一種放板系統(tǒng),其包括:一個承載裝置;一個真空吸附裝置;第一驅(qū)動裝置;所述放板系統(tǒng)還包括一個影像掃描裝置,其用于掃描放置在所述承載臺上的基板的影像;第二驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述承載裝置平移;及一個控制裝置,其根據(jù)所述影像掃描裝置掃描得到的基板影像分析所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板之間的位置偏差,并根據(jù)該偏差控制所述第二驅(qū)動裝置,以使所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板對準(zhǔn)。本發(fā)明專利技術(shù)還涉及一種投放基板的方法。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及柔性電路板制作領(lǐng)域,尤其涉及柔性電路板生產(chǎn)過程的自動放板系統(tǒng)及投放 基板的方法。
技術(shù)介紹
電路板的制作工藝通常包括下料、導(dǎo)通孔制作、導(dǎo)電線路制作、防焊層印刷、鍍金等步 驟。下料是指將原材料如覆銅層壓板裁切成便于生產(chǎn)的適當(dāng)尺寸的基板。導(dǎo)通孔的制作工藝 一般包括鉆孔及孔電鍍,以實現(xiàn)層間導(dǎo)電線路的互連。導(dǎo)電線路制作是指將基板上的銅箔制 成設(shè)計的導(dǎo)電圖形, 一般通過涂覆光阻、曝光顯影、蝕刻線路以及光阻去除等步驟形成,參 見Moon-Yo皿Jung等人于2004年發(fā)表于IEEE 17th Interiiatioiial Conference on Micro Electro Mechanical Systems的文獻(xiàn)Novel lithography process for extreme deep trench by using laminated negative dry film resist。 導(dǎo)通孑L、 導(dǎo)電線路制作完成后 ,可在導(dǎo)電線路外表面(除終接端點外)涂覆一層防焊層以保護(hù)導(dǎo)電線路,避免導(dǎo)電線路氧 化和后續(xù)貼裝時在導(dǎo)電線路間造成焊接短路。鍍金是指在電路板的終接端點上鍍上一層高化 學(xué)鈍性的金層來保護(hù)終接端點,并提供良好導(dǎo)電性。電路板的導(dǎo)電線路制作一般是在傳送帶上進(jìn)行,也就是說,先將電路板依次放置于傳送 帶上,再通過傳送帶將基板傳送至光阻涂覆機、曝光掩模、顯影機、蝕刻液噴淋槽以及剝膜 機,從而完成導(dǎo)電線路的制作。然而,以人工方式將基板放置于傳送帶時,放板速度不易控 制,從而使得傳送帶上的基板間距不均,不便于后續(xù)工藝的進(jìn)行。目前,自動化的放板設(shè)備已經(jīng)出現(xiàn),其一般采用真空吸嘴吸附柔性基板以完成放板動作 。然而,由于柔性基板比較柔軟,無法堆疊整齊,而且通常柔性基板上不同區(qū)域設(shè)計了多個 工具孔,采用真空吸嘴吸附柔性基板時容易吸附到基板的工具孔,造成放板動作無法繼續(xù)進(jìn) 行。如果采用開口較小的真空吸嘴,則吸附到通孔位置的可能性降低,然而由于吸嘴變小, 則被柔性基板被吸附位置單位面積所承受的力量增大,吸附過程中容易產(chǎn)生損傷柔性基板的 問題。因此,有必要提供一種可控制吸附基板的位置的自動放板系統(tǒng)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
以下將以實施例說明 一種自動放板系統(tǒng)。一種放板系統(tǒng),其包括 一個承載裝置,其用于放置待投放的基板; 一個真空吸附裝置 ,其用于吸附放置在所述承載裝置上的基板;第一驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述真空吸附裝置 相對所述承載裝置運動以進(jìn)行基板的投放;所述放板系統(tǒng)還包括一個影像掃描裝置,其用于 掃描放置在所述承載臺上的基板的影像;第二驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述承載裝置在其所在 的平面內(nèi)平移;及一個控制裝置,其根據(jù)所述影像掃描裝置掃描得到的基板影像分析所述真 空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板之間的位置偏差,并根據(jù)該偏差控制所述第二驅(qū) 動裝置驅(qū)動承載裝置平移,以使所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板對準(zhǔn)。