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    一種用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):7015484 閱讀:333 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    一種用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池。該氣體吸收池包括池體(1)、兩個(gè)平面反射鏡和氣室。所述的氣室位于兩個(gè)平面反射鏡之間,以多次反射光傳輸路徑為主軸。池體(1)上覆蓋平面蓋板(4)。所述的氣體吸收池的氣室的內(nèi)壁開(kāi)有多個(gè)光學(xué)窗口,所述的光學(xué)窗口由兩個(gè)平面反射鏡暴露于氣體樣品的光反射表面所形成。所述的氣體吸收池的氣室包括一個(gè)樣品流入口和一個(gè)樣品流出口。光束在兩個(gè)所述的平面反射鏡之間的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)一次以上次數(shù)的反射傳輸,氣體樣品沿多次反射光傳輸路徑流動(dòng)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種利用吸收光譜測(cè)定氣體成分的氣體吸收池。
    技術(shù)介紹
    目前在很多領(lǐng)域的應(yīng)用中需要利用吸收光譜法檢測(cè)ppm和ppb濃度水平的微量氣體,為了提高吸收光譜技術(shù)對(duì)低濃度氣體的檢測(cè)靈敏度,增加光束穿過(guò)氣體樣品的長(zhǎng)度是一種有效的方法。顯然,單純將光源與探測(cè)器位置遠(yuǎn)離,使光束穿越一個(gè)非常直長(zhǎng)的透射型氣體樣品池,會(huì)使裝置笨重、準(zhǔn)直復(fù)雜、溫度穩(wěn)定性和抗震性能差。通常采用“折疊”光程, 即使光束在反射鏡間多次反射來(lái)實(shí)現(xiàn)在一個(gè)較小的空間區(qū)域內(nèi)的有效光程延長(zhǎng)。比如,比較常見(jiàn)的是White型氣體吸收池和Herriott型氣體吸收池,這兩種氣體吸收池都采用球面凹面反射鏡在較小的氣室體積內(nèi)實(shí)現(xiàn)光路的多次反射。同樣也有利用平面反射鏡實(shí)現(xiàn)的方式,比如,在美國(guó)專利US3524066中描述了在圓柱腔體的兩端安裝兩個(gè)平面反射鏡來(lái)實(shí)現(xiàn)折疊光束的氣體檢測(cè);在專利CN1283789中,描述了由多個(gè)反射鏡相連組成的多邊形的平面多路徑氣體吸收池。總體來(lái)看,目前利用反射鏡增加光程的氣體吸收池還都存在一個(gè)比較大的氣室, 但氣體進(jìn)出口均比腔室的橫截面積小得多。這不僅很容易引起氣體湍流和環(huán)流,對(duì)腔室內(nèi)氣體的濃度有較大影響,同時(shí)由于需較長(zhǎng)時(shí)間才能完成氣室內(nèi)氣體樣品的更新,也不利于連續(xù)變化的氣體樣品的實(shí)時(shí)快速檢測(cè)。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),提出一種用于吸收光譜測(cè)定氣體成分的氣體吸收池。本專利技術(shù)通過(guò)多次反射延長(zhǎng)的有效光程和折線型氣室結(jié)合起來(lái),以提高吸收光譜技術(shù)對(duì)低濃度、連續(xù)變化氣體樣品的檢測(cè)靈敏度。本專利技術(shù)的氣體吸收池包括兩個(gè)反射鏡和位于所述兩個(gè)反射鏡之間的區(qū)域內(nèi)的折線型氣室,光束在這兩個(gè)反射鏡之間的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)一次以上次數(shù)的反射傳輸,折線型氣室以上述多次反射光傳輸路徑為主軸,使氣體樣品只能沿多次反射光傳輸路徑流動(dòng)。