定量型閥門制造技術

本發明專利技術公開了一種定量型氣霧劑閥門，包括：（ａ）閥桿，該閥桿在靜止位置和發射位置之間可移動并包括：具有周邊密封表面的本體部分；（ｂ）閥體，包括：閥體壁和至少部分由閥體壁限定的內部腔室；以及（ｃ）定量密封圈，該定量密封圈具有一個限定孔的內周邊，被設置在靠近內部腔室的最內端并且被構造為能夠對閥桿的周邊密封表面形成瞬態、基本上流體密封性的面密封；在閥桿位于靜止位置處，閥桿的本體部分位于內部腔室內，并且當閥桿從其靜止位置向其發射位置移動時，閥桿的周邊密封表面和定量密封圈接觸而形成面密封，從而關閉定量腔室并且隨后閥桿進一步移向其發射位置而引起定量密封圈撓曲，同時保持和閥桿的周邊密封表面的密封；以及其中非偏置構造的定量密封圈為一個具有基本上平面形狀的環狀圓盤，在此處構造和設置閥門使得在閥桿位于靜止位置處時，推壓定量密封圈的內周邊使其脫離所述基本上平面形狀，或其中定量密封圈被預偏置成碟形。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種定量型氣霧劑閥門，特別地，但非專門地旨在用作按壓式定量吸 入器(pMDI)的閥門。
技術介紹
一種形式的用于按壓式定量吸入器(pMDI)的閥門在W0-A-04/22142中有所描述， 其公開的一種定量型氣霧劑閥門，包括(a)閥桿，該閥桿通常限定縱向軸線并包括(1)本體部分，該本體部分包括近端、遠端以及連接近端和遠端的至少一個側面， 并包括一個定量表面，其中縱向軸線和一個與該定量表面的至少一部分相切的平面界定了 約2°至約90°的角度范圍，以及(2)具有排泄通道的桿部分； (b)閥體，包括(1)具有密封部分的閥體壁；(2)至少部分由閥體壁限定的內部腔室和具有被構造成基本上適形于閥桿定量表 面的定量部分，和(3)具有壁的隔膜，該壁在與閥桿的桿部分滑動密封結合處限定孔，以及(c)定量密封圈，該定量密封圈被構造為在閥桿，特別是在閥桿的本體部分和閥體 壁的密封部分之間能夠形成瞬態、基本上流體密封性的面密封。當閥桿從靜止位置移向發 射位置，閥桿的本體部分的表面和定量密封圈接觸而形成面密封，從而關閉定量腔室并且 隨后閥桿進一步移動到其發射位置并引起定量密封圈撓曲，同時保持和上述的閥桿表面的 密封。在閥桿位于靜止位置處定量密封圈不與閥桿相接觸。GB 1201919公開了一種定量型氣霧劑閥門，該閥門具有兩個由彈性體板材制成的 環狀密封件，并且當組裝進閥門時其被限制采用錐形構造。以這樣的方式限制密封件可防 止在操作閥門時密封件向內部凹陷。在閥桿向其發射位置移動時，密封件并未引起撓曲而 同時保持與閥桿密封。
技術實現思路
本專利申請涉及定量型氣霧劑閥門，所述閥門使用對進入環狀密封件開口的閥桿 部分起面密封作用的環狀密封件，該環狀密封件的直徑大于開口的直徑。上述閥門尤其適 用于按壓式分配產品，即用推進器配制的產品。此前沒有意識到的是，如果該密封件(如，在操作閥門時該密封件和閥桿接觸和 脫離)僅被限制在其外周附近部分(如，通過環形彎曲壓緊密封件的各表面使其互相靠近 或通過加壓地限制密封件的外周邊在其周圍附近)，其可能不會位于預期位置和/或當其 返回到靜止位置時可能采用不一致的位置模式。