【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
【技術保護點】
一種用于在檢查曝光設備（１）的電磁場（２０）內的金屬針（４０）引導過程中的金屬偽影預防的方法，包括： 確定（ＳＴ１）所述電磁場（２０）的源（２１）的位置， 確定（ＳＴ２）探測器（２５、２６）的位置， 基于所述源（２１）的所 述位置和所述探測器（２５、２６）的所述位置確定（ＳＴ４）所述電磁場（２０）的方向（２９）， 確定（ＳＴ６）所述金屬針（４０）在所述電磁場（２０）中的方向（４９），以及 基于所述電磁場（２０）的所確定的方向（２９）和所述金屬針（４ ０）的所述方向（４９）的比較提供（ＳＴ７）信號。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：NJ努爾德霍爾克，
申請(專利權)人：皇家飛利浦電子股份有限公司，
類型：發明
國別省市：NL[荷蘭]
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