防反射用層合體及其制備方法、以及固化性組合物技術

本發明專利技術涉及防反射用層合體及其制備方法、以及固化性組合物。本發明專利技術提供可通過一次涂布工序形成低折射率性和耐劃傷性優異的固化膜的固化性組合物、或具有該固化膜的防反射用層合體及其制備方法。本發明專利技術的防反射用層合體的特征在于：在基材上具有固化性組合物的固化膜，所述固化性組合物含有聚合性化合物和折射率為1.40以下的顆粒，所述聚合性化合物具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1種以上的極性基團，全部聚合性化合物1g中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為0.5mmol/g～15mmol/g，上述顆粒偏在于上述固化膜中與上述基材接觸的面相反的面側。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及防反射用層合體及其制備方法、以及固化性組合物。
技術介紹
近年來，作為電視、個人計算機等的顯示裝置，使用液晶顯示裝置。所述液晶顯示裝置中，為了防止外部光的反射、提高畫質，提出使用含有低折射率層的防反射膜。以往的液晶顯示裝置中使用的防反射膜通過多層涂布低折射率層和硬涂層而具備了低折射率性和耐劃傷性。這樣的具有多層結構的防反射膜在低折射率層中可以使反射率降低，但為了制成多層結構，有生產性或成本出現劣勢的問題。并且，通過層合低折射率層和硬涂層而制備的防反射膜還有容易在低折射率層和硬涂層的界面發生剝離的問題。為解決上述問題，提出了用氟硅烷修飾二氧化硅顆粒，通過表面能量使二氧化硅顆粒偏在于其液體中，然后形成固化膜的防反射膜的制備方法(例如參照專利文獻1)。現有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本國特開2001-316604號公報
技術實現思路
但是，專利文獻1所述的方法存在二氧化硅顆粒的偏在性不穩定的問題。因此，本專利技術所述的幾個方案，通過解決上述課題，提供可以通過一次涂布工序形成低折射率性和耐劃傷性優異的固化膜的固化性組合物、或具有該固化膜的防反射用層合體及其制備方法。本專利技術為解決上述課題中的至少一部分而完成，可以以如下的方案或應用例的形式實現。本專利技術的防反射用層合體的一個方案的特征在于在基材上具有固化膜，所述固化膜含有基質和折射率為1.40以下的顆粒，所述基質具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1種以上的極性基團，上述基質Ig中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為0. 5mmol/g 15mmol/g ；上述顆粒偏在于上述固化膜中與上述基材接觸的面相反的面側。根據所述防反射用層合體，由于在與基材接觸的面相反的面側具有折射率為1. 40 以下的顆粒高密度存在的層，在與基材接觸的面側具有折射率為1.40以下的顆粒實質上不存在的層，因此可兼具耐劃傷性和低折射率性兩者。如應用例1的防反射用層合體，上述基質Ig中的羥基濃度可以是2. Ommol/g 15mmol/g0如應用例1的防反射用層合體，上述基質Ig中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g 10mmol/g。如應用例1的防反射用層合體，上述基質Ig中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g 5mmol/g。如應用例1的防反射用層合體，上述顆粒可以是中空二氧化硅顆粒。本專利技術的防反射用層合體的一個方案的特征在于在基材上具有固化性組合物的固化膜，所述固化性組合物含有聚合性化合物和折射率為1.40以下的顆粒，所述聚合性化合物具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1種以上的極性基團，全部聚合性化合物Ig 中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為0. 5mmol/g 15mmol/g ；上述顆粒偏在于上述固化膜中與上述基材接觸的面相反的面側。根據所述防反射用層合體，由于在與基材接觸的面相反的面側具有折射率為1. 40 以下的顆粒高密度存在的層，在與基材接觸的面側具有折射率為1.40以下的顆粒實質上不存在的層，因此可兼具耐劃傷性和低折射率性兩者。如應用例6的防反射用層合體，上述全部聚合性化合物Ig中的羥基濃度可以是 2. Ommol/g 15mmol/g。如應用例6的防反射用層合體，上述全部聚合性化合物Ig中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g lOmmol/g。如應用例6的防反射用層合體，上述全部聚合性化合物Ig中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g 5mmol/g。