一種基板的投放方法,其包括掃描位于一承載裝置上的待投放基板的影像;根據(jù)所述 影像利用控制裝置分析一個用于吸附所述基板的真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基 板之間的位置偏差;根據(jù)所述位置偏差,利用驅(qū)動裝置控制移動所述承載裝置以使所述真空 吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板對準(zhǔn);采用所述真空吸附裝置吸附所述基板并完成 基板的投放。本技術(shù)方案中的放板系統(tǒng),通過精確對位吸附裝置和待放的基板,使得放板過程中減少 了對基板的損傷。 附圖說明圖l是本技術(shù)方案實施例提供的放板系統(tǒng)的示意圖。圖2是本技術(shù)方案中真空吸附裝置剖面示意圖。圖3是本技術(shù)方案中吸附面的吸附孔與基板位置關(guān)系示意圖。圖4是真空吸附裝置的吸附面與承載臺上的基板對位過程示意圖。具體實施例方式下面將結(jié)合附圖對本技術(shù)方案提供的自動放板系統(tǒng)和基板投放方法作進(jìn)一步的詳細(xì)說明請參閱圖l,本技術(shù)方案實施例提供一種自動放板系統(tǒng)100,其包括滑軌110、承載裝置 120、影像掃描裝置130、真空吸附裝置140、第一驅(qū)動裝置150、控制裝置160、第二驅(qū)動裝 置170、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置180和高度檢測裝置190。所述承載裝置120用于承載待投放的基板,所 述影像掃描裝置130用于掃描放置在所述承載裝置120上的基板的影像,所述真空吸附裝置 140與承載裝置120相對,用于吸附待投放的基板,所述第一驅(qū)動裝置180用于驅(qū)動真空吸附 裝置140 ,所述第二驅(qū)動裝置190用于驅(qū)動承載裝置120 。所述滑軌l 10包括相互平行的第一滑軌11 l和第二滑軌l 12。第一滑軌l 1 l和第二滑軌l 12 的長度方向定義為第一軸向X,第一滑軌111與第二滑軌112所在的平面為XY面,垂直于第一滑軌111和第二滑軌112長度方向定義為第二軸向Y,垂直于XY面的方向定義為第三軸向Z。承載裝置120包括一個矩形的承載臺121、第一定位件122、第二定位件123。承載臺121 具有一承載平面1211,其平行于XY面。第一定位件122設(shè)置于承載臺121的一頂角處并垂直于承載平面1211,即其沿第三軸向Z 延伸,。所述第一定位件122包括第一擋板1221和第二擋板1222。第一擋板1221、第二檔板 1222均垂直于承載面1211且垂直相交從而形成一 L形結(jié)構(gòu)。當(dāng)待投放的基板設(shè)置在承載 面1211上時,第一檔板1221與第二檔板1222可分別抵靠所述基板相鄰的兩個側(cè)邊從而可使得 放置在承載臺121上的基板在放板過程中堆疊整齊。本實施例中,第一擋板1221與第二擋板 1222—體成型,所述第一擋板1221和第二擋板1222形成的直角彎折。為了使得承載臺121上 基板放置更加整齊,進(jìn)一步設(shè)置了第二定位件123,所述第二定位件123設(shè)置于承載臺121與 第二軸向Y平行的一端的另一頂角處且與第一定位件122對稱。影像掃描裝置130用于檢測承載臺121上承載的待放基板的位置,影像掃描裝置130至少 包括兩個掃描器。本實施例中,影像掃描裝置130包括第一掃描器131、第二掃描器132、第 三掃描器133和第四掃描器134。第一掃描器131、第二掃描器132、第三掃描器133和第四掃 描器134分別設(shè)置在承載裝置120周圍。本實施例中,第一掃描器131和第三掃描器133分別通 一連接桿固定于第一滑軌lll,第二掃描器132和第四掃描器134分別通過一連接桿固定于第 二滑軌112。可以理解,所述連接桿還可滑動的設(shè)置于相應(yīng)的滑軌上。