一種流量測定裝置，在具有主流路（４３）的主流管（４２）的外側形成副流路。在主流路（４３）內具備將氣體的流動節(jié)流的節(jié)流孔（４９）。副流路由與節(jié)流孔（４９）的上游側連通的一對導入流路（５６）、兩端與導入流路（５６）的下游側的端部連接的第二副流路（５９）、與節(jié)流孔（４９）的下游側連通的一對排出流路（５７）、兩端與排出流路（５７）的上游側的端部連接的第二副流路（６０）、兩端與第二副流路（５９）的中央和第二副流路６０的中央連接且配置有流量檢測元件（４７）的檢測流路（６１）構成。檢測流路（６１）上游側的端部位于比第二副流路（５９）的兩端更靠主流路（４３）的上游側，檢測流路（６１）的下游側的端部位于比第二副流路（６０）的兩端更靠主流路（４３）的下游側。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及用于測定氣體的流量的流量測定裝置，涉及例如用于面向睡眠時無呼 吸癥候群的治療器等醫(yī)療設備、監(jiān)視工廠中的空氣流量的工業(yè)設備、設備組裝用途等的流 量測定裝置。
技術介紹
通常，在流量測定裝置中直接測定大流量的直管型流量測定裝置中，為了使流速 降低至流量檢測元件的可測定區(qū)域，需要增大配管的直徑，裝置的小型化有限。于是，通常 為了使大流量測定用的流量測定裝置小型化，提案有旁通流路構造的流量測定裝置。在旁 通流路構造的流量測定裝置中，構成為如下的方式，即，使副流路從主流路分支，通過流量 檢測元件測定向副流路流動的氣體的流速，根據主流路與副流路的分流比和副流路中的流 速來求出總流量。但是，在這樣的旁通流路構造的流量測定裝置中，因副流路的存在而使主流路內 的垂直截面中的流速分布容易不均勻，當主流路內的流速分布不均勻時，向副流路的分流 比不穩(wěn)定，因此，難以求出正確的總流量。(專利文獻1)作為改善這種流速分布的不均勻性帶來的測定精度降低的旁通流路構造的流量 測定裝置，具有圖1 (參照專利文獻1參照)所示的結構。該流量測定裝置11中，在主流路 13內設有節(jié)流孔(未圖示)，跨過具有主流路13的主流管12的外周面而在主流管12之上 設有副流路14。副流路14具有如下的構造。在主流路13的內壁，在比節(jié)流孔更上游側，在左右兩 側設有導入口 15，在比節(jié)流孔更下游側，在左右兩側設有排出口 16。而且，利用第一副流路 19使從導入口 15向上方延伸的導入流路17 (導入縱槽)的上端部和從排出口 16向上方延 伸的排出流路18(排出縱槽)的上端部連接并連通。另外，將左右的導入流路17的上端間 用第二副流路20連接并連通，將左右的排出流路18的上端間用另一第二副流路21連接并 連通，進而將兩第二副流路20、21的中央部彼此用水平的檢測流路22連接并連通。在檢測 流路22內設有用于測定氣體的流速的流量檢測元件(未圖示)。然后，當氣體通過該流量測定裝置11的主流路13內時，氣體的一部分從導入口 15 流入副流路14，通過圖1中箭頭所示的路徑從排出口 16返回主流路13內，再次在主流路 13內流動。此時，流入到導入流路17內的氣體向第一副流路19和第二副流路20分支而流 動，由此，一部分氣體在第二副流路20流動。而且，從左右流入到第二副流路20的氣體一 同在檢測流路22流動，測定通過檢測流路22的氣體的流速，根據主流路13和檢測流路22 的分流比和檢測流路22中的流速來求出總流量。(專利文獻2)同樣地，在專利文獻2公開的流量測定裝置中，在主流路內配置節(jié)流孔，在節(jié)流孔 的上游側和下游側分別使構成副流路的四條導入流路和四條排出流路從主流路分支，將從各導入流路導入的氣體向一條檢測流路匯集，使流速分布的偏置平均化，在此基礎上通過 流量檢測元件測定氣體的流速。專利文獻1 日本特許第3870969號公報(圖15)專利文獻2 美國特許第5，279，155號說明書流量測定裝置不僅用于如城市煤氣用的煤氣表那樣地乾燥氣體的流量測定用，也 還在結露水容易發(fā)生的環(huán)境下使用，或者與貯存液體的設備等一同使用。作為其一例，具有用于睡眠時無呼吸癥候群的檢查及治療的面向睡眠時無呼吸癥 候群的治療器(Continuous Positive Airway Pressure) 0該治療器通過泵或風扇電機等 動力源送出空氣來確保患者的呼吸，為了監(jiān)視根據患者的呼吸狀態(tài)的變化而變動的氣體流 量而使用流量測定裝置。該治療器中，在具備流量測定裝置的流路中連接加濕器，將包含由 加濕器產生的水蒸氣的氣體通過軟管送向患者佩戴的面罩。在這種設備中，必須測定大流量的氣體，并且尋求小型化，進而由于使用功率小的 動力源，所以要求流路為低壓力損失，因此，作為流量測定裝置使用旁通流路構造的流量測定裝置。但是，在這種用途中，在流量測定裝置的內部結露的結露水會流入具備流量檢測 元件的檢測流路內，或者加濕器的水會流入檢測路內。