真空繼電器制造技術

本發明專利技術公開了一種真空繼電器，包括陶瓷真空室和密封間隔穿設在真空室的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿、常閉接觸點桿和公共接觸點桿，其中公共接觸點桿朝向真空室內的一端上設有接觸片，所述接觸片上的一對接觸臂為背向公共接觸點桿彎折成型，陶瓷真空室呈開口圓桶狀，所述陶瓷真空室的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺，這樣就增加了陶瓷真空室的對地絕緣距離，提高了產品的耐壓水平。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種可自動控制斷續的電子元件，尤其是一種真空繼電器。
技術介紹
目前，市場上現有的陶瓷真空繼電器由真空室、傳動部分、線圈等組成，繼電器的耐壓除了取決于真空室內觸點間隙外，還取決于真空室外的對地絕緣距離，現有的真空室， 其形成磁管均為圓柱形、方柱形等形狀，這類繼電器其內空間體積就決定了其對地絕緣距離，即限制了繼電器的耐壓程度，而真空室內接觸片因其尺寸范圍有限而限制了通過電流能力；另一方面，市面上現有的常規陶瓷真空繼電器的常開、常閉接觸點分布一致，在用戶需要成對安裝時，其接線交叉使接線所占額外空間較大，增大了安裝空間且不便于安裝。
技術實現思路
為了克服上述缺陷，本專利技術提供了一種真空繼電器，在內空間體積一定的情況下耐壓更高、通過電流能力更強。本專利技術為了解決其技術問題所采用的技術方案是一種真空繼電器，包括陶瓷真空室和密封間隔穿設在真空室的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿、常閉接觸點桿和公共接觸點桿，其中公共接觸點桿朝向真空室內的一端上設有接觸片，所述接觸片上的一對接觸臂為背向公共接觸點桿彎折成型，陶瓷真空室呈開口圓桶狀，所述陶瓷真空室的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺，這樣就增加了陶瓷真空室的對地絕緣距離，提高了產品的耐壓水平。作為本專利技術的進一步改進，所述凸臺呈多級環形臺階狀，各級環形臺階的臺階面寬度沿真空室的側壁面自真空室的開口處朝向真空室的封閉面逐個徑向縮小。作為本專利技術的進一步改進，所述凸臺呈圓環狀。作為本專利技術的進一步改進，所述凸臺與陶瓷真空室的開口處端緣之間呈倒角過渡。作為本專利技術的進一步改進，所述接觸片上的接觸臂的兩側緣于接觸臂彎折處分別向內開設形成缺口，這樣可防止接觸片的彎折處發生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內盡可能加寬，以達到最大的通過電流。作為本專利技術的進一步改進，所述陶瓷真空室穿設的常開接觸點桿、常閉接觸點桿和公共接觸點桿的布局與常規真空繼電器接觸點桿布局一致(常規真空繼電器接觸點桿布局為本領域技術人員所公知的結構，本處不再詳細敘述出其具體結構)。作為本專利技術的進一步改進，所述陶瓷真空室穿設的常開接觸點桿和常閉接觸點桿相對常規真空繼電器接觸點桿布局位置互換(常規真空繼電器接觸點桿布局為本領域技術人員所公知的結構，本處不再詳細敘述出其具體結構)。常開接觸點桿和常閉接觸點桿的位置互換，形成接觸點反向分布的真空繼電器，與接觸點正常分布的真空繼電器配合，可方便用戶成對安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間。具體實施時可適當增大接觸點桿的徑向截面直徑，以增加真空室外接觸點間的絕緣距離，進一步增加繼電器的耐壓性能。本專利技術的有益效果是本專利技術的陶瓷真空室的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺，這樣就增加了陶瓷真空室的對地絕緣距離，提高了產品的耐壓水平；所采用的接觸片上的接觸臂的兩側緣于接觸臂彎折處分別向內開設形成缺口，這樣可防止接觸片的彎折處發生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內盡可能加寬，以達到最大的通過電流；同時設計出接觸點反向分布的真空繼電器與接觸點正常分布的真空繼電器配合成對使用，可方便用戶成對安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間。附圖說明圖1為本專利技術所對比的常規真空繼電器的俯視圖；圖2為本專利技術中所述接觸點反向分布的真空繼電器的俯視圖；圖3為常規真空繼電器成對安裝的接線示意圖；圖4為本專利技術所述接觸點反向分布的真空繼電器與接觸點正常分布的真空繼電器配合成對安裝的接線示意圖；圖5為本專利技術的外觀示意圖。