本發明專利技術提供了平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，采用大面積金屬片作為基片，基片放置在由玻璃板或金屬板制成的載片板上，在臥式鍍膜裝置上由減速機經過齒型帶或鏈條拖動的轉動輥軸系統來傳送載片板，隨著鍍膜裝置真空閥門的啟閉，載片板分批進入臥式鍍膜裝置，在連續鍍膜室中，基片經過按照膜系配置的多個濺射模塊，基片從靶位下經過時依次沉積太陽能吸熱功能膜中的紅外光反射層/吸熱功能層/減反射層等膜層。本發明專利技術還提供了平板太陽能吸熱鍍膜板的生產裝置，包括載片板、前真空鎖定室、前保持室、連續鍍膜室、后保持室和后鎖定室。本發明專利技術生產的吸熱鍍膜板具有吸收率高、發射率低的優點。本發明專利技術生產效率高，成本低。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及太陽能光熱利用領域，特別涉及的是平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法及生產裝置。
技術介紹
太陽能資源是21世紀的新能源，太陽能制冷、太陽能熱水器、太陽能發電、海水凈化等都是重要的應用領域。選擇性吸熱薄膜具有可見光_近紅外光區高吸收率、紅外光區高反射率的性能優點，其生產方法及裝置成為太陽能利用技術的重要研究方向。目前所采用太陽能選擇性吸熱薄膜的生產方法有以下幾種類型，且都具有相應的局限性玻璃管真空管型將直徑不同的兩個玻璃管的兩端封接在一起，兩管之間的空間形成封接時抽成真空，內管的外壁沉積有太陽能吸熱涂層，吸收太能輻射能而使溫度升高， 內部通水帶走熱能，完成光熱轉換過程。其不足之處在于碰撞易碎，斷水時干燒易炸管，同時在建筑節能一體化時不宜作為建筑外壁、房頂。普通平板吸熱涂層采用電鍍、刷涂等方式在金屬基片上形成吸熱涂層，其不足之處在于外紅光發射率高，太陽能吸收率低，太陽能利用效率低，同時這種生產方式對環境有一定污染。電子槍蒸發和離子源輔助的方式沉積太陽能吸熱涂層，這種方式具有沉積速率高的優勢。其缺點是單個電子槍所獲得的鍍材的蒸發云不足以覆蓋基片的幅寬，需兩支電子槍合并使用才能滿足寬度上的均勻性，同時由于沉積速率高，膜層厚度控制困難，對于沉積金屬層厚度僅為IOnm左右的介質-金屬干涉膜組類型的太陽吸熱膜層，光學厚度精度在2 至3nm左右時的控制更難實現。已有的連續鍍膜裝置如中國專利200420077693. 6所述，是一種對圓形玻璃管鍍膜，整個生產線從出口到進口到連續鍍膜室如其權利要求1所述“構成閉環”，工件還要自轉，無法生產大面積(單張鍍膜板的長度方向大于600毫米、寬度方向大于300毫米)的平板太陽能吸熱鍍膜板。
技術實現思路
鑒于以上原因，本專利技術的目的是為了克服以上不足，提供生產效率高的、膜層厚度控制方便、工藝實現靈活、生產大面積(單張鍍膜板的長度方向大于600毫米、寬度方向大于300毫米)的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法。本專利技術的另一個目的是提供一種對環境污染程度小的生產平板太陽能吸熱鍍膜板的生產裝置。