流量檢測元件為了測定氣體的流速而在檢測流路內露出，因此，當流入檢測流路 內的水附著于流量檢測元件時，可能發(fā)生流量檢測元件的測定精度降低，或者元件自身劣 化的情況。另外，即使水不附著于流量檢測元件，當浸入檢測流路內的水殘留于此時，由于 檢測流路的截面積發(fā)生變化，所以通過檢測流路的氣體的流速也會變大，另外，由于主流路 與檢測流路的分流比發(fā)生變化，所以存在使流量測定裝置的測定精度降低的問題。在現有的流量測定裝置中，針對這種問題的對策不充分。在專利文獻1所記載的 流量測定裝置11中，如圖1所示，由于水平配置的第二副流路20或21和檢測流路22在水 平面內垂直相交，所以水一旦流入第二副流路20或21，更容易浸入檢測流路22。另外，在 搬動組裝有流量測定裝置11的設備時等，當設備橫向轉動而流量測定裝置11變?yōu)闄M向時， 如圖2所示，第二副流路20或21朝向豎直方向，因此，如圖2中箭頭所示，水從上向下通過 第二副流路20或21，此時水浸入檢測流路22的可能性變高。在專利文獻2所記載的流量測定裝置中，檢測流路相對于導入流路或排出流路垂 直地形成，因此，水一旦流入導入流路或排出流路，則水更容易浸入檢測流路。另外，與流量 測定裝置11的情況相同(參照圖2)，在水從上向下通過成為縱向的導入流路或排出流路 時，水浸入檢測流路的可能性變高。另外，在專利文獻2的流量測定裝置中，由于導入流路 及排出流路相對于主流路的中心全方位地配置，所以因重力帶來的水的排出性差，水一旦 浸入導入流路及排出流路、檢測流路，則不容易排出。如上所述，旁通流路構造的流量測定裝置在氣體與液體及水蒸氣接觸的狀態(tài)下使 用，或者在主流路與貯存液體的部位連通的狀態(tài)下使用，當因不測的事態(tài)而使液體流入流 量測定裝置的檢測流路時，對流量測定裝置的特性帶來影響。因此，期望雖然氣體可通過檢 測流路，但液體難以浸入檢測流路的構造的流量測定裝置。
技術實現思路
本專利技術是鑒于這種技術課題而作出的，其目的在于提供一種采用了旁通流路構造 的大流量測定用的流量測定裝置，液體難以附著于流量檢測元件，且液體難以浸入設有流 量檢測元件的檢測流路，并且難以殘留于其中的構造。為了實現這種目的，本專利技術的流量測定裝置，其特征在于，包括主流管，其具有流 動有氣體的主流路；節(jié)流孔，其在所述主流路內將氣體的流動節(jié)流；副流路塊，其設有副流 路，該副流路的一端在所述節(jié)流孔的上游側與開設于所述主流路內的一對導入口連通，另 一端在所述節(jié)流孔的下游側與開設于所述主流路內的一對排出口連通，所述副流路具備 一對導入流路，其上游側的端部與所述各導入口連通；上游側副流路，其兩端分別與所述各 導入流路的下游側的端部連接；一對排出流路，其下游側的端部與所述各排出口連通；下 游側副流路，其兩端分別與所述各排出流路的上游側的端部連接；檢測流路，其上游側的端 部與所述上游側副流路連接，下游側的端部與所述下游側副流路連接，并且配置有流量檢 測元件，所述檢測流路的上游側的端部位于比所述上游側副流路的兩端更靠主流路的上游 側，所述檢測流路的下游側的端部位于比所述下游側副流路的兩端更靠主流路的下游側。根據本專利技術的流量測定裝置，由于檢測流路的上游側的端部位于比上游側副流路 的兩端更靠主流路的上游側，且檢測流路的下游本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．一種流量測定裝置，其特征在于，包括：主流管，其具有流動有氣體的主流路；節(jié)流孔，其在所述主流路內將氣體的流動節(jié)流；副流路塊，其設有副流路，該副流路的一端在所述節(jié)流孔的上游側與開設于所述主流路內的一對導入口連通，另一端在所述節(jié)流孔的下游側與開設于所述主流路內的一對排出口連通，所述副流路具備：一對導入流路，其上游側的端部與所述各導入口連通；上游側副流路，其兩端分別與所述各導入流路的下游側的端部連接；一對排出流路，其下游側的端部與所述各排出口連通；下游側副流路，其兩端分別與所述各排出流路的上游側的端部連接；檢測流路，其上游側的端部與所述上游側副流路連接，下游側的端部與所述下游側副流路連接，并且配置有流量檢測元件，所述檢測流路的上游側的端部位于比所述上游側副流路的兩端更靠主流路的上游側，所述檢測流路的下游側的端部位于比所述下游側副流路的兩端更靠主流路的下游側。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：上田直亞，
申請(專利權)人：歐姆龍株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：JP
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