樓頂綠化植草磚制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)公開了一種樓頂綠化植草磚，它包括磚體（１）、植草孔（２）、凸起支承臺(tái)體（３），凹槽（４），其特征在于：該磚體（１）的下底面設(shè)置有與凸起支承臺(tái)體（３）一一對(duì)應(yīng)或間隔對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植草磚腳（５）；該植草孔（２）設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體（３）的對(duì)角線交點(diǎn)上，并任意兩個(gè)植草孔（２）之間的排列為相互垂直；該磚體（１）、凸起支承臺(tái)體（３）、圓臺(tái)體的植草磚腳（５）是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型專利技術(shù)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、容易制造，磚體鋪設(shè)美觀、隔熱性能好、易于植草的優(yōu)點(diǎn)，適宜樓頂綠化植草使用。（*該技術(shù)在2018年保護(hù)過期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種植草磚，特別是涉及樓頂綠化植草磚的設(shè)計(jì)和制造。
技術(shù)介紹
利用植草磚在地面上植草綠化、美化環(huán)境是時(shí)代的要求，已經(jīng)得到廣 泛的應(yīng)用，但在樓頂上植草綠化并不多見。我國(guó)南方的廈天，樓面上雖然設(shè)置了隔熱層，但是熱量仍然輻射、傳遞到屋子內(nèi)，溫度常常達(dá)到37度以 上。如果設(shè)計(jì)和制造出一種樓頂綠化植草磚，既能植草綠化環(huán)境，又能起 到隔熱的作用，兩全其美多么好呀。遣憾的是目前未見公開有關(guān)樓頂綠化 植草磚的專利信息。設(shè)計(jì)和制造一種樓頂綠化植草磚，將會(huì)得到我國(guó)南方 廣大人民群眾的歡迎。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的是提供一種樓頂綠化植草磚，以克服目前樓頂層因 熱量輻射導(dǎo)致高溫的缺點(diǎn)。為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，本技術(shù)的技術(shù)方案是樓頂綠化植草磚， 包括磚體l、植草孔2、凸起支承臺(tái)體3，凹槽4，其特征在于所述的磚體1的下底面還設(shè)置有與磚體1面上凸起支承臺(tái)體3 —一對(duì)應(yīng)或間隔對(duì)應(yīng) 的圓臺(tái)體的植草磚腳5;所述的植草孔2設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體3的對(duì)角線交點(diǎn)上，并任意兩個(gè)植草孔2之間的排列為相互垂直；所述的磚體l、凸起支承臺(tái)體3、圓臺(tái)體的植草磚腳5是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)；所述的凹槽4的平 面與植草孔2的開口同在一個(gè)平面上，并在磚體1的面上形成網(wǎng)狀形的凹槽空間；所述的磚體1平面上的凸起支承臺(tái)體3，是有規(guī)律的均勻分布；所 述的植草孔2可以是長(zhǎng)方形的孔或長(zhǎng)棱形的孔。采用上述措施的本技術(shù)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、容易制造，磚 體鋪設(shè)美觀、隔熱性能好、易于植草的優(yōu)點(diǎn)。以下結(jié)合附圖對(duì)本技術(shù)再進(jìn)一步詳細(xì)說明。 附附圖說明圖1是本技術(shù)的主視結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2是本技術(shù)俯視結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖3是本技術(shù)附圖2的A-A剖視結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式參看附圖1。附圖1是本技術(shù)的主視結(jié)構(gòu)示意圖，從圖1可看出本 實(shí)用型的結(jié)構(gòu)，它包括磚體l、植草孔2、凸起支承臺(tái)體3、凹槽4，還包 括圓臺(tái)體的植草磚腳5。參看附圖2。附圖2是本技術(shù)俯視結(jié)構(gòu)示意圖，從圖2可看出本實(shí) 用新型的結(jié)構(gòu)，該植草孔2設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體3的對(duì)角線交點(diǎn)上， 植草孔2做成長(zhǎng)橄欖形的孔，還可以做成長(zhǎng)方形的孔或長(zhǎng)棱形的孔，任意 兩個(gè)植草孔2之間的排列為相互垂直，該凹槽4的平面與植草孔2的開口 同在一個(gè)平面上，并在磚體1面上形成網(wǎng)狀形的凹槽空間，該磚體l平面 上的凸起支承臺(tái)體3，是有規(guī)律的均勻分布。參看附圖3。附圖3是本技術(shù)附圖2的A-A剖視結(jié)構(gòu)圖，從圖3可看出本技術(shù)的結(jié)構(gòu)，該磚體1的下底面設(shè)置有與磚體1面上凸起支承 臺(tái)體3 —一對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植草磚腳5，也可以做成間隔對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植 草磚腳5;從圖3還可看出該磚體1、凸起支承臺(tái)體3、圓臺(tái)體的植草磚腳5是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。