例如，當在上述條件下用作定量密封圈時，該定量密封圈可能向上方或向下方翻轉，即，其能夠呈現出雙穩態(雙峰)行為模式。因為在定量密封圈第一次封閉閥桿的點處 可限定藥物制劑的定量容積，所以這種位置上的不一致有可能引起不希望的注射量不一致 并因此導致較差的劑量定量控制。并不希望被任何理論所限制，但據信該定量密封圈在其內部可能具有不可控制的 壓應力，在某些情況下，該壓應力可能引起定量密封圈在各閥門之間以及在單個閥門的各 動作之間以完全隨機的方式向上方或下方翻轉。看來，在閥門組裝或卷曲時定量密封圈內部易于向內徑向壓縮，并且在不同的裝 置之間產生不同的密封件壓縮量(如，由于密封件厚度變化或者其他元件尺寸變化或者彎 曲的不一致)。這引起了如上所述的雙峰行為模式，該行為模式能夠在大幅地變化和/或雙 峰閥門注射量中顯示出來。本專利技術旨在通過當閥桿位于其靜止位置時迫使定量密封圈返回到單一的位置模 式來解決這一問題。因此，本專利技術提供了一種定量型氣霧劑閥門，包括(a)閥桿，該閥桿在靜止位置和發射位置之間可移動并包括具有周邊密封表面的本體部分；(b)閥體，包括閥體壁，和至少部分由閥體壁限定的內部腔室，以及(c)定量密封圈，該定量密封圈具有一個限定孔的內周邊，被設置在靠近內部腔 室的最內端并且被構造為能夠對閥桿的周邊密封表面形成瞬態、基本上流體密封性的面密 封；在閥桿位于靜止位置處，閥桿的本體部分位于內部腔室內，并且當閥桿從其靜止 位置向其發射位置移動時，閥桿的周邊密封表面和定量密封圈接觸而形成面密封，從而關 閉定量腔室并且隨后閥桿進一步移向其發射位置而引起定量密封圈撓曲，而同時保持和閥 桿的周邊密封表面的密封，以及其中非偏置構造的定量密封圈為一個具有基本上平面形狀的環狀圓盤，在此處構造和設置閥門使得在閥桿處于 靜止位置時推壓定量密封圈的內周邊使其脫離上述基本平面形狀，或其中定量密封圈被預偏置成碟形。該定量型氣霧劑閥門是有利的，其中定量密封圈被偏置成單一不對稱的位置模 式。對于當閥桿處于靜止位置時定量密封圈不與閥桿相接觸的閥門，這種偏置成單一不對 稱的位置模式是特別有利的。此外當閥桿處于其靜止位置時，相對于垂直于由閥桿限定的縱向軸線的標稱平面 并穿過定量密封圈最外側周邊的中心，定量密封圈最內側周邊的中心距離所述的標稱平面 有利地為至少0. 2毫米(更有利地為至少0. 5毫米)。另外為增強單一位置穩定性和/或進一步減少雙峰行為模式的任何可能性，希望 構造和設置閥門使得定量密封圈的主表面的外周邊被徑向向外拉伸從而張緊。在閥桿位于靜止位置處，定量密封圈可向內(即，定量密封圈的內周邊設置為離 開閥桿的本體部分)或者向外(即，定量密封圈的內周邊設置為朝向閥桿的本體部分)偏 置。為增強位置穩定性和/或避免雙峰行為模式的可能性，優選定量密封圈向內偏置。當構造和設置閥門使得在閥門的例行操作期間定量密封圈不會移進一個基本上平面的位置(并且因此不會移動通過該基本上平面的位置而進入外面的位置)時，該優選的定量密封 圈內向偏置的閥門是尤其有利的。根據本專利技術所述閥門采用定量密封圈從而在動作期間形成面密封，并且在閥桿位 于靜止位置處定量密封圈保持穩定變形的構造是有利的，從而當閥桿返回到靜止位置時允 許定量密封圈返回到一致的位置。