放射線敏感性組合物、固化膜及其形成方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種放射線敏感性組合物、固化膜及其形成方法。本發(fā)明專利技術(shù)的目的是提供一種具有高的涂布性和圖案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，還具有高的折射率，且具有正型的放射線敏感特性的聚硅氧烷類的放射線敏感性組合物，由該組合物形成的圖案化的固化膜及其形成方法。本發(fā)明專利技術(shù)為一種放射線敏感性組合物，其含有[A]硅氧烷聚合物、[B]金屬氧化物顆粒、和[C]放射線敏感性酸產(chǎn)生劑或放射線敏感性堿產(chǎn)生劑，上述[B]金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構(gòu)成的群組中的至少一種金屬的氧化物顆粒。該放射線敏感性組合物優(yōu)選還含有分散劑。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種放射線敏感性組合物、由該組合物形成的固化膜以及該固化膜的 形成方法。
技術(shù)介紹
液晶顯示元件等在其制造工序中，通過溶劑、酸或堿性溶液等進(jìn)行浸漬處理。此 外，該液晶顯示元件在通過濺射形成線路電極層時(shí)，元件表面會(huì)局部暴露在高溫下。因此， 為了防止由于采用該溶劑等進(jìn)行的浸漬處理或高溫處理使液晶顯示元件惡化或損傷，需要 在元件的表面設(shè)置對(duì)這些處理具有耐受性的保護(hù)膜。此外，在液晶顯示元件等中，設(shè)置通常 設(shè)置為層狀的、用于使線路間絕緣的層間絕緣膜和用于使兩張基板間的間隔(盒間隔)保 持穩(wěn)定的隔片。作為該保護(hù)膜、層間絕緣膜和隔片等(以下也稱為保護(hù)膜等)的材料，由于用于獲 得所需圖案形狀的工序數(shù)量少，且具有足夠的平坦性為優(yōu)選，因此廣泛使用放射線敏感性 組合物。該保護(hù)膜等的材料要求相對(duì)于需要形成該保護(hù)膜等的基板或底層，進(jìn)一步在各層 等上形成的層，在固化時(shí)的粘附性高，具有透明性，涂布性、圖案形成性優(yōu)異等性能。作為用 于形成滿足這些特性的保護(hù)膜等的材料，主要使用丙烯酸酯類樹脂。與之相對(duì)，嘗試了使用 比丙烯酸酯類樹脂耐熱性和透明性優(yōu)異的聚硅氧烷類材料作為放射線敏感性組合物的成 分(參見日本特開2000-1648號(hào)公報(bào)、日本特開2006-178436號(hào)公報(bào))。此外，聚硅氧烷類 材料由于折射率比丙烯酸酯類樹脂低，因此在例如ITO (銦錫氧化物)透明導(dǎo)電膜圖案等其 他層的表面上涂布時(shí)，折射率差變大，因此存在容易看見ITO圖案，液晶顯示畫面的目視確 認(rèn)性降低的問題。此外，該放射線敏感性組合物從例如層間絕緣膜中接觸孔形成優(yōu)先性的觀點(diǎn)出 發(fā)，優(yōu)選使用正型放射線敏感性固化性組合物。此外，作為聚硅氧烷類材料中的正型放射線 敏感性組合物，由于圖案形成性高，因此作為放射線敏感性酸產(chǎn)生劑，通常使用采用醌二疊 氮化合物的組合物，但使用該醌二疊氮化合物存在成本高的要素。此外，作為半導(dǎo)體密封用材料、半導(dǎo)體底層填料用材料、半導(dǎo)體保護(hù)膜用材料、半 導(dǎo)體層間絕緣膜用材料、電路基材用材料、平坦化材料、電路基板保護(hù)用材料、抗蝕劑用材 料、抗鍍敷劑用材料、液晶密封用材料或發(fā)光二極管元件密封用材料，也不是能短時(shí)間獲得 耐熱性、粘附性和電絕緣性等優(yōu)異的固化膜的放射線敏感性組合物(參照us 5385955A)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2000-1648號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-178436號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 美國(guó)專利5385955A
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)是基于該情形做出的，其目的在于提供一種具有形成目前的保護(hù)膜等的材 料所必須的圖案形成性，所得固化物除了透明性和粘附性以外，還具有高折射率，且具有正 型放射線敏感性的聚硅氧烷類放射線敏感性組合物，由該組合物形成的固化物和它們的形 成方法。此外，其目的還在于提供一種通過用作半導(dǎo)體密封用材料、半導(dǎo)體底層填料用材 料、半導(dǎo)體保護(hù)膜用材料、半導(dǎo)體層間絕緣膜用材料、電路基材用材料、平坦化材料、電路基 板保護(hù)用材料、抗蝕劑用材料、抗鍍敷劑用材料、液晶密封用材料或發(fā)光二極管元件密封用 材料等，從而能在短時(shí)間內(nèi)獲得耐熱性、粘附性和電絕緣性等優(yōu)異的固化膜的放射線敏感 性組合物。用于解決上述課題的專利技術(shù)為一種放射線敏感性組合物，其含有硅氧烷聚合物、金屬氧化物顆粒、和放射線敏感性酸產(chǎn)生劑或放射線敏感性堿產(chǎn)生劑，上述金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構(gòu)成的群組中的至 少一種金屬的氧化物顆粒。