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    取代的氨基四氫化萘制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):7135081 閱讀:232 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及式(I)化合物及其藥用鹽和酯,其中R1-R4在詳細(xì)描述的說明書和權(quán)利要求書中定義。另外,本發(fā)明專利技術(shù)涉及制備和使用式I化合物以及含有這樣的化合物的藥物組合物的方法。式I化合物是CRTH2受體的拮抗劑并且可用于治療與該受體有關(guān)的疾病和病癥如哮喘。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】取代的氨基四氫化萘本專利技術(shù)涉及新的取代的(5-氨基-5,6,7,8-四氫-萘基氧基)-乙酸類,它們 的制備,含有它們的藥物組合物和它們作為CRTH2拮抗劑的用途。前列腺素D2(P⑶2)是由激活的肥大細(xì)胞產(chǎn)生的主要前列腺素類激素并且已經(jīng)牽 連于變應(yīng)性疾病如變應(yīng)性哮喘和特應(yīng)性皮炎的發(fā)病機(jī)理。在T-輔助(T-helper)型細(xì)胞 (CRTH2)上表達(dá)的化學(xué)引誘物受體-同源分子是前列腺素&受體中的一種并且在涉及變 應(yīng)性炎癥的效應(yīng)細(xì)胞如T輔助2型(Th2)細(xì)胞、嗜酸性粒細(xì)胞和嗜堿細(xì)胞上表達(dá)(Nagata 等,F(xiàn)EBS Lett 459 195-199,1999)。已經(jīng)顯示介導(dǎo)Th2細(xì)胞、嗜酸性粒細(xì)胞和嗜堿細(xì)胞的 PGD2-刺激的趨化性(Hirai 等,J Exp Med 193 :255-261,2001) 此外,CRTH2 介導(dǎo)嗜酸性 粒細(xì)胞的呼吸爆發(fā)和脫粒(Gervais 等,J Allergy Clin Immunol 108 :982_988,2001),誘 導(dǎo)Th2細(xì)胞中促炎細(xì)胞因子的生成(Xue等,J Immunol 175 :6531-6536),以及提高組胺由嗜 堿細(xì)胞的釋放(Yoshimura-Uchiyama 等,Clin Exp Allergy 34:1沘3_1四0)。編碼 CRTH2 的基因的序列變體,這些變體不同地影響其mRNA穩(wěn)定性,顯示出與哮喘有關(guān)(Huang等,Hum Mol Genet 13,269H697,2004)。表達(dá)CRTH2的循環(huán)T細(xì)胞的數(shù)量增加已經(jīng)與特應(yīng)性皮炎 的嚴(yán)重性相關(guān)聯(lián)(Cosmi 等,Eur J Immunol 30,2972-2979,2000) 這些發(fā)現(xiàn)表明,CRTH2 在變應(yīng)性疾病中起促炎作用。因此,CRTH2的拮抗劑被認(rèn)為可用于治療病癥如哮喘、變應(yīng)性 炎癥、COPD和特應(yīng)性皮炎。本專利技術(shù)涉及式I化合物權(quán)利要求1.式I化合物2.權(quán)利要求1的化合物,其中R3是氫。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的化合物,其中R3是甲基。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被兩個(gè)取代基取代的苯基,所 述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組(1)鹵素,和( 任選被鹵素取代的低級(jí)烷基。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被兩個(gè)取代基取代的苯基,所 述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組(1)氟;(2)氯;(3)溴;(4)低級(jí)烷基;(5)低級(jí)烷酰基;(6)低級(jí)烷硫基,低級(jí)烷基亞磺酰基或低級(jí)烷基磺酰基;(7)低級(jí)環(huán)烷硫基,低級(jí)環(huán)烷基亞磺酰基或低級(jí)環(huán)烷基磺酰基;(8)三氟甲基,二氟甲基或氟甲基;和(9)1,1-二氟乙基。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被兩個(gè)取代基取代的苯基,所 述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組(1)氟;(2)氯;(3)溴;(4)甲基;(5)乙基;(6)丙基或異丙基;(7)丁基,仲丁基或叔丁基;(8)三氟甲基,二氟甲基或氟甲基;和(9)1,1-二氟乙基。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被兩個(gè)取代基取代的苯基,所 述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組(1)氟;(2)氯;(3)溴;和(4)三氟甲基。8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被一個(gè)取代基取代的吡啶,所 述取代基選自由以下組成的組(1)鹵素;(2)任選被鹵素取代的低級(jí)烷基;和(3)苯基或吡啶,其中所述的苯基或吡啶任選被低級(jí)烷基取代。9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任何一項(xiàng)的化合物,其中R4是被苯基取代的吡啶,其中所述 的苯基任選被低級(jí)烷基取代。10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任何一項(xiàng)的化合物,其中R1是氫,氟,氯,溴,甲氧基或苯基, 并且R2是氧,氟,氯,甲基,乙基,丙基或異丙基;條件是R1和R2不同時(shí)是氫。