【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術屬于光學粒子計數器的領域。本專利技術總體涉及用于驗證光學粒子計數器的 校準狀態和性能的校準驗證系統(calibration verification system)以及方法。
技術介紹
大部分微污染(micro-contamination)行業都依賴于使用光學粒子計數器,所述 光學粒子計數器諸如在大量美國專利中所描述的光學粒子計數器,所述美國專利包括美國 專利 No. 3,851,169,4, 348,111,4, 957,363,5, 085,500,5, 121,988,5, 467,188,5, 642,193、 5,864,399,5, 920,388,5, 946,092 以及 7,053,783 中所描述的。美國專利 No. 4,728,190、 6,859,277以及7,030, 980也公開了光學粒子計數器,這些申請的全文在此通過引用方式 被納入。氣溶膠光學粒子計數器通常用于測量凈化室和凈化區域中的大氣粒子污染。液相 粒子計數器通常用于光學地測量在水處理和化學加工工業中的粒子污染。用于這些應用的光學粒子計數器通常具有一年的校準周期。國際標準諸如II^ 9921 光散射自動粒子計數器(Light Scattering Automatic Particle Counter)、ASTM F328-98 使用單分散球形粒子來校準大氣粒子計數器的標準實踐(Standard Practice for Calibrating an Airborne Particle Counter Using Monodiperse Spherical Pa ...
【技術保護點】
一種用于驗證光學粒子計數器的校準狀態的校準驗證系統,包括:一個粒子生成器,其用于向光學粒子計數器提供具有預定尺寸分布的粒子;一個脈沖高度分析儀,其可操作地連接至所述光學粒子計數器,用于測量所述的具有預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布;一個校準驗證分析儀,其可操作地連接至所述脈沖高度分析儀,用于通過確定一個校準驗證參數或一組校準驗證參數、且將所述一個校準驗證參數或所述一組校準驗證參數與一個或多個參考值進行比較來分析所述脈沖高度分布。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2007.11.16 US 60/988,515一種用于驗證光學粒子計數器的校準狀態的校準驗證系統,包括一個粒子生成器,其用于向光學粒子計數器提供具有預定尺寸分布的粒子;一個脈沖高度分析儀,其可操作地連接至所述光學粒子計數器,用于測量所述的具有預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布;一個校準驗證分析儀,其可操作地連接至所述脈沖高度分析儀,用于通過確定一個校準驗證參數或一組校準驗證參數、且將所述一個校準驗證參數或所述一組校準驗證參數與一個或多個參考值進行比較來分析所述脈沖高度分布。2.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述粒子生成器包括一個霧化器。3.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述霧化器是一個振動網眼霧化器。4.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述校準驗證參數選自 具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的中值; 具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的寬度; 所述光學粒子計數器的本底噪聲的斜率;所述光學粒子計數器的零計數失效點;以及信噪比,其等于具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的所述中值和 所述光學粒子計數器的所述零計數失效點之間的比率。5.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述一個或多個參考值選自 用于一預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布的中值;用于一預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布的寬度;一預校準光學粒子計數器的本底噪聲的斜率; 一預校準光學粒子計數器的零計數失效點;以及信噪比,其等于用于一預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的所述 脈沖高度分布的所述中值和使用一預校準光學粒子的所述本底噪聲的斜率而確定的零計 數失效點之間的比率。6.根據權利要求1所述的校準驗證系統,還包括一個存儲系統,其用于存儲所述校準 驗證參數、所述一個或多個參考值,或者既存儲所述校準驗證參數也存儲所述一個或多個 參考值。7.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述校準驗證系統是所述光學粒子計數 器的集成部件。8.根據權利要求1所述的校準驗證系統,其中所述光學粒子計數器是氣溶膠光學粒子 計數器。9.一種用于驗證光學粒子計數器的校準狀態的方法,所述方法包括 提供一個光學粒子計數器;將具有預定尺寸分布的粒子傳輸通過所述光學粒子計數器; 測量相應于具有所述預定尺寸分布的所述粒子的脈沖高度分布; 通過確定一個校準驗證參數或者一組校準驗證參數,來分析所述脈沖高度分布;以及 將所述一個校準驗證參數或所述一組校準驗證參數與一個或多個參考值進行比較,由此驗證光學粒子計數器的校準狀態。10.根據權利要求9所述的方法,還包括向用戶指示所述光學粒子計數器的校準狀態 的步驟。11.根據權利要求9所述的方法,還包括將所述一個校準驗證參數或所述一組校準驗 證參數存儲在光學粒子計數器的存儲系統中的步驟。12.根據權利要求9所述的方法,其中所述校準驗證參數選自具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的中值;具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的寬度;所述光學粒子計數器的本底噪聲的斜率;所述光學粒子計數器的零計數失效點;以及信噪比,其等于具有所述預定尺寸分布的所述粒子的所述脈沖高度分布的所述中值和 所述光學粒子計數器的所述零計數失效點之間的比率。13.根據權利要求9所述的方法,其中所述一個或多個參考值選自用于所述預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布的 中值;用于所述預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的脈沖高度分布的 寬度;所述預校準光學粒子計數器的本底噪聲的斜率;所述預校準光學粒子計數器的零計數失效點;以及信噪比,其等于用于所述預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒子的所 述脈沖高度分布的所述中值和所述預校準光學粒子計數器的零計數失效點之間的比率。14.根據權利要求9所述的方法,其中所述比較步驟包括將所述光學粒子計數器的所 述脈沖高度分布的中值與用于所述預校準光學粒子計數器的具有所述預定尺寸分布的粒 子的脈沖高度分布的中值進行比較;所述方法還包括以下步驟如果所述光學粒子計數器的所述脈沖高度分布的中值位于所述預校準光學粒子計數 器的所述脈沖高度分布的中值的10%之內,則指示所述光學粒子計數器處于正校準狀態; 以及如果所述光學粒子計數器的所述脈沖高度的中值大于所述預校準光學粒子計數器的 所述脈沖高度分布的中值的110%或小于其90%,則指示所述光學粒子計數器處于負校準 狀態。15.根據權利要求9所述的方法,其中所述比較步驟包括將所述光學粒子計...
【專利技術屬性】
技術研發人員:T·貝茨,
申請(專利權)人:粒子監測系統有限公司,
類型:發明
國別省市:US
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