該放射線敏感性組合物通過含有上述各成分，從而具有高的圖案形成性，所得固 化物具有高的透明性和粘附性。尤其是根據(jù)該放射線敏感性組合物，通過含有上述種類的 金屬氧化物顆粒作為成分，從而能提高所得固化物的折射率。此外，該放射線敏感性組 合物通過使用上述氧化物顆粒作為成分的金屬氧化物顆粒，從而能體現(xiàn)圖案形成性高 的正型放射線敏感特性。硅氧烷聚合物可以是下式(1)表示的水解性硅烷化合物的水解縮合物。(R1)n-Si-(OR2)4^n (1)在式(1)中，R1各自獨(dú)立地為氫或碳原子數(shù)為1 20的非水解性有機(jī)基團(tuán)。R2各 自獨(dú)立地為氫、碳原子數(shù)為1 6的烷基、碳原子數(shù)為1 6的酰基或碳原子數(shù)為6 15 的芳基。η為0 3的整數(shù)。硅氧烷聚合物通過為上式(1)表示的水解性硅烷化合物的水解縮合物，從而 該放射線敏感性組合物具有高的涂布性、放射線敏感度和圖案形成性，所得固化物能具有 更高的透明性和粘附性。該放射線敏感性組合物可以進(jìn)一步含有分散劑。該放射線敏感性組合物通過 含有分散劑，從而能均勻分散成分的金屬氧化物顆粒，從而能進(jìn)一步提高涂布性， 所得固化膜的粘附性能進(jìn)一步提高，且折射率變得均勻化。分散劑優(yōu)選為下式(2)、(3)或⑷表示的化合物、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯 烷基苯基醚、烷基葡糖苷、聚氧乙烯脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧 乙烯脫水山梨糖醇脂肪酸酯或脂肪酸鏈烷醇酰胺。權(quán)利要求1.一種正型放射線敏感性組合物，其含有硅氧烷聚合物、金屬氧化物顆粒、和放射線敏感性酸產(chǎn)生劑或放射線敏感性堿產(chǎn)生劑，上述金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構(gòu)成的群組中的至少一 種金屬的氧化物顆粒。2.如權(quán)利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其中，硅氧烷聚合物是下式(1) 表示的水解性硅烷化合物的水解縮合物，3.如權(quán)利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其中，進(jìn)一步含有分散劑。4.如權(quán)利要求3所述的正型放射線敏感性組合物，其中，分散劑為下式O)、(3) 或(4)表示的化合物、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、烷基葡糖苷、聚氧乙烯脂肪 酸酯、蔗糖酸脂肪酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇脂肪酸酯或脂肪酸 鏈烷醇酰胺，5.如權(quán)利要求1 4任一項(xiàng)所述的放射線敏感性組合物，其用于形成固化膜。6.一種固化膜的形成方法，其包括(1)在基板上形成權(quán)利要求5所述放射線敏感性組合物涂膜的工序、(2)在工序(1)中形成的涂膜的至少一部分中照射放射線的工序、(3)使在工序O)中照射了放射線的涂膜顯影的工序、和(4)加熱在工序(3)中顯影的涂膜的工序。7.一種固化膜，其由權(quán)利要求5所述的放射線敏感性組合物形成。全文摘要本專利技術(shù)涉及一種。本專利技術(shù)的目的是提供一種具有高的涂布性和圖案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，還具有高的折射率，且具有正型的放射線敏感特性的聚硅氧烷類的放射線敏感性組合物，由該組合物形成的圖案化的固化膜及其形成方法。本專利技術(shù)為一種放射線敏感性組合物，其含有硅氧烷聚合物、金屬氧化物顆粒、和放射線敏感性酸產(chǎn)生劑或放射線敏感性堿產(chǎn)生劑，上述金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構(gòu)成的群組中的至少一種金屬的氧化物顆粒。該放射線敏感性組合物優(yōu)選還含有分散劑。文檔編號(hào)G03F7/00GK102147570SQ20101061401公開日2011年8月10日 申請(qǐng)日期2010年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月18日專利技術(shù)者上田二朗, 鈴木康伸 申請(qǐng)人:Jsr株式會(huì)社本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
１．一種正型放射線敏感性組合物，其含有：［Ａ］硅氧烷聚合物、［Ｂ］金屬氧化物顆粒、和［Ｃ］放射線敏感性酸產(chǎn)生劑或放射線敏感性堿產(chǎn)生劑，上述［Ｂ］金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構(gòu)成的群組中的至少一種金屬的氧化物顆粒。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：鈴木康伸，上田二朗，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：JSR株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：JP