2對本技術作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的 示意圖，僅以示意方式說明本技術的基本結構，因此其僅顯示與本技術有關的 構成。如圖1和2所示，一種磷擴散爐尾上下進氣管多點進氣裝置，包括進氣管，進氣 管從爐尾伸入爐內后一分為二，分為上進氣管1和下進氣管2，如圖2所示，上進氣管1 和下進氣管2分別位于爐管3的上部和下部，12點和6點方向各一根，上進氣管1和下進 氣管2上開有多個出氣孔，出氣孔方向平行硅片5表面。上進氣管1...
【技術保護點】
一種磷擴散爐尾上下進氣管多點進氣裝置，包括進氣管，其特征是：所述的進氣管從爐尾伸入爐內后一分為二，分為上進氣管（１）和下進氣管（２），上進氣管（１）和下進氣管（２）分別位于爐管（３）的上部和下部，上進氣管（１）和下進氣管（２）上開有多個出氣孔，出氣孔方向平行硅片表面。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：何偉，
申請(專利權)人：常州天合光能有限公司，
類型：實用新型
國別省市：32
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