所述的反射鏡可以是平面反射鏡。較好的,平面反射鏡是平行放置的。所述的氣體吸收池的氣室包括一個(gè)樣品流入口和一個(gè)樣品流出口。所述的氣體吸收池的氣室的內(nèi)壁開(kāi)有多個(gè)光學(xué)窗口,所述的光學(xué)窗口由兩個(gè)所述反射鏡暴露于氣體樣品的光反射表面所形成。在本專利技術(shù)氣體吸收池中,氣體樣品通過(guò)樣品流入口流入樣品池,沿所述折線型氣室依次流經(jīng)每個(gè)光學(xué)窗口,再?gòu)臉悠妨鞒隹诹鞒鰳悠烦亍1緦@夹g(shù)的有益效果是作為一種應(yīng)用于吸收光譜氣體檢測(cè)技術(shù)的氣體吸收池,既實(shí)現(xiàn)了在一個(gè)較小的空間區(qū)域內(nèi)的有效光程延長(zhǎng),又可以實(shí)現(xiàn)氣體樣品的快速周轉(zhuǎn),可以有效提高對(duì)低濃度、連續(xù)變化氣體樣品的檢測(cè)靈敏度;同時(shí)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于攜帶。附圖說(shuō)明圖1為本專利技術(shù)實(shí)施例氣體吸收池的結(jié)構(gòu)示意圖,A是主視圖,B是左視圖,C是俯視圖,圖中1池體,2第一平面反射鏡,3第二平面反射鏡,4平面蓋板;圖2為本專利技術(shù)實(shí)施例氣體吸收池的池體內(nèi)部結(jié)構(gòu)及光傳輸路徑示意圖,圖中5池體上表面,6池體第一側(cè)壁,7池體第二側(cè)壁,8池體第三側(cè)壁,9池體第四側(cè)壁,10折線形溝道,11光入射孔,12光反射孔,13光出射孔,14光束,15進(jìn)氣孔,16出氣孔。具體實(shí)施例方式如圖1所示,本專利技術(shù)的氣體吸收池包括池體1、第一平面反射鏡2、第二平面反射鏡 3和平面蓋板4。所述的第一平面反射鏡2和第二平面反射鏡3分別緊貼池體1的兩個(gè)相互平行的平面?zhèn)缺诜胖茫矫嫔w板4覆蓋在池體1上。如圖2所示,本專利技術(shù)實(shí)施例氣體吸收池的池體1的池體上表面5為平面,池體第一側(cè)壁6、池體第二側(cè)壁7、池體第三側(cè)壁8和池體第四側(cè)壁9為平面且與池體上表面5垂直, 池體第一側(cè)壁6和池體第二側(cè)壁7互相平行,池體第三側(cè)壁8和池體第四側(cè)壁9與池體第二側(cè)壁7成5°角。在池體上表面5上刻畫(huà)有折線形溝道10,折線形溝道10的折線方向分別與池體第三側(cè)壁8和池體第四側(cè)壁9垂直。在池體第三側(cè)壁8上沿垂直于第三側(cè)壁8的方向上開(kāi)有一個(gè)光入射孔11,光入射孔11與折線形溝道10相通。在池體第一側(cè)壁6和池體第二側(cè)壁7上沿垂直于池體第一側(cè)壁6和池體第二側(cè)壁7方向開(kāi)有多個(gè)光反射孔12,與折線形溝道10相通。在池體第四側(cè)壁9上沿垂直于池體第四側(cè)壁9的方向開(kāi)有一個(gè)光出射孔13,光出射孔13與折線形溝道10相通。在池體第一側(cè)壁6和池體第二側(cè)壁7上通過(guò)外加壓力分別緊密結(jié)合有第一平面反射鏡2和第二平面反射鏡3的光反射面,在光反射孔 12的配合下在池體第一側(cè)壁6和池體第二側(cè)壁7上形成多個(gè)反射窗口。光入射孔11和光出射孔13由透光元件封閉。光束14沿垂直于池體第三側(cè)壁8方向經(jīng)光入射孔11入射至池體1內(nèi),沿折線形溝道10傳輸,在傳輸路徑中依次在每個(gè)光反射孔12中的反射窗口反射,最終由光出射孔13出射。平面蓋板4與池體上表面5形狀和大小相同,通過(guò)外加壓力和彈性元件,如0圈的配合下密封覆蓋折線形溝道10,封閉形成氣體吸收池的折線型氣室。 光入射孔11和光出射孔13附近的折線形溝道10內(nèi)沿垂直于池體上表面5的方向開(kāi)有進(jìn)氣孔15和出氣孔16。