具體實施例方式實施例一種真空繼電器，包括陶瓷真空室1和密封間隔穿設在真空室1的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿21、常閉接觸點桿22和公共接觸點桿23，其中公共接觸點桿23朝向真空室內的一端上設有接觸片4，所述接觸片4上的一對接觸臂40為背向公共接觸點桿23彎折成型，陶瓷真空室1呈開口圓桶狀，所述陶瓷真空室 1的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺3，這樣就增加了陶瓷真空室的對地絕緣距離， 提高了產品的耐壓水平。所述凸臺3呈多級環形臺階狀，各級環形臺階的臺階面寬度沿真空室1的側壁面自真空室1的開口處朝向真空室1的封閉面逐個徑向縮小。所述凸臺3呈圓環狀。所述凸臺3與陶瓷真空室1的開口處端緣之間呈倒角過渡。所述接觸片4上的接觸臂40的兩側緣于接觸臂40彎折處分別向內開設形成缺口 5，這樣可防止接觸片4的彎折處發生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片4的接觸臂在有限的尺寸范圍內盡可能加寬，以達到最大的通過電流。所述陶瓷真空室1穿設的常開接觸點桿21、常閉接觸點桿22和公共接觸點桿23 的布局與常規真空繼電器接觸點桿布局一致(常規真空繼電器接觸點桿布局為本領域技術人員所公知的結構，本處不再詳細敘述出其具體結構)。所述陶瓷真空室1穿設的常開接觸點桿21和常閉接觸點桿22相對常規真空繼電器接觸點桿布局位置互換(常規真空繼電器接觸點桿布局為本領域技術人員所公知的結構，本處不再詳細敘述出其具體結構)。常開接觸點桿21和常閉接觸點桿22的位置互換， 形成接觸點反向分布的真空繼電器(見圖2)，與接觸點正常分布的真空繼電器(見圖1)配合，可方便用戶成對安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間 (見圖3、4)。 具體實施時可適當增大接觸點桿的徑向截面直徑，以增加真空室外接觸點間的絕緣距離，進一步增加繼電器的耐壓性能。權利要求1.一種真空繼電器，包括陶瓷真空室(1)和密封間隔穿設在真空室(1)的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿(21)、常閉接觸點桿0 和公共接觸點桿(23)，其中公共接觸點桿朝向真空室內的一端上設有接觸片G)，所述接觸片(4) 上的一對接觸臂GO)為背向公共接觸點桿03)彎折成型，陶瓷真空室(1)呈開口圓桶狀， 其特征在于所述陶瓷真空室(1)的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺(3)。2.根據權利要求1所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(3)呈多級環形臺階狀， 各級環形臺階的臺階面寬度沿真空室(1)的側壁面自真空室(1)的開口處朝向真空室(1) 的封閉面逐個徑向縮小。3.根據權利要求1所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(3)呈圓環狀。4.根據權利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(3)與陶瓷真空室(1)的開口處端緣之間呈倒角過渡。5.根據權利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述接觸片(4)上的接觸臂GO)的兩側緣于接觸臂GO)彎折處分別向內開設形成缺口(5)。6.根據權利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿設的常開接觸點桿(21)、常閉接觸點桿02)和公共接觸點桿03)的布局與常規真空繼電器接觸點桿布局一致。7.根據權利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿設的常開接觸點桿和常閉接觸點桿0 相對常規真空繼電器接觸點桿布局位置互換。全文摘要本專利技術公開了一種真空繼電器，包括陶瓷真空室和密封間隔穿設在真空室的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿、常閉接觸點桿和公共接觸點桿，其中公共接觸點桿朝向真空室內的一端上設有接觸片，所述本文檔來自技高網...

【技術保護點】
１．一種真空繼電器，包括陶瓷真空室（１）和密封間隔穿設在真空室（１）的側壁上的三個接觸點桿，該三個接觸點桿分別為常開接觸點桿（２１）、常閉接觸點桿（２２）和公共接觸點桿（２３），其中公共接觸點桿（２３）朝向真空室內的一端上設有接觸片（４），所述接觸片（４）上的一對接觸臂（４０）為背向公共接觸點桿（２３）彎折成型，陶瓷真空室（１）呈開口圓桶狀，其特征在于：所述陶瓷真空室（１）的開口處側壁面向外擴張形成有一圈凸臺（３）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：賈冰冰，
申請(專利權)人：昆山國力真空電器有限公司，
類型：發明
國別省市：32