本技術(shù)的植草孔2-l是植草孔2的二分之一個(gè)孔，兩塊植草磚可組成一個(gè)完整的植草孔2，植草孔2-2是植草孔2的四分之一個(gè)孔，四塊植草 磚可組成一個(gè)完整的植草孔2。本技術(shù)的凸起支承臺(tái)體3，是用來支承人體及其運(yùn)動(dòng)壓力的，當(dāng)人 們上樓頂玩耍時(shí)，腳踩在凸起支承臺(tái)體3上，不容易把綠化草踩壞，有效 地保護(hù)凹槽4里延蔓生長(zhǎng)的綠化草。本技術(shù)是將配比好的水泥沙漿，在模具里一次性制作而成，待脫 模后即可；也可通過機(jī)壓或燒制而成。本技術(shù)植草時(shí)，是在樓頂層防滲漏完成的基礎(chǔ)上，作好植草所需 要的蓄水、保水處理后，先在樓面上鋪上一層適合綠化草生長(zhǎng)的栽培基質(zhì)， 如木糠、谷殼、甘蔗渣、椰子衣、巖棉等輕質(zhì)材料，用于填充磚下空間， 然后座上植草磚，并與樓面帖緊，再將植草的孔填上泥土，最后把綠化草 種下或把綠化草種子播下即可。綠化草吸收植草磚下面基質(zhì)及泥土中的養(yǎng) 分和水分，在凹槽里延蔓生長(zhǎng)，形成網(wǎng)狀形覆蓋的高密度草坪，使樓頂隔 熱實(shí)用、非常美觀，成為人們休閑活動(dòng)的場(chǎng)所。本技術(shù)在樓頂綠化的同時(shí)，可以安裝自動(dòng)控制噴淋或滴灌系統(tǒng)， 提供水肥達(dá)到自動(dòng)維護(hù)的目的，減少人工和費(fèi)用，減少出差人員對(duì)樓頂綠 化管理的擔(dān)心。本技術(shù)磚體可做成正方形，邊長(zhǎng)為30-50厘米，磚體總高度為8-15 厘米。其中，支承臺(tái)體直徑為2-5厘米，支承臺(tái)體高出凹槽底面1厘米左 右，支承臺(tái)體相互之間的中心距離為4-10厘米；植草孔2長(zhǎng)徑為2-5厘米； 磚腳高度為5-12厘米。權(quán)利要求1. 樓頂綠化植草磚，包括磚體(1)、植草孔(2)、凸起支承臺(tái)體(3)，凹槽(4)，其特征在于所述的磚體(1)的下底面設(shè)置有與磚體(1)面上凸起支承臺(tái)體(3)一一對(duì)應(yīng)或間隔對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植草磚腳(5)；所述的植草孔(2)設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體(3)的對(duì)角線交點(diǎn)上，并任意兩個(gè)植草孔(2)之間的排列為相互垂直；所述的磚體(1)、凸起支承臺(tái)體(3)、圓臺(tái)體的植草磚腳(5)是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的樓頂綠化植草磚，其特征在于:所述的凹槽(4) 的平面與植草孔(2)的開口同在一個(gè)平面上，并在磚體(1)面上形成網(wǎng) 狀形的凹槽空間。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的樓頂綠化植草磚，其特征在于:所述的磚體(l) 平面上的凸起支承臺(tái)體(3)，是有規(guī)律的均勻分布。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的樓頂綠化植草磚，其特征在于所述的植草孔 (2)可以是長(zhǎng)方形的孔或長(zhǎng)棱形的孔。專利摘要本技術(shù)公開了一種樓頂綠化植草磚，它包括磚體(1)、植草孔(2)、凸起支承臺(tái)體(3)，凹槽(4)，其特征在于該磚體(1)的下底面設(shè)置有與凸起支承臺(tái)體(3)一一對(duì)應(yīng)或間隔對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植草磚腳(5)；該植草孔(2)設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體(3)的對(duì)角線交點(diǎn)上，并任意兩個(gè)植草孔(2)之間的排列為相互垂直；該磚體(1)、凸起支承臺(tái)體(3)、圓臺(tái)體的植草磚腳(5)是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。本技術(shù)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、容易制造，磚體鋪設(shè)美觀、隔熱性能好、易于植草的優(yōu)點(diǎn)，適宜樓頂綠化植草使用。文檔編號(hào)A01G9/02GK201282670SQ2008201294公開日2009年8月5日 申請(qǐng)日期2008年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月10日專利技術(shù)者李炳杰 申請(qǐng)人:李炳杰本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
樓頂綠化植草磚，包括磚體（１）、植草孔（２）、凸起支承臺(tái)體（３），凹槽（４），其特征在于：所述的磚體（１）的下底面設(shè)置有與磚體（１）面上凸起支承臺(tái)體（３）一一對(duì)應(yīng)或間隔對(duì)應(yīng)的圓臺(tái)體的植草磚腳（５）；所述的植草孔（２）設(shè)置在每四個(gè)凸起支承臺(tái)體（３）的對(duì)角線交點(diǎn)上，并任意兩個(gè)植草孔（２）之間的排列為相互垂直；所述的磚體（１）、凸起支承臺(tái)體（３）、圓臺(tái)體的植草磚腳（５）是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李炳杰，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：李炳杰，
類型：實(shí)用新型
國(guó)別省市：45[中國(guó)|廣西]