如應用例6的防反射用層合體，上述顆粒可以是中空二氧化硅顆粒。應用例1 應用例10中的任一例中，上述基材可以是三乙酰纖維素樹脂膜或聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂膜。本專利技術的防反射用層合體的制備方法的一個方案的特征在于該方法包括將固化性組合物涂布于基材、然后使其固化的工序，其中所述固化性組合物含有聚合性化合物和折射率為1.40以下的顆粒，所述聚合性化合物具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1 種以上的極性基團；全部聚合性化合物Ig中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為0. 5mmol/g 15mmol/g。根據所述防反射用層合體的制備方法，通過將滿足上述條件的固化性組合物一次性地涂布于基材并使其固化，可以在與基材接觸的面相反的面側形成折射率為1.40以下的顆粒高密度存在的層，在與基材接觸的面側形成折射率為1.40以下的顆粒實質上不存在的層。由此，可制備兼具耐劃傷性和低折射率性兩者的防反射用層合體。如應用例12的防反射用層合體的制備方法，上述固化性組合物的全部聚合性化合物1g中的羥基濃度可以是2. Ommol/g 15mmol/g。如應用例12的防反射用層合體的制備方法，上述固化性組合物的全部聚合性化合物1g中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g lOmmol/g。如應用例12的防反射用層合體的制備方法，上述固化性組合物的全部聚合性化合物1g中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g 5mmol/g。如應用例12的防反射用層合體，上述顆粒可以是中空二氧化硅顆粒。如應用例12 應用例16中任一例的防反射用層合體的制備方法，上述基材可以是三乙酰纖維素樹脂膜或聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂膜。本專利技術的固化性組合物的一個方案的特征在于其含有聚合性化合物和折射率為1.40以下的顆粒，所述聚合性化合物具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1種以上的極性基團；全部聚合性化合物1g中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為 0. 5mmol/g 15mmol/g。如應用例18的固化性組合物，上述全部聚合性化合物1g中的羥基濃度可以是2.Ommol/g 15mmol/g。如應用例18的固化性組合物，作為上述聚合性化合物，可以含有(甲基)丙烯酸 2-羥基乙酯。如應用例18的固化性組合物，上述全部聚合性化合物1g中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g lOmmol/g。如應用例18的固化性組合物，上述全部聚合性化合物1g中的羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計可以是0. 5mmol/g 5mmol/g。如應用例18 應用例22中任一例的固化性組合物，上述顆粒可以是中空二氧化硅顆粒。根據本專利技術的防反射用層合體的制備方法，通過將特定的固化性組合物一次性地涂布于基材并使其固化，由此可以在與基材接觸的面相反的面側形成折射率為1. 40以下的顆粒高密度存在的層，在與基材接觸的面側形成折射率為1.40以下的顆粒實質上不存在的層。由此，可以制備兼具耐劃傷性和低折射率性兩者的防反射用層合體。附圖說明圖1是表示本實施方式的防反射用層合體的截面示意圖。符號說明10...基材、20...固化膜、22...顆粒、24...硬涂層、26...低折射率層、100...防反射用層合體具體實施例方式以下，對本專利技術的優選的實施方式進行詳細說明。應予說明，本專利技術并不限于下述的實施方式，也包含在不改變本專利技術的宗旨的范圍內實施的各種變形例。1.固化性組合物本實施方式的固化性組合物含有(Al)具有選自羥基本文檔來自技高網...

【技術保護點】
１．一種防反射用層合體，其在基材上具有固化膜，所述固化膜含有基質和折射率為１．４０以下的顆粒，所述基質具有選自羥基、羧基、磷酸酯基和磺基中的１種以上的極性基團，所述基質１ｇ中的羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度和磺基濃度的合計為０．５ｍｍｏｌ／ｇ～１５ｍｍｏｌ／ｇ；所述顆粒偏在于所述固化膜中與所述基材接觸的面相反的面側。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：川合高弘，漆原英一郎，金森太郎，
申請(專利權)人：JSR株式會社，
類型：發明
國別省市：JP