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任何一項(xiàng)的化合物,其中R1是氫,氟,氯或溴,并且R2是氧, 氟,氯,或甲基,乙基或異丙基;條件是R1和R2不同時(shí)是氫。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任何一項(xiàng)的化合物,其中R1或R2中的至少一個(gè)是氟,氯或溴。13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任何一項(xiàng)的化合物,其中R1是氟或氯。14.權(quán)利要求1的化合物,其中R4是在苯環(huán)上的3位和5位被兩個(gè)取代基取代的苯基, 其中所述位置在下面式IC中顯示,所述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組(1)鹵素,(2) 任選被鹵素取代的低級(jí)烷基,⑶低級(jí)烷酰基;(4)低級(jí)烷氧基;(5)低級(jí)烷硫基,低級(jí)烷基 亞磺酰基或低級(jí)烷基磺酰基和(6)低級(jí)環(huán)烷硫基,低級(jí)環(huán)烷基亞磺酰基或低級(jí)環(huán)烷基磺酰 基15.權(quán)利要求14的化合物,其中R1是氟或氯;R2是氫或氟;R3是氫;并且所述苯環(huán)在如 式IC中所示的3位和5位被取代,其中取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組氟,溴或三氟甲基。16.權(quán)利要求14的化合物,其中R1是氟或氯;R2是氫或氟;R3是氫;并且所述苯環(huán)在3 位和5位被三氟甲基取代。17.權(quán)利要求1的化合物,其是如式IA中所畫的00-對(duì)映體18.權(quán)利要求1的化合物,其選自由以下化合物組成的組-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;5-(3,5-雙三氟甲基-苯磺酰基氨基)-3-氯-2-氟-5,6,7,8-四氫-萘基氧 基]-乙酸;-乙酸;-乙酸; 5- (3,5-雙三氟甲基-苯磺酰基氨基)_2,3- 二氯-5,6,7,8-四氫-萘基氧基]-乙酸;-乙酸; -乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸; -乙酸;-乙酸;-乙酸;和-乙酸。19.權(quán)利要求1的化合物,其選自由以下化合物組成的組-乙酸;-乙-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;5-(3-溴-5-三氟甲基-苯磺酰基氨基)-2,3_ 二氟-5,6,7,8-四氫-萘基氧 基]-乙酸;-乙酸; -乙酸; -乙酸; -乙酸; {2,3- 二氟-5--5,6,7,8_四 氫-萘-1-基氧基}_乙酸;{3-氟-5-_5,6,7,8-四氫-萘-1-基 氧基}-乙酸;{3-氯-5-_5,6,7,8-四氫-萘-1-基氧基}-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸;-乙酸; {3-氯-2-氟-5--5,6,7,8_四 氫-萘-1-基氧基}_乙酸;-乙酸; -乙酸; {2-氟-5-_5,6,7,8-四氫-萘-1-基 氧基}-乙酸;-乙酸; -乙酸;和-乙酸。20.權(quán)利要求1的化合物,其選自由以下化合物組成的組-乙酸;{5---2-甲基-5,6,7,丨四氫-萘-1--基氧基}_乙酸;{5---2-乙基-5,6,7」四氫-萘-1--基氧基}_乙酸;{5---3-氯_5,6,7,8-四氫-萘-1-基氧基}_乙酸;{(R)-5--3-氯-5,6,7,8-四 氫-萘-1-基氧基}_乙酸;{3-氯-5--5,6,7,8-四氫-萘-1-基氧基}-乙酸;{5---2,3-二 氯-5,6,7,8-四氫-萘-1-基氧基}-乙酸;{5---3-氯-2--甲基-5,6,7,8-四氫-萘-1-基氧基}-乙酸;{3--氯-5--2-氟-5,6,7’,8-四氫-萘-1-基氧基}_乙酸;{3--氯-5-K2,5-二氯-苯磺酰基)-甲基-氨基]-5,6,7,8-四氫-萘-ι-基氧基}-乙Bc ; {3--氯-5--2-氟-5,6,7’,8-四氫-萘-1-基氧基}_乙酸;{5---3-本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    式Ⅰ化合物:  *** Ⅰ  或其藥用鹽或酯,其中:  R↑[1]是氫,鹵素,甲氧基或苯基;并且R↑[2]是氫,氟,氯或烷基;條件是R↑[1]和R↑[2]不同時(shí)是氫;  R↑[3]是氫或甲基;并且  R↑[4]是苯基或吡啶,其被一個(gè)或兩個(gè)取代基取代,所述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組:  (1)鹵素;  (2)任選被鹵素取代的低級(jí)烷基,  (3)低級(jí)烷酰基;  (4)低級(jí)烷氧基;  (5)低級(jí)烷硫基,低級(jí)烷基亞磺酰基或低級(jí)烷基磺酰基;  (6)低級(jí)環(huán)烷硫基,低級(jí)環(huán)烷基亞磺酰基或低級(jí)環(huán)烷基磺酰基;和  (7)苯基或吡啶,其中所述的苯基或吡啶任選被低級(jí)烷基,低級(jí)烷硫基,低級(jí)烷基磺酰基,低級(jí)環(huán)烷硫基或低級(jí)環(huán)烷基磺酰基取代。

    【技術(shù)特征摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:費(fèi)利伯茲·菲羅厄茲尼亞
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:霍夫曼拉羅奇有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:CH

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