本專利技術的目的是這樣來實現的本專利技術平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，以大面積金屬片作為太陽能鍍膜板的基片，一片或多片基片放置在由玻璃板或金屬板制成的載片板上，載片板以斷續方式被轉動輥軸傳送快速進入和通過臥式鍍膜裝置中的前真空鎖定室、前保持室后，載片板一塊接一塊的、連續勻速依次進入到至少有3組磁控濺射靶與相應的濺射腔室的連續鍍膜室中， 載片板在連續鍍膜室內由減速機拖動的水平布置轉動輥軸一塊接一塊的、連續勻速的傳送，基片經過磁控濺射靶與相應的濺射腔室，在基片上依次沉積由金屬膜組成的紅外光波反射層/至少一組由金屬膜或金屬介質復合膜與介質膜組成的干涉膜堆/減反射層，或者在基片上依次沉積由金屬膜組成的紅外光波反射層/吸熱半導體材料膜或金屬介質復合材料膜/減反射層，從而在基片上形成太陽能吸收功能膜，連續鍍膜室后有后保持室和后真空鎖定室，基片的出片與進片方式相同，也是以斷續方式被轉動輥軸傳送快速退出和通過后保持室和后真空鎖定室，進片、鍍膜和出片的具體方法為外界大氣與前真空鎖定室之間、前真空鎖定室與前保持室之間、前保持室與連續鍍膜室之間、連續鍍膜室與后保持室之間、后保持室與后真空鎖定室之間、后真空鎖定室與外界大氣之間設有真空閥門，當前、后真空鎖定室和前、后保持室的真空度達到連續鍍膜室的鍍膜工作真空度I-QXlO-1Pa,各室與室之間的真空閥門開啟讓載片板分批次按生產節奏進入連續鍍膜室或退出連續鍍膜室， 前、后真空鎖定室與大氣之間的真空閥門開閉一次進出載片板一塊或幾塊為一批為一個生產節奏，是斷續進出片方式，而在連續鍍膜室中載片板一塊或幾塊為一批均為連續走片方式，基片上形成太陽能吸收功能膜后，被轉動輥軸傳送快速依次從后保持室和后真空鎖定室以斷續方式快速出片，生產出平板太陽能吸熱鍍膜板。采用長度方向大于600毫米、寬度方向大于300毫米的大面積、單張片金屬作為作為鍍膜基片，在水平布置的臥式鍍膜裝置上由減速機經過齒型帶或鏈條拖動的轉動輥軸系統來傳送能放置一片或多片金屬基片的由玻璃板或金屬板制成的載片板，隨著鍍膜裝置真空閥門的開啟，載片板一塊或幾塊為一批為一個生產節奏進入臥式鍍膜裝置，鍍膜裝置由真空閥相連依次有前真空鎖定室、前保持室、連續鍍膜室、后保持室和后真空鎖定室，在連續鍍膜室，基片經過按照膜系配置的多個濺射模塊，各濺射模塊配備獨立的充氣系統，相鄰濺射模塊之間設置隔腔室，基片從靶位下經過時沉積的太陽能吸收功能膜層從基片向外依次為紅外光波反射層(金屬膜)/至少一組由金屬膜或金屬介質復合膜與介質膜組成的干涉膜堆/減反射層(介質膜)，或者從基片向外依次為紅外光波反射層(金屬膜)/吸熱半導體材料膜或金屬介質復合材料膜/減反射層(介質膜)，連續鍍膜室至少有3組磁控濺射靶與相應的濺射腔室，基片進入連續鍍膜室由減速機拖動的水平布置轉動輥軸(減速機與輥軸經過齒型帶或鏈條連接)傳送，一片接一片的、連續勻速的經過磁控濺射靶與相應的濺射腔室，沉積太陽能吸收功能膜層，生產的吸熱鍍膜板具有吸收率高，發射率低優點，且生產效率高，成本低。上述的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，在前保持室與連續鍍膜室之間、連續鍍膜室與后保持室之間，載片板是按生產節奏的斷續快速的一塊接一塊或幾塊為一批的進片或出片方式，變為載片板呈一塊接一塊的連續勻速行進方式，也即在前保持室與連續鍍膜室之間、連續鍍膜室與后保持室之間有一段緩沖區(或稱緩沖室)，使載片板按生產節奏的斷續快速的進片方式在前緩沖區中變為呈一塊接一塊的連續勻速行進方式進入連續鍍膜室，基片上形成太陽能吸收功能膜后，載片板呈一塊接一塊的連續勻速行進方式退出連續鍍膜室進入后緩沖區中，使載片板在后緩沖區中形成按生產節奏的斷續快速的一塊接一塊或幾塊為一批的出片方式。上述的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，載片板與載片板之間的距離為20毫米至500毫米。