光盤設備、其控制方法、程序以及信息記錄介質技術

本發明專利技術提供了能夠在從光盤介質中讀取信息的操作期間校正控制參數的值的光盤設備。在與關于預定控制參數設置的值相對應的工作條件下讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備，其中，裝置通過在正在進行從光盤介質中讀取信息的操作期間重復執行如下處理：關于預定控制參數的兩個值，分別獲取指示從光盤介質中讀取信息的精度的評估值，以及根據兩個所獲取評估值更新預定控制參數的值，以便校正控制參數的值。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及讀取記錄在諸如⑶、DVD、和藍光盤(注冊商標)的光盤介質上的信息的光盤設備、控制光盤設備的方法、程序以及信息存儲介質。
技術介紹
近年來，各種各樣的光盤介質被用作信息記錄介質。光盤設備用于讀取記錄在這樣光盤介質上的信息。光盤設備包括用光照射光盤介質以檢測來自光盤介質的反射光的光學拾取器。光盤設備控制關于光盤介質的表面相對地移動光學拾取器的驅動系統將光學拾取器移動到可以讀取信息的位置。這樣，光盤設備從光盤介質中讀取信息。當光盤設備控制諸如光學拾取器和驅動系統的各個部分從光盤介質中讀取信息時，設置與控制有關的各種控制參數。那些控制參數的一個示例是與物鏡的球面像差校正有關的參數(下文稱為SA參數)。例如，在光學拾取器內部，配備了準直透鏡，以便校正用于將光線聚焦在光盤介質上的物鏡的球面像差。然后，通過按照SA參數的設置值適當調整準直透鏡的位置，使物鏡的球面像差得到校正，結果是，可以高精度地將來自物鏡的光線聚焦在光盤介質上。如上所述，通過為諸如SA參數的控制設備設置適當值，并且在與設置值對應的工作條件下控制設備的各個部分，可以在從光盤介質中讀取信息的精度方面改進光盤設備。要為那些控制參數設置的值根據作為讀取目標的光盤介質的類型、獨特可變性等而改變。因此，當重新將光盤介質放置在設備內部時，光盤設備在開始讀取信息之前首先進行調整控制參數的處理(例如，參見專利文獻1)。尤其，這種調整處理牽涉到如下控制。也就是說，光盤設備首先在可指定范圍內改變控制參數的設置值，并且通過設置幾個設置值來嘗試從介質中讀取信息，從而評估相應信息讀取精度。然后，通過使用為多個設置值的每一個獲得的讀取精度的評估值，計算這樣可以提高信息讀取精度的控制參數的設置值(調整值)，并且將計算值設置成預定控制參數的值。現有技術文件專利文件專利文件JP 4001024B
技術實現思路
當重新將光盤介質放置在設備內部時，對控制參數的上述調整處理通常只進行一次。然而，在一些情況下，控制參數的所希望設置值在設備正在使用的時候發生變化。例如， 取決于物鏡的材料等，在正在使用光盤設備的同時，當溫度發生了變化時，物鏡的透鏡特性也發生變化。其結果是，SA參數的最佳設置值也發生變化。但是，對控制參數進行上述調整處理要花費一些時間。因此，如果在設備正在使用的同時執行這樣的調整處理，則可能使信息讀取操作中止。本專利技術就是在考慮了上述情況之后作出的，并且本專利技術的目的在于提供能夠在從光盤介質中讀取信息的操作期間校正控制參數的值的光盤設備，以及提供控制該光盤設備的方法、程序、和信息存儲介質。進一步，本專利技術的另一個目的在于提供能夠在設備正在使用的同時，在相對較短時間間隔內校正控制參數的設置值的光盤設備，以及提供控制該光盤設備的方法、程序、和信息存儲介質。按照本專利技術，提供了在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下，讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備，所述光盤設備包括校正部分，用于通過在正在進行從光盤介質中讀取信息的操作的同時重復執行如下處理，校正預定控制參數的值關于預定控制參數的兩個值，分別獲取指示從光盤介質中讀取信息的精度的評估值；以及根據兩個所獲取評估值更新預定控制參數的值。在上述光盤設備中，所述校正部分可以根據分別關于預定控制參數的兩個值獲取的兩個評估值之間的幅度關系，確定增大還是減小預定控制參數的值。在上述光盤設備中，所述校正部分可以關于控制參數的兩個值的每一個獲取多個評估值，并且基于比較為兩個值的每一個獲取的多個評估值的結果，更新預定控制參數的值。在上述光盤設備中，所述校正部分可以獲取根據通過從光盤介質中讀取信息的操作獲得的再現信號計算的值，作為評估值之一。