這對于WO. A-04/22142中所描述的按壓式定量吸入器(pMDI)型閥門尤其是有利 的，其中壓下閥桿的動作導致形成一個瞬態定量腔室。因此，本文所述閥門的優選實施例是 構造和設置閥門以便在壓下閥桿時允許形成一個瞬態定量腔室。特別是在該閥門中，閥桿 還包括具有排泄通道的桿部分；閥體還包括具有壁的隔膜，在與閥桿桿部分滑動密封結合 處限定孔，并且其中閥桿的本體部分還包括一個定量表面，該定量表面被構造和設置為靠 近桿部分使得在閥桿位于靜止位置處，相當大一部分的定量表面與閥體的內表面和/或隔 膜的內表面靜止接觸，并且當閥桿從其靜止位置向其發射位置移動時，在所述的內表面和 所述閥桿的定量表面之間形成一個定量腔室，當閥桿被移動時定量腔室的容積增大直到閥 桿的周邊密封表面與定量密封圈接觸而形成面密封，從而關閉定量腔室并且隨后閥桿的進 一步移動允許閥桿桿部分中的排泄通道的開口穿過隔膜與定量腔室流體連通。與現有市售 的閥門相比該優選的實施例提供了某些優勢，包括理想的一致定量容積和特別是由于使用 本文所述定量密封圈以及在動作時形成的且可容易地填充和清空的定量腔室而產生的定 量劑量(包括最小劑量或避免最初劑量的損失)。這種快速填充快速清空的特性還可通過 使用具有較大的孔(如，直徑為約3毫米或更大)的定量密封圈來加強。附圖說明通過對優選實施例的以下描述和參照所述附圖現對本專利技術進行更詳細的解釋，其 中圖1示出了一種具有撓曲面密封件的已知形式閥門的局部截面中的視圖；圖2示出了另一種具有撓曲面密封件的已知形式閥門的局部截面中的視圖；圖3A示出了根據本專利技術穿過示例性閥門第一實施例部分的截面圖，而圖3B示出 了定量密封圈的一部分和周圍閥門組件詳細的截面圖；圖4示出了根據本專利技術穿過示例性閥本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種定量型氣霧劑閥門，包括：（ａ）閥桿，所述閥桿在靜止位置和發射位置之間可移動，并包括：具有周邊密封表面的本體部分；（ｂ）閥體，所述閥體包括：閥體壁，和至少部分由所述閥體壁限定的內部腔室；以及（ｃ）定量密封圈，所述定量密封圈具有限定了孔的內周邊，其被設置為靠近所述內部腔室的最內端，并且被構造為能夠對所述閥桿的周邊密封表面形成瞬態、基本上流體密封性的面密封；其中在所述閥桿位于靜止位置處，所述閥桿的本體部分位于所述內部腔室內，并且當所述閥桿從其靜止位置向其發射位置移動時，所述閥桿的周邊密封表面和所述定量密封圈接觸而形成面密封，從而關閉定量腔室，并且隨后所述閥桿向其發射位置的進一步移動引起所述定量密封圈撓曲，同時保持和所述閥桿的周邊密封表面的密封；以及其中非偏置構造的所述定量密封圈為具有基本上平面形狀的環狀圓盤，且構造和設置所述閥門使得在所述閥桿處于靜止位置處推壓所述定量密封圈的內周邊使其脫離所述基本上平面形狀，或其中所述定量密封圈被預偏置成碟形。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：彼得D霍德森，馬修A戈林，史蒂芬J豪吉爾，約翰菲爾丁，理查德D布魯爾，瑞凱爾V肖，保羅A查諾克，斯圖爾特A麥克格萊森，史蒂芬D赫爾姆，格雷厄姆V杰克遜，安東尼W巴克威爾，賈森A格雷夫斯，
申請(專利權)人：三M創新有限公司，
類型：發明
國別省市：US[美國]