上述的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，連續鍍膜室至少3組磁控濺射靶及相應的濺射腔室之間由隔板分割而形成各自獨立的腔室，各自獨立的腔室有獨立的磁控濺射電源及工藝充氣控制單元系統，每組磁控濺射靶可以分別單獨控制電源功率和鍍膜所需的工藝氣體。上述的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，磁控濺射靶及相應的濺射腔室它們之間至少有一個真空抽氣室做為隔離腔室，以保持靶位、腔室之間不竄氣，避免各腔室之間互相干擾工藝氣體和真空度。有2至3個抽氣隔離腔室，加上室與室之間是剛好能通過基片的狹縫結構，靶位、腔室之間不竄氣，可使真空度差一個數量級，避免各腔室工藝氣氛和真空度之間互相干擾。濺射靶及相應的濺射腔室不僅有充氣系統，還單獨配有真空抽氣系統， 采用分子泵和機械泵抽氣機組，可使各自保持自己工藝所需的真空度和工藝氣氛，而不受其它濺射靶真空度和工藝氣氛的影響。氮和/或氧化合物(介質膜)或金屬介質復合膜或者吸熱半導體材料膜，通過控制工藝氣體N2和/或O2的通入量和比例來控制化合物薄膜材料中的金屬元素以及氧和/或氮的化學計量比。上述的平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，至少3組磁控濺射靶及相應的濺射腔室每組單獨的靶的類型是直流平面靶、直流柱形靶、中頻交流平面靶、中頻交流柱形靶中的至少一種。上述的平板太陽能吸熱本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．平板太陽能吸熱鍍膜板的生產方法，其特征在于以大面積金屬片作為太陽能鍍膜板的基片，一片或多片基片放置在由玻璃板或金屬板制成的載片板上，載片板以斷續方式被轉動輥軸傳送快速進入和通過臥式鍍膜裝置中的前真空鎖定室、前保持室后，載片板一塊接一塊的、連續勻速依次進入到至少有３組磁控濺射靶與相應的濺射腔室的連續鍍膜室中，載片板在連續鍍膜室內由減速機拖動的水平布置轉動輥軸一塊接一塊的、連續勻速的傳送，基片經過磁控濺射靶與相應的濺射腔室，在基片上依次沉積由金屬膜組成的紅外光波反射層／至少一組由金屬膜或金屬介質復合膜與介質膜組成的干涉膜堆／減反射層，或者在基片上依次沉積由金屬膜組成的紅外光波反射層／吸熱半導體材料膜或金屬介質復合材料膜／減反射層，從而在基片上形成太陽能吸收功能膜，連續鍍膜室后有后保持室和后真空鎖定室，基片的出片與進片方式相同，也是以斷續方式被轉動輥軸傳送快速退出和通過后保持室和后真空鎖定室，進片、鍍膜和出片的具體方法為：外界大氣與前真空鎖定室之間、前真空鎖定室與前保持室之間、前保持室與連續鍍膜室之間、連續鍍膜室與后保持室之間、后保持室與后真空鎖定室之間、后真空鎖定室與外界大氣之間設有真空閥門，當前、后真空鎖定室和前、后保持室的真空度達到連續鍍膜室的鍍膜工作真空度１－９×１０－１Ｐａ，各室與室之間的真空閥門開啟讓載片板分批次按生產節奏進入連續鍍膜室或退出連續鍍膜室，前、后真空鎖定室與大氣之間的真空閥門開閉一次進出載片板一塊或幾塊為一批為一個生產節奏，是斷續進出片方式，而在連續鍍膜室中載片板一塊或幾塊為一批均為連續走片方式，基片上形成太陽能吸收功能膜后，被轉動輥軸傳送快速依次從后保持室和后真空鎖定室以斷續方式快速出片，生產出平板太陽能吸熱鍍膜板。...
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：甘國工，
申請(專利權)人：甘國工，
類型：發明
國別省市：90
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