一種Ｈ２純化系統微壓控制裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開一種Ｈ２純化系統微壓控制裝置，包括補充Ｈ２管道、調節閥、除氧器，所述補充Ｈ２管道通過所述調節閥后與所述除氧器連接，所述調節閥為自力式微壓薄膜調節閥。本實用新型專利技術使用自力式微壓薄膜調節閥替代現有的電磁閥，不需要傳感器和ＰＡＤ控制，確保在微壓下緩緩補氣，使系統壓力均衡，不再波動，控制環節便利很多。（*該技術在2020年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種H2純化系統微壓控制裝置。
技術介紹
H2純化系統是在微壓狀態工作的，純化系統中的補充H2通過電磁閥降壓后，H2降 至0. 1公斤(100毫帕)微壓狀態。在純化系統設備中，正常運行的壓力不能超過200毫帕， 中間環節設有壓力傳感器和PAD控制，到進入還原爐系統的壓力智能控制在70 80毫帕， 最后出氣口的H2壓力通過氣動壓力調節閥進行調節的。在該H2純化設備微壓控制系統中，存在兩個問題1、電磁閥補充雖然有壓力傳感 器傳感和PAD控制能達到控制要求，但電磁閥補氣是直沖式的，有較強的沖擊波動，它對整 體純化系統及流量計都會產生不穩定，對還原系統的生產工藝要求有很大影響；另外，電磁 閥容易損壞，使用壽命平均兩個月左右，經常性失控易出超壓故障，并要浪費很多H2，有一 定的安全隱患，因此，電磁閥必須尋求替換產品；2、氣動壓力調節閥是依靠壓力傳感器和 PAD控制，氣動壓力調節閥的打開是借助外來的壓縮空氣來調節閥體開度的大小，由于產品 工藝特殊，系統壓力變化頻率很高且又是微壓，要在1至2秒鐘內使壓力得到控制均衡，氣 動調節閥反應慢、靈敏度也不夠，且借助壓縮空氣外力經常出現故障，不能有效控制壓力； 另一方面，氣動調節閥還需要配備空氣壓縮機，機電控制還需要浪費電能，機械成本和電費 上花費很大，因此該氣動壓力調節閥也需要尋求替代品。
技術實現思路
專利技術目的本技術的目的在于針對現有技術的不足，提供一種控制效果好的 H2純化系統微壓控制裝置。技術方案本技術所述的H2純化系統微壓控制裝置，包括補充H2管道、調節 閥、除氧器，所述補充H2管道通過所述調節閥后與所述除氧器連接，所述調節閥為自力式微 壓薄膜調節閥，自力式微壓薄膜調節閥直接依靠自身吐壓力來調節，它的工作原理是系統 中的H2對該閥體的膜片的作用，當壓力高于薄膜片承受力時，薄膜片會被推上閥體就打開 補充H2,當系統壓力下降了到設定范圍時，薄膜片就自動回落，閥體就關閉，它的工作方式 是確保在微壓下緩緩補氣，使系統壓力均衡，不再波動。裝置的氣體出口處設置有自力式薄膜調節閥，自力式薄膜調節閥的工作原理、方 式與自力式微壓薄膜調節閥相同，不同點在于它控制的是閥后壓力，當系統中的壓力高出 70毫帕時，它會自動打開，使系統中的壓大量通過閥體流出回羅茨風機，確保系統壓力始終 平穩均衡，確保生產系統正常運行。有益效果本技術與現有技術相比，其有益效果是1、本技術使用自力 式微壓薄膜調節閥替代現有的電磁閥，不需要傳感器和PAD控制，確保在微壓下緩緩補氣， 使系統壓力均衡，不再波動，控制環節便利很多；2、本技術使用自力式薄膜調節閥替代 現有的氣動調節閥，能有效控制循環系統使用的壓力，能及時將多余H2通過閥體泄壓并傳送至羅茨風機，使得羅茨風機得到充分補充，整體系統不再超壓，在均衡狀態工作；3、本實 用新型使用便利，系統壓力穩定，符合生產工藝要求，在循環過程中不再出現超壓，也不再 出現H2排空現象，排除了安全隱患，同時又降低了生產成本和H2浪費。附圖說明附圖為本技術結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖，通過一個最佳實施例，對本技術技術方案進行詳細說明，但是 本技術的保護范圍不局限于所述實施例。如圖所示，一種H2純化系統微壓控制裝置，包括補充H2管道、調節閥、除氧器，所述 補充H2管道通過所述調節閥后與所述除氧器連接，所述調節閥為自力式微壓薄膜調節閥； 裝置的氣體出口處設置有自力式薄膜調節閥。自力式微壓薄膜調節閥直接依靠自身H2壓力來調節，它的工作原理是系統中的 H2對該閥體的膜片的作用，當壓力高于薄膜片承受力時，薄膜片會被推上閥體就打開補充 H2，當系統壓力下降了到設定范圍時，薄膜片就自動回落，閥體就關閉，它的工作方式是確 保在微壓下緩緩補氣，使系統壓力均衡，不再波動。自力式薄膜調節閥的工作原理、方式與 自力式微壓薄膜調節閥相同，不同點在于它控制的是閥后壓力，當系統中的壓力高出70毫 帕時，它會自動打開，使系統中的H2大量通過閥體流出回羅茨風機，確保系統壓力始終平穩 均衡，確保生產系統正常運行。權利要求1. 一種H2純化系統微壓控制裝置，包括補充H2管道、調節閥、除氧器，所述補充H2管道 通過所述調節閥后與所述除氧器連接，其特征在于所述調節閥為自力式微壓薄膜調節閥。2.根據權利要求1所述的H2純化系統微壓控制裝置，其特征在于裝置的氣體出口處 設置有自力式薄膜調節閥。專利摘要本技術公開一種H2純化系統微壓控制裝置，包括補充H2管道、調節閥、除氧器，所述補充H2管道通過所述調節閥后與所述除氧器連接，所述調節閥為自力式微壓薄膜調節閥。本技術使用自力式微壓薄膜調節閥替代現有的電磁閥，不需要傳感器和PAD控制，確保在微壓下緩緩補氣，使系統壓力均衡，不再波動，控制環節便利很多。文檔編號C01B3/50GK201780512SQ20102023824公開日2011年3月30日 申請日期2010年6月24日 優先權日2010年6月24日專利技術者湯錫明, 潘太興 申請人:江蘇和田科技材料有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種Ｈ↓［２］純化系統微壓控制裝置，包括補充Ｈ２管道、調節閥、除氧器，所述補充Ｈ２管道通過所述調節閥后與所述除氧器連接，其特征在于：所述調節閥為自力式微壓薄膜調節閥。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：湯錫明，潘太興，
申請(專利權)人：江蘇和田科技材料有限公司，
類型：實用新型
國別省市：32[中國|江蘇]