用于將樣品從溶液中結(jié)晶的反應(yīng)容器制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種用于將樣品從溶液中結(jié)晶的反應(yīng)容器，以及該反應(yīng)容器的蓋箔，以及安裝該蓋箔的設(shè)備。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種用于將樣品從溶液中結(jié)晶的反應(yīng)容器，以及該反應(yīng)容器的蓋箔， 以及安裝該蓋箔的設(shè)備。
技術(shù)介紹
生物大分子如蛋白質(zhì)和核酸的晶體的制備對(duì)于這些分子的構(gòu)造解釋是關(guān)鍵的影 響因素。一種重要的結(jié)晶方法是基于蒸汽擴(kuò)散法。在該方法中，將溶解在結(jié)晶溶劑中的少 量大分子樣品與另一部分溶劑一起封裝在反應(yīng)容器中。溶解在結(jié)晶溶劑中的樣品與儲(chǔ)庫中 溶劑之間發(fā)生蒸汽擴(kuò)散，使樣品溶液過飽和和樣品結(jié)晶。因?yàn)榇蠓肿拥木w生長(zhǎng)取決于不同參數(shù)，所以常常需要盡可能多地平行進(jìn)行數(shù)次 結(jié)晶生長(zhǎng)試驗(yàn)，以測(cè)試出合適的參數(shù)。該操作通常在微量滴定板或微孔板上進(jìn)行。這些裝 置在用于結(jié)晶時(shí)，也稱為結(jié)晶板。這類微量滴定板或結(jié)晶板在現(xiàn)有技術(shù)中是已知的。例如，可以用蓋子或箔封閉微 量滴定板的各反應(yīng)室，從而形成封閉的氣室，具體取決于所述板的設(shè)計(jì)。在現(xiàn)有技術(shù)中，用于大分子結(jié)晶的不同備選微量滴定板是已知的。例如，文獻(xiàn)EP 1 397 201 Al揭示了一種反應(yīng)容器，用于制造具有數(shù)個(gè)反應(yīng)室的樣品，其中各反應(yīng)室具有儲(chǔ) 庫和數(shù)個(gè)反應(yīng)區(qū)域。這些反應(yīng)容器的缺點(diǎn)是各反應(yīng)室不能密封，因此不是氣密的，不能制成獨(dú)立的密 封的氣室。尤其是，在具有多個(gè)反應(yīng)室和相應(yīng)的小體積的結(jié)晶板中，溶劑從反應(yīng)容器中蒸發(fā) 常常是不利的事件。當(dāng)使用箔遮蓋這類反應(yīng)容器時(shí)，通常將在相應(yīng)反應(yīng)室上方的箔切開，以從反應(yīng)容 器中移出形成的晶體。該方法的缺點(diǎn)是，在這種切開操作的過程中，周圍反應(yīng)室的遮蓋物常 常也被破壞，以致于這些結(jié)晶試驗(yàn)不再密封，不是氣密的，因此也不能使用。因此，本專利技術(shù)的目的是提供一種手段，該手段克服了至少一個(gè)上述現(xiàn)有技術(shù)的缺 點(diǎn)。具體而言，本專利技術(shù)的目的是提供一種手段，該手段可以使反應(yīng)容器具有更好的密封能 力。通過本專利技術(shù)的權(quán)利要求1所述的反應(yīng)容器實(shí)現(xiàn)該目的。如該權(quán)利要求所述，提供 一種用于將樣品從溶液中結(jié)晶的反應(yīng)容器，該反應(yīng)容器包括數(shù)個(gè)反應(yīng)室，其中各反應(yīng)室具 有儲(chǔ)庫和至少一個(gè)結(jié)晶空間，其中第一反應(yīng)室的第一側(cè)壁通過連接間隔物隔開一段間隔物 距離與第二反應(yīng)室的第二側(cè)壁連接，所述連接間隔物設(shè)置在與反應(yīng)容器的側(cè)周表面共享的 平面上，該平面形成反應(yīng)容器的平坦表面。令人驚奇的是，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)本專利技術(shù)的反應(yīng)容器可提供對(duì)反應(yīng)容器的各反應(yīng)室改進(jìn)的O有利的是，在反應(yīng)室之間形成連接間隔物，其中第一反應(yīng)室的第一側(cè)壁通過連接 間隔物隔開一段距離與第二反應(yīng)室的第二側(cè)壁連接，所述連接間隔物與反應(yīng)容器的側(cè)周表 面形成平坦表面，由此可以制備較寬的間隔物。