【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種方法,其包含: (a)將優(yōu)先次序空間劃分為第一部分和第二部分,其中所述第二部分完全未經(jīng)指派; (b)將優(yōu)先次序值指派給第一組包過(guò)濾器,其中所述第一組包過(guò)濾器的所述優(yōu)先次序值在所述優(yōu)先次序空間的所述第一部分中展開(kāi);以及 (c)將優(yōu)先次序值指派給第二組包過(guò)濾器且重新指派所述第一組包過(guò)濾器的所述優(yōu)先次序值,其中所述第二組包過(guò)濾器的所述優(yōu)先次序值和所述第一組包過(guò)濾器的所述優(yōu)先次序值在所述優(yōu)先次序空間的先前完全未經(jīng)指派的所述第二部分內(nèi)展開(kāi)。
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:比布P莫漢蒂,烏品德?tīng)栃粮癜桶蜖?/a>,文卡塔薩蒂什庫(kù)馬爾凡伽拉,斯利尼瓦斯穆季雷蒂,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:高通股份有限公司,
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:US[美國(guó)]