【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種粒子束輻照設(shè)備,包括:束生成單元,生成粒子束;束發(fā)射控制單元,控制所述粒子束的發(fā)射;束掃描指令單元,順序地二維指示所述粒子束的位置,使得所述粒子束在整個(gè)切片上掃描,通過在所述粒子束的軸線方向上分割待輻照的受侵襲的區(qū)域而獲得所述切片;束掃描單元,基于來自所述束掃描指令單元的指令信號(hào)二維地掃描所述粒子束;呼吸測(cè)量單元,獲得患者的所述受侵襲的區(qū)域的移動(dòng)量或患者的呼吸波形;呼吸門生成單元,基于從所述呼吸測(cè)量單元輸出的信號(hào)生成與所述患者的呼吸周期同步的呼吸門;以及脈沖生成單元,在所述呼吸門中以基本相等地隔開的時(shí)間間隔生成預(yù)定數(shù)量的掃描開始脈沖,其中,所述束掃描指令單元通過基于來自每個(gè)所述掃描開始脈沖的設(shè)定劑量的模式輻照來指示掃描所述整個(gè)切片,使得相同切片的掃描重復(fù)所述預(yù)定數(shù)量的次數(shù),所述束發(fā)射控制單元僅在所述呼吸門中容許所述粒子束的發(fā)射,并且發(fā)射所述粒子束直至基于來自每個(gè)所述掃描開始脈沖的所述設(shè)定劑量的所述模式輻照完成。
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:井關(guān)康,塙勝詞,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:株式會(huì)社東芝,
類型:發(fā)明
國別省市:JP
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