尤其是，這樣可以使相鄰的反應(yīng)容器不具有4任何共享的容器壁，相鄰的反應(yīng)室可以被較寬的間隔物互相隔開一段距離。有利的是，較寬 的間隔物可以加寬粘合劑蓋箔或施加粘合劑的粘合區(qū)域。因此，反應(yīng)室的密封能力明顯提尚ο普通反應(yīng)室之間的中間間隔物一般較薄，僅僅具有極小的箔粘合表面，與此相比， 上述反應(yīng)室特別有利。更有利的是，連接間隔物與反應(yīng)容器的側(cè)周表面一起形成平坦表面，使得各反應(yīng) 室的密封能力(尤其是被蓋箔遮蓋的密封能力)進(jìn)一步提高。因此，依據(jù)本專利技術(shù)可以避免 表面的不平坦區(qū)域，例如由于較窄的中間網(wǎng)從邊緣區(qū)域的表面延伸出去，或者位于該表面 以下所造成的表面的不平坦區(qū)域，從而進(jìn)一步提高了反應(yīng)室的密封能力。還特別有利的是，較寬的粘合區(qū)域可以完全或幾乎完全防止各個(gè)反應(yīng)室中溶液的 蒸發(fā)。這一點(diǎn)對(duì)于具有多個(gè)反應(yīng)室(例如所謂的96孔板)和相應(yīng)的小體積溶液的結(jié)晶板 特別有利。在例如通過蓋箔封閉各反應(yīng)室后，各反應(yīng)室形成獨(dú)立的氣室，在該氣室中，溶解在 溶劑中的樣品與反應(yīng)室儲(chǔ)庫中的另一部分溶劑一起被封閉在結(jié)晶空間上或結(jié)晶空間中。減 少甚至阻止溶劑從反應(yīng)室中蒸發(fā)可以防止用于結(jié)晶的溶液的濃度由于溶劑的蒸發(fā)而發(fā)生 變化，尤其是對(duì)于小體積溶劑而言。相應(yīng)地，對(duì)于結(jié)晶生長(zhǎng)試驗(yàn)的評(píng)價(jià)，可以明顯更好地評(píng) 估結(jié)晶所需的晶體濃度。這一點(diǎn)對(duì)于頻繁使用的揮發(fā)性溶劑如醇和酸而言是特別有利的。依據(jù)反應(yīng)容器的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，連接間隔物的寬度在> 1. 5毫米至< 5毫米 的范圍內(nèi)，特別是在>2毫米至<4毫米的范圍內(nèi)，優(yōu)選在>2. 5毫米至<3毫米的范圍內(nèi)， 更優(yōu)選在彡2. 7毫米至< 2. 8毫米的范圍內(nèi)。除非另有說明，否則，本專利技術(shù)中以數(shù)值范圍說明的表面積、寬度、長(zhǎng)度或深度應(yīng)理 解為下限值表示最小值，而上限值表示最大值。有利的是，平坦表面和寬連接間隔物可以提供各反應(yīng)室周圍充分的表面區(qū)域，適 合用蓋箔牢固地密封各反應(yīng)室。在該方法中，可使用自密封蓋箔，或者可以在連接間隔物的 表面區(qū)域和反應(yīng)容器的邊緣區(qū)域設(shè)置粘合劑。具體而言，平坦表面和寬連接間隔物可以提 供各反應(yīng)室周圍充分的表面區(qū)域，適合將自粘合蓋箔牢固地粘附在反應(yīng)室周圍。依據(jù)本專利技術(shù)的反應(yīng)容器的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，連接間隔物具有凹槽。優(yōu)選將該凹 槽設(shè)置在相鄰反應(yīng)室的兩個(gè)側(cè)壁的上邊緣之間的連接間隔物的中央，即對(duì)稱地設(shè)置。但是， 也可以設(shè)想以非對(duì)稱的方式將凹槽設(shè)置在相鄰反應(yīng)室的兩個(gè)側(cè)壁的上邊緣之間。在此情況 中，一個(gè)反應(yīng)室側(cè)壁的上邊緣與凹槽的距離并不等于相鄰反應(yīng)室側(cè)壁的上邊緣與凹槽的距 離。較佳地，連接間隔物在中央具有凹槽。在本專利技術(shù)的上下文中，“凹槽”應(yīng)理解為縱向或溝槽型的深度，優(yōu)選為凹槽。凹槽的優(yōu)點(diǎn)是能提供限定的切割導(dǎo)向(defined cutting guid)。