按照本專利技術，還提供了控制在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下， 讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備的方法，所述方法包括通過在正在進行從光盤介質中讀取信息的操作的同時重復執行如下處理，校正預定控制參數的值關于預定控制參數的兩個值，分別獲取指示從光盤介質中讀取信息的精度的評估值；以及基于兩個所獲取評估值更新預定控制參數的值。按照本專利技術，還提供了其中存儲著控制在與關于預定控制參數設置的值相對應的工作條件下，讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備的程序的計算機可讀信息存儲介質，所述程序使計算機起校正部分的作用，所述校正部分用于通過在正在進行從光盤介質中讀取信息的操作的同時重復執行如下處理，校正預定控制參數的值關于預定控制參數的兩個值，分別獲取指示從光盤介質中讀取信息的精度的評估值；以及基于兩個所獲取評估值更新預定控制參數的值。按照本專利技術，還提供了在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下，讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備，所述光盤設備包括測量單元，用于測量所述光盤設備內部的溫度；第一校正部分，用于通過評估從光盤介質中讀取信息的精度，校正預定控制參數的值；第二校正部分，用于根據所述測量單元測量的溫度和預定常數值校正預定控制參數的值；以及校正控制部分，用于在開始從光盤介質中讀取信息之后的每個預定定時有選擇地使所述第一校正部分和所述第二校正部分的任意一個進行預定控制參數的值的校正。在上述光盤設備中，所述校正控制部分可以在與所述測量單元測量的溫度的變化相對應的每個定時使預定控制參數的值的校正被執行。進一步，在上述光盤設備中，所述校正控制部分可以在所述測量單元測量到預定溫度變化之后第一次滿足與讀取操作有關的預定條件的每個定時使得預定控制參數的值的校正被執行。在光盤設備中，所述校正控制部分可以在使所述第二校正部分進行預定次數校正之后使所述第一校正部分進行校正。按照本專利技術，還提供了控制在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下， 讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備的方法，所述光盤設備包括測量所述光盤設備內部的溫度的測量單元，所述方法包括在開始從光盤介質中讀取信息之后的每個預定定時通過第一校正處理和第二校正處理的任意一種有選擇地校正預定控制參數的值，所述第一校正處理包括通過評估從光盤介質中讀取信息的精度，校正預定控制參數的值，所述第二校正處理包括基于所述測量單元測量的溫度和預定常數值校正預定控制參數的值。按照本專利技術，還提供了其中存儲著控制在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下，讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備的程序的計算機可讀信息存儲介質， 所述光盤設備包括測量所述光盤設備內部的溫度的測量單元，所述程序使計算機起如下作用第一校正部分，用于通過評估從光盤介質中讀取信息的精度，校正預定控制參數的值； 第二校正部分，用于基于所述測量單元測量的溫度和預定常數值校正預定控制參數的值; 以及校正控制部分，用于在開始從光盤介質中讀取信息之后的每個預定定時有選擇地使所述第一校正部分和所述第二校正部分的任意一個執行預定控制參數的值的校正。附圖說明圖1是例示按照本專利技術實施例的光盤設備的配置示例的框圖；圖2是例示按照本專利技術實施例的光盤設備的光學拾取器的內部配置示例的示意圖；圖3是示出控制參數的設置值與評估值之間的關系的示例的曲線圖；圖4是例示按照本專利技術第一實施例的光盤設備的功能的示例的功能框圖；圖5是示出溫度變化與控制參數的設置值之間的關系的示例的曲線圖；圖6是例示按照本專利技術第二實施例的光盤設備執行的校正處理的流程的本文檔來自技高網...

【技術保護點】
１．一種在與關于預定控制參數設置的值對應的工作條件下，讀取記錄在光盤介質上的信息的光盤設備，所述光盤設備包括校正部分，用于通過在正在進行從光盤介質中讀取信息的操作的同時重復執行如下處理，校正預定控制參數的值：關于預定控制參數的兩個值，分別獲取指示從光盤介質中讀取信息的精度的評估值；以及基于兩個所獲取評估值更新預定控制參數的值。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：西形尚之，
申請(專利權)人：索尼計算機娛樂公司，
類型：發明
國別省市：JP