本實用新型專利技術涉及一種斜二測幾何畫板，由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體，所述板面即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度，鏤空幾何圖形與板面底線形成相應的平面45度位置關系。該結構設計應用于立體作圖中斜二測畫法的便利使用。使用便利，作圖快，且作圖精準。該結構中鏤空幾何圖形與畫板底線的位置配合，使其符合斜二測畫法的繪圖步驟與要求，有效節約了時間，且減少了人為原因造成的作圖誤差。畫板對稱的設計可使平面圖形的斜二測作圖以或左或右的兩種立體圖像呈現。為充分利用畫板面積，在主體部分的空當處加入了量角器，為幾何作圖增加了更多功能。本實用新型專利技術結構簡單合理，使用方便、安全，成本低廉，適應范圍寬。（*該技術在2020年保護過期，可自由使用*）
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種文具附件，特別涉及一種斜二測幾何畫板。
技術介紹
斜二測畫法從右/左上角往下看到的幾何圖形的的直觀圖的畫法，叫做斜二測畫法。每個垂直的夾角都應是135度，90度及45度，看不見的部分用虛線表示。斜二測畫法建立適當的平面直角坐標系建立V軸與Y ‘軸成45°的坐標系平行于X軸的線段仍平行于V軸，長度不變平行于Y軸的線段仍平行于Y ‘軸但長度減半對于立體也就是三維圖形也有將X、Y軸均縮小為二分之根號二倍，交角45度或 135度，Z軸的長度不變。人們平時進行斜二測作圖時，需要針對每個點先用量角器做出與點對應的Y’軸， 再用刻度尺將已確定的Y軸點的Y’軸對應點依次描出，以出現量角的偏差，且逐個點依次使用量角器和刻度直尺操作繁雜，以至于耗時費力，還有很大的可能出現誤差。因此，不需要量角器的使用，直接地確定對應點，減少操作過程成為了該技術的核心專利技術點。目前，雖然已有畫板能夠根據幾何模型畫出斜二測圖形，但還存在單模型單圖形的局限性，不能夠解決普遍的廣泛的圖形便捷的斜二測畫法問題，適應范圍較窄。
技術實現思路
本專利技術的目的在于克服上述不足之處，提供一種結構簡單輕巧、實用性強、應用范圍廣的斜二測幾何畫板。為實現上述目的本專利技術所采用的技術方案是一種斜二測幾何畫板，其特征在于由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體，所述板面即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度，鏤空幾何圖形與所述板面底線形成相應的平面45度位置關系。本專利技術的有益效果是該結構設計中透明的幾何畫板，最主要是為了使畫板底線能夠透過畫板與平面直角坐標系相重合。然后鏤空幾何圖形與畫板底線形成45度的平面位置關系，并在鏤空的邊緣配上刻度尺，從而達到了無需量角器的使用，直接根據兩個刻量數2 1的關系定點的簡化作圖過程的目的。這正是區別于之前的定模型畫板的根本不同之處。該結構中的對稱設計，只需要倒轉畫板，就能夠達到斜左或斜右的作圖效果，以滿足不同的需要。另加量角器功能，以充分利用空間并為其他制圖提供了方便，且本尺支持刻度直尺功能，所以本尺幾乎滿足了基本作圖的需要，便于日常使用。本專利技術結構簡單，設計合理，造型輕巧，使用方便，成本低廉，適應范圍寬。該斜二測幾何畫板使使用者感到省時、省力，方便快捷，應用廣泛。廣泛的適用性、實用性及操作的簡單性、安全性既是本技術方案的顯著特征，也必將成為產品市場化的優勢。本專利技術將真正克服學生上課作圖慢的問題，達到提高人們做立體直觀圖的效率的目的，大大減少了作圖的過程中原來必需的瑣碎過程，從而便利了制圖這一枯燥的過程。附圖說明圖1是本專利技術結構示意圖。圖中1板面，2鏤空幾何圖形，3畫板底線及刻度線，4量角器。具體實施方式以下結合附圖及較佳實施例，對依據本專利技術提供的具體實施方式、結構、特征詳述如下如圖1所示，一種斜二測幾何畫板，由板面1、鏤空幾何圖形2和板面中的畫板底線及刻度線3配合形成一體，所述板面1即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形2具有一定的寬度，鏤空幾何圖形2與所述畫板底線及刻度線3形成相應的平面45度位置關系。其特征在于該結構設計中透明的幾何畫板，最主要是為了使畫板底線及刻度線3能夠透過畫板與平面直角坐標系相重合。然后鏤空幾何圖形2與畫板底線及刻度線3形成45度的平面位置關系，并在鏤空幾何圖形2的邊緣配上刻度尺，從而達到了無需量角器的使用，直接根據兩個刻量數21的關系定點的簡化作圖過程的目的。這正是區別于之前的定模型畫板的根本不同之處。該結構中的對稱設計，只需要倒轉畫板，就能夠達到斜左或斜右的作圖效果， 以滿足不同的需要。另加量角器4功能，以充分利用空間并為其他制圖提供了方便，且本尺支持刻度直尺功能，所以本尺幾乎滿足了基本作圖的需要，便于日常使用。使用時只需依次使用本畫板確定出特殊點，然后依次相連即可得斜二測畫法圖像。本專利技術適應范圍寬，使用非常簡單，省時省力，精準度高的效果非常顯著。上述參照實施例對斜二測幾何畫板進行的詳細描述，是說明性的而不是限定性的，可根據需要制成各種不同的規格，因此在不脫離本專利技術總體構思下的變化和修改，應屬本專利技術的保護范圍之內。權利要求1. 一種斜二測幾何畫板，其特征在于由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體，所述板面即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度，鏤空幾何圖形與所述板面底線形成相應的平面45度位置關系。專利摘要本技術涉及一種斜二測幾何畫板，由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體，所述板面即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度，鏤空幾何圖形與板面底線形成相應的平面45度位置關系。該結構設計應用于立體作圖中斜二測畫法的便利使用。使用便利，作圖快，且作圖精準。該結構中鏤空幾何圖形與畫板底線的位置配合，使其符合斜二測畫法的繪圖步驟與要求，有效節約了時間，且減少了人為原因造成的作圖誤差。畫板對稱的設計可使平面圖形的斜二測作圖以或左或右的兩種立體圖像呈現。為充分利用畫板面積，在主體部分的空當處加入了量角器，為幾何作圖增加了更多功能。本技術結構簡單合理，使用方便、安全，成本低廉，適應范圍寬。文檔編號B43L13/20GK202038063SQ20102060936公開日2011年11月16日 申請日期2010年11月16日 優先權日2010年11月16日專利技術者王旭 申請人:王旭本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．一種斜二測幾何畫板，其特征在于由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體，所述板面即透明塑料板；所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度，鏤空幾何圖形與所述板面底線形成相應的平面４５度位置關系。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：王旭，
申請(專利權)人：王旭，
類型：實用新型
國別省市：12
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