在成功結(jié)晶后，按照常規(guī)方式用解剖刀或其它切割工具將密封反應(yīng)室的箔部分或 完全地打開或切開，從而可以接觸到形成的晶體。連接間隔物中存在凹槽的特別優(yōu)點(diǎn)是，當(dāng) 沿著凹槽切開箔時(shí)，可以安全地除去指定反應(yīng)室上的箔表面。到目前為止，常常是通過沿著 分隔兩個(gè)相鄰反應(yīng)室的間隔物或沿著反應(yīng)室上側(cè)內(nèi)壁切箔來除去反應(yīng)室上的箔表面。由于 在切割操作中切割工具偶而滑移，常常造成周圍反應(yīng)室的破壞。但是，利用上述凹槽，切割 工具偶而的滑移以及由此造成的周圍反應(yīng)室的遮蓋物被切割工具破壞的情形得以預(yù)防，因此周圍的結(jié)晶生長(zhǎng)試驗(yàn)不會(huì)受到損害。最佳地，反應(yīng)容器沿著反應(yīng)室的外側(cè)具有一圈凹槽。但是，也可以設(shè)想該凹槽并不 完全圍繞反應(yīng)室，而是僅僅設(shè)置在反應(yīng)室的至少一側(cè)上，優(yōu)選設(shè)置在反應(yīng)室的兩個(gè)側(cè)面上， 更優(yōu)選設(shè)置在反應(yīng)室的三個(gè)側(cè)面上。較佳地，從反應(yīng)室的深度開始直到周圍的凹槽的間隔 物表面區(qū)域的寬度相當(dāng)于從反應(yīng)室的深度開始直到設(shè)置在連接間隔物中央的凹槽的連接 間隔物寬度。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，反應(yīng)室周圍具有寬度彼此相當(dāng)?shù)拈g隔物。較佳地，間隔 物的內(nèi)部區(qū)域被凹槽包圍。間隔物的區(qū)域被凹槽包圍的優(yōu)點(diǎn)是，可以沿著所述凹槽切開蓋箔的指定部分，可 以安全地將該箔件拉高到頂部取走。較佳地，間隔物的面積在> 24. 75毫米7反應(yīng)室至< 65毫米7反應(yīng)室的范圍內(nèi)， 優(yōu)選在> 32毫米7反應(yīng)室至< 56毫米7反應(yīng)室的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在> 38. 75毫米7反應(yīng) 室至< 45毫米7反應(yīng)室的范圍內(nèi)。術(shù)語“間隔物”表示連接間隔物，并且在外側(cè)反應(yīng)容器 的情況中，還表示利用反應(yīng)容器的邊緣區(qū)域形成在外側(cè)反應(yīng)容器側(cè)面上的間隔物。較佳地， 對(duì)于各反應(yīng)室的間隔物的表面區(qū)域限定了圍繞各反應(yīng)室的表面，該表面由沿著反應(yīng)室側(cè)面 的凹槽限定。而且，有利的是，連接間隔物的表面區(qū)域在凹槽的兩側(cè)上都提供充分的粘合區(qū)域， 這樣在除去反應(yīng)室上方的箔后，相鄰本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
１．一種用于將樣品從溶液中結(jié)晶的反應(yīng)容器（１），所述反應(yīng)容器（１）包括數(shù)個(gè)反應(yīng)室（２），其中各反應(yīng)室（２）具有儲(chǔ)庫（４）和至少一個(gè)結(jié)晶空間（６），其中第一反應(yīng)室（２）的第一側(cè)壁（８）通過連接間隔物（１２）隔開一段間隔物距離與第二反應(yīng)室（２）的第二側(cè)壁（１０）連接，所述連接間隔物（１２）設(shè)置在與反應(yīng)容器（１）的側(cè)周表面（１４）共享的平面上，該平面形成反應(yīng)容器（１）的平坦表面。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：J·庫比西克，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：恰根有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：DE