請參閱圖2,真空吸附裝置140為一個具有空腔144的殼體。其具有底板141,所述底板 141具有吸附面142,所述吸附面142與承載臺121相對,所述吸附面142上設(shè)置有多個吸附孔 143,所述底板141設(shè)置為可拆卸結(jié)構(gòu)。吸附不同的基板,可以采用不同的底板142,以使得 吸附孔143設(shè)置的位置能夠避開不同基板上的導(dǎo)電線路區(qū)域和工具孔。另外對于不同的基板 ,還可直接替換整個真空吸附裝置140。請參閱圖3,吸附孔143設(shè)置的位置對應(yīng)于待吸附基板200上不設(shè)置導(dǎo)電線路和沒有工具 孔的閑置區(qū)域,并與基板上的導(dǎo)電線路區(qū)域201相距一定的距離,以保證吸附和傳送過程中 不會使得基板200上的導(dǎo)電線路受到損傷。所述吸附面142可以為多個基板通用,也可以根據(jù) 不同的基板型號,設(shè)計針對這一型本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種放板系統(tǒng),其包括: 一個承載裝置,其用于放置待投放的基板; 一個真空吸附裝置,其用于吸附放置在所述承載裝置上的基板; 第一驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述真空吸附裝置相對所述承載裝置運動以進(jìn)行基板的投放; 其特征在于,所述放板系統(tǒng)還包括一個影像掃描裝置,其用于掃描放置在所述承載臺上的基板的影像; 第二驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述承載裝置; 一個控制裝置,其根據(jù)所述影像掃描裝置掃描得到的基板影像分析所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板之間的位置偏差,并根據(jù)該偏差控制所述第二驅(qū)動裝置驅(qū)動承載裝置平移,以使所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板對準(zhǔn)。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種放板系統(tǒng),其包括一個承載裝置,其用于放置待投放的基板;一個真空吸附裝置,其用于吸附放置在所述承載裝置上的基板;第一驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述真空吸附裝置相對所述承載裝置運動以進(jìn)行基板的投放;其特征在于,所述放板系統(tǒng)還包括一個影像掃描裝置,其用于掃描放置在所述承載臺上的基板的影像;第二驅(qū)動裝置,其用于驅(qū)動所述承載裝置;一個控制裝置,其根據(jù)所述影像掃描裝置掃描得到的基板影像分析所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板之間的位置偏差,并根據(jù)該偏差控制所述第二驅(qū)動裝置驅(qū)動承載裝置平移,以使所述真空吸附裝置與放置在所述承載裝置上的基板對準(zhǔn)。2.如權(quán)利要求l所述的放板系統(tǒng),其特征在于,所述真空吸附裝置包 括一個內(nèi)部形成有空腔的殼體,殼體還具有一個吸附面,所述吸附面開設(shè)有多個通孔與所述 腔體相連通,所述腔體用于與抽真空裝置相連,所述吸附面與承臺載相對。3.如權(quán)利要求l所述的放板系統(tǒng),其特征在于,進(jìn)一步包括一旋轉(zhuǎn)驅(qū) 動裝置,其固定于所述第一驅(qū)動裝置,用于驅(qū)動所述真空吸附裝置在平行于所述承載裝置的 平面內(nèi)轉(zhuǎn)動。4.如權(quán)利要求l所述的放板系統(tǒng),其特征在于,進(jìn)一步包括一個去靜 電裝置,其可滑動地設(shè)置于所述真空吸附...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:楊智康,李文欽,
申請(專利權(quán))人:富葵精密組件深圳有限公司,鴻勝科技股份有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:94[中國|深圳]
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