用于磁感應斷層成像的方法和系統技術方案

本發明專利技術涉及一種用于估計感興趣目標（１０１）的圖像重建中的偽像的方法和設備。本發明專利技術的設備包括：線圈裝置（１０５），其包括用于產生要施加到感興趣目標（１０１）的初級磁場的至少一個發射線圈（１０９，１０９’）以及用于測量由次級磁場感應的電信號的至少一個測量線圈（１１０，１１０’），所述次級磁場由感興趣目標響應于初級磁場而產生；運動感測構件（１１２，１１４，１１２’，１１４’；３１２，３１４，３１２’，３１４’），其用于感測感興趣目標（１０１）與線圈裝置（１０５）之間的相對運動并且在發生相對運動時產生觸發信號；以及處理器（１２５），其用于響應于觸發信號基于相對運動之前和之后測量的電信號而計算感興趣目標的電導率分布的變化，所述電導率分布的變化代表相對運動造成的偽像。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】
１．　一種用于估計感興趣目標（１０１）的圖像重建中的偽像的設備，所述設備包括：－　線圈裝置（１０５），其包括用于產生要施加到感興趣目標（１０１）的初級磁場的至少一個發射線圈（１０９，１０９’）以及用于測量由次級磁場感應的電信號的至少一個測量線圈（１１０，１１０’），所述次級磁場由感興趣目標響應于初級磁場而產生；－　運動感測構件（１１２，１１４，１１２’，１１４’；３１２，３１４，３１２’，３１４’），其用于感測感興趣目標（１０１）與線圈裝置（１０５）之間的相對運動并且在發生相對運動時產生觸發信號；以及－　處理器（１２５），其用于響應于觸發信號基于相對運動之前和之后測量的電信號而計算感興趣目標的電導率分布的變化，所述電導率分布的變化代表相對運動造成的偽像。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：H劉，
申請(專利權)人：皇家飛利浦電子股份有限公司，
類型：發明
國別省市：NL