所檢測(cè)的氣體樣品從進(jìn)氣孔15進(jìn)入前述折線型氣室,并沿折線形溝道10流動(dòng),最后從出氣孔16流出折線形氣室。權(quán)利要求1.一種用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于,所述的氣體吸收池包括池體 (1)、第一平面反射鏡O)、第二平面反射鏡(3)和氣室,所述的氣室位于兩個(gè)平面反射鏡之間,以多次反射光傳輸路徑為主軸;池體(1)上覆蓋平面蓋板(4)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于所述的第一平面反射鏡( 和第二平面反射鏡( 分別緊貼池體(1)的兩個(gè)相互平行的平面?zhèn)缺诜胖谩?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于所述的池體 (1)的池體上表面( 為平面,池體第一側(cè)壁(6)、池體第二側(cè)壁(7)、池體第三側(cè)壁(8)和池體第四側(cè)壁(9)為平面且與池體上表面( 垂直,池體第一側(cè)壁(6)和池體第二側(cè)壁(7) 互相平行,池體第三側(cè)壁(8)和池體第四側(cè)壁(9)與池體第二側(cè)壁(7)成5°角;池體上表面(5)上刻畫(huà)有折線形溝道(10),折線形溝道(10)的折線方向分別與池體第三側(cè)壁(8)和池體第四側(cè)壁(9)垂直;在池體第三側(cè)壁(8)上沿垂直于池體第三側(cè)壁的方向開(kāi)有光入射孔(11),光入射孔(11)與折線形溝道(10)相通;在池體第一側(cè)壁(6)和池體第二側(cè)壁(7) 上沿垂直于池體第一側(cè)壁(6)和池體第二側(cè)壁(7)的方向開(kāi)有多個(gè)光反射孔(12),光反射孔(1 與折線形溝道(10)相通;在池體第四側(cè)壁(9)上沿垂直于池體第四側(cè)壁側(cè)壁(9) 的方向開(kāi)有光出射孔(13),光出射孔(1 與折線形溝道(10)相通;在池體第一側(cè)壁(6)和池體第二側(cè)壁(7)上分別緊密結(jié)合有第一平面反射鏡(2)和第二平面反射鏡(3)的光反射面,在光反射孔(1 的配合下在池體第一側(cè)壁(6)和池體第二側(cè)壁(7)上形成多個(gè)反射窗口 ;光入射孔(11)和光出射孔(1 由透光元件封閉;在光入射孔(11)和光出射孔(13)附近的折線形溝道(10)內(nèi),沿垂直于池體上表面(5)的方向開(kāi)有進(jìn)氣孔(15)和出氣孔(16)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于所述的平面蓋板(4)與池體上表面( 形狀和大小相同,覆蓋在池體(1)上密封折線形溝道(10)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于所述的氣體吸收池中,光束(14)沿垂直于池體第三側(cè)壁(8)的方向經(jīng)光入射孔(11)入射至本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    1.一種用于吸收光譜測(cè)定的氣體吸收池,其特征在于,所述的氣體吸收池包括池體(1)、第一平面反射鏡(2)、第二平面反射鏡(3)和氣室,所述的氣室位于兩個(gè)平面反射鏡之間,以多次反射光傳輸路徑為主軸;池體(1)上覆蓋平面蓋板(4)。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:閆存極鞠昱韓立殷伯華陳志琪謝亮
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:中國(guó)科